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세라믹막(201)을 포함하는 침지막여과부(100)에서 생성된 처리수에 오존을 주입하는 방법으로서, (a) 상기 침지막여과부(100)에 원수가 유입되는 단계; (b) 상기 유입된 원수가 상기 세라믹막(201)에 의하여 막여과 처리됨으로써, 처리수와 슬러지가 생성되는 단계; (c) 상기 침지막여과부(100)의 후단에 위치한 흡입용 여과펌프(410)가 동작하여, 상기 (b) 단계에서 생성된 처리수가 처리수조(600)에서 집수되는 단계; (d) 상기 침지막여과부(100)의 다른 후단에 위치한 슬러지 유입펌프(190)가 동작하여, 상기 (b) 단계에서 생성된 슬러지가 다른 세라믹막(940)을 포함하는 슬러지 가압막여과부(900)에 슬러지가 유입되어 막여과 처리됨으로써, 가압막 처리수와 탈수용 슬러지가 생성되는 단계; (e) 상기 탈수용 슬러지가 탈수기(800)에 유입되어 탈수처리됨으로써 슬러지 탈수케익이 생성되는 단계; 및(f) 상기 (c) 단계에서 상기 처리수조(600)에 집수된 처리수가 UVA 램프부(990)로 유동하여 자외선으로 소독된 후 이 과정에서 발생한 오존과 함께 다시 상기 처리수조(600)로 순환하는 단계를 포함하며, 상기 (f) 단계 이후, (g) 상기 (f) 단계에서 발생한 오존이 상기 침지막여과부(100)에 주입되어 세정에 사용되는 단계를 더 포함하며, 상기 (a) 내지 (f) 단계는, 상기 침지막여과부(100)의 여과 공정 동안 수행되고, 상기 (g) 단계는, 상기 침지막여과부(100)의 세정 공정 동안 수행되며, 상기 (g) 단계 이후, 상기 (a) 단계로 회귀하며, 상기 여과 공정 동안, 상기 UVA 램프부(990)에 전력을 공급하는 전력 공급원(950)은 저전력으로 전력을 공급하고, 상기 세정 공정 동안, 상기 UVA 램프부(990)에 전력을 공급하는 전력 공급원(950)은 고전력으로 전력을 공급하는, 세라믹 막여과 공정에서의 오존 주입 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 (g) 단계는, 상기 UVA 램프부(990)에서 발생한 오존이 가스로 포집되어, 브로워(300)에 의해 생성되며 상기 세라믹막(201)의 스크러빙에 사용되는 공기에 주입되는 단계를 더 포함하는, 세라믹 막여과 공정에서의 오존 주입 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 (g) 단계는, 상기 UVA 램프부(990)에서 발생한 오존이, 상기 침지막여과부(100)에 구비된 스프링클러 배관(220)을 통해 유동하는 스프링클링용 세정수에 주입되는 단계를 포함하는, 세라믹 막여과 공정에서의 오존 주입 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 (g) 단계는, 상기 UVA 램프부(990)에서 발생한 오존이, 상기 침지막여과부(100)에 구비된 처리수 배출구(210)을 통해 유동하는 역세수에 주입되는 단계를 포함하는, 세라믹 막여과 공정에서의 오존 주입 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 UVA 램프부(990)에 전력을 공급하는 전력 공급원(950)이 공급하는 전력은 상기 처리수조(600)에서 집수된 처리수의 수질에 반비례하여 제어되는, 세라믹 막여과 공정에서의 오존 주입 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 UVA 램프부(990)에 전력을 공급하는 전력 공급원(950)이 공급하는 전력은 상기 침지막여과부(100)에 유입되는 원수의 수질에 반비례하여 제어되는, 세라믹 막여과 공정에서의 오존 주입 방법
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