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전이금속 산화물 나노입자의 적어도 일부 표면이 개재물로 치환(substitution)되어, 상기 전이금속 산화물 나노입자의 전이금속과 산소 사이의 거리가 제어되는, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제1항에 있어서,상기 전이금속은 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu) 중 어느 하나인, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제1항에 있어서,상기 전이금속의 d-오비탈은 촉매 반응 중 저스핀(low-spin) 상태에서 안정화된, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제3항에 있어서,상기 저스핀 상태는 S=1/2인, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제3항에 있어서,상기 전이금속과 상기 산소의 결합이 단일 결합(single bonding)에서 이중 결합(double bonding)으로 변하면서, 상기 전이금속 산화물 나노입자 구조의 뒤틀림(distortion)을 형성하는, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제5항에 있어서,상기 전이금속과 상기 산소가 이중 결합을 이루면서 z축 방향으로 압축이 발생하는, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제1항에 있어서,상기 개재물은 금속 나노입자인, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제7항에 있어서,상기 금속 나노입자는, 이리듐(Ir), 코발트(Co), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 크롬(Cr), 루테늄(Ru), 금(Au), 백금(Pt), 팔라듐(Pd) 및 로듐(Rh) 중 적어도 하나를 포함하는, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제1항에 있어서,상기 개재물은 리간드인, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제9항에 있어서,상기 리간드는, EDTA(Ethylene Diamine Tetra Acetic acid), ferrocene, ferrocene 유도체, pyridine, pyridine 유도체, imidazole 중 어느 하나인, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제3항에 있어서,상기 전이금속 산화물의 표면에 4가의 망간(Mn)이 위치하고, 망간 원자와 산소 원자가 이중 결합을 이루면서 상기 망간 원자가 저스핀 상태를 나타내는, d-오비탈 매니폴드 촉매
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제11항에 있어서,상기 망간 원자와 상기 산소 원자의 결합 거리가 2
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(a) 기판 상에 M1(OH)x 막(metal hydroxide layer)을 형성하는 단계;(b) 상기 M1(OH)x 막 상에 전이금속 산화물 나노입자를 코팅하는 단계; 및(c) 상기 M1(OH)x 막 및 상기 전이금속 산화물 나노입자를 열처리 하는 단계를 포함하고,상기 M1은 이리듐(Ir), 코발트(Co), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 크롬(Cr), 루테늄(Ru), 금(Au), 백금(Pt), 팔라듐(Pd) 및 로듐(Rh) 중 적어도 하나를 포함하고,상기 전이금속 산화물은 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu) 중 어느 하나의 산화물인, 촉매 제조 방법
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제13항에 있어서,상기 (c) 단계에서, 열처리 온도는 300℃ 내지 500℃이고, 열처리 시간은 30분 내지 12시간인, 촉매 제조 방법
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