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내부에 플라즈마 발생 공간이 제공되며, 상기 플라즈마 발생 공간을 에워싸는 내벽이 제1영역과, 상기 제1영역과 전기적으로 절연된 제2영역을 갖는 반응기; 및상기 제1영역 및 상기 제2영역과 전기적으로 연결되며, 상기 제1영역과 상기 제2영역에 전압 신호를 인가하고 그에 대한 응답 전류 신호를 측정하여 상기 제1영역 및 상기 제2영역과 접촉되는 플라즈마의 상태를 계측하는 플라즈마 계측부를 포함하는 플라즈마 측정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 계측부는,상기 전압 신호를 발생하는 신호 발생기;상기 신호 발생기와 상기 제1영역을 연결하는 제1배선;상기 제2영역과 상기 신호 발생기를 연결하는 제2배선;상기 제1배선과 상기 제2배선에 흐르는 상기 응답 전류 신호를 측정하는 신호 측정부; 및상기 신호 측정부에 측정된 상기 응답 전류 신호로부터 상기 제1영역과 접촉하는 플라즈마의 밀도와 전자온도를 산출하고, 상기 제2영역과 접촉하는 플라즈마의 밀도와 전자온도를 산출하는 데이터 연산부를 포함하는 플라즈마 측정 장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 제1영역과 상기 제2영역은 금속 재질인 플라즈마 측정 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제1영역과 상기 제2영역 각각은,전면이 상기 플라즈마 발생 공간에 노출되는 유전체 재질의 윈도우;상기 윈도우의 후면과 결합하며, 상기 제1배선 또는 상기 제2배선과 연결되는 금속 재질의 전류수집판을 포함하는 플라즈마 측정 장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 반응기의 내벽에는 상기 제1영역과 상기 제2영역을 상기 반응기의 내벽의 다른 영역으로부터 절연시키는 유전체 재질의 절연 링이 제공되는 플라즈마 측정 장치
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6 |
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 반응기는 상부벽, 측벽, 그리고 하부벽이 서로 조합하여 상기 플라즈마 발생 공간을 형성하며,상기 제1영역은 상기 하부벽에 위치하고, 상기 제2영역은 상기 측벽에 위치하는 플라즈마 측정 장치
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7 |
7
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 반응기는 상부벽, 측벽, 그리고 하부벽이 서로 조합하여 상기 플라즈마 발생 공간을 형성하며,상기 제1영역은 상기 하부벽에 위치하고, 상기 제2영역은 상기 상부벽에 위치하는 플라즈마 측정 장치
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