1 |
1
유전체 공진기;상기 유전체 공진기에 배치되어, 공진 모드를 각각 여기하는 복수의 여기 소자;전원을 공급하는 급전 장치; 및상기 급전 장치에서 상기 여기 소자에 이르는 급전 경로를 제어하여 상기 복수의 여기 소자 중 적어도 하나의 여기 소자에 급전하도록 제어하는 스위치를 포함하되,상기 유전체 공진기는 급전을 받아 3차원 공간에서 대칭 구조의 공진 모드를 생성하고,상기 적어도 하나의 여기 소자의 개수 및 배치 위치에 따라 상기 유전체 공진기는 서로 다른 패턴의 빔을 방사하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 복수의 여기 소자는 상기 유전체 공진기의 표면에서 서로 다른 위치에서 접촉하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 스위치는 상기 복수의 여기 소자 중 어느 하나의 소자, 일부 복수의 소자 또는 전체 소자에 급전하도록 제어하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 스위치에 상기 급전 경로의 제어를 위한 명령을 전달하는 제어 장치를 더 포함하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
6 |
6
삭제
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 패턴은 빔의 방향, 빔의 세기 및 빔이 커버하는 영역 중 적어도 하나가 상이한 빔 패턴인 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
8 |
8
유전체 공진기;상기 유전체 공진기에 접촉 배치되어, 공진 모드를 각각 여기하는 복수의 여기 소자;상기 복수의 여기 소자 중 적어도 하나에 전원을 공급하되, 상기 복수의 여기 소자에 이르는 급전 경로를 제어가능한 급전 장치; 및 상기 복수의 여기 소자 중 어느 하나의 소자, 일부 복수의 소자 또는 전체 소자에 급전을 하도록 상기 급전 장치를 제어하는 제어 장치를 포함하되,상기 유전체 공진기는 급전을 받아 3차원 공간에서 대칭 구조의 공진 모드를 생성하고,상기 복수의 여기 소자 중 급전되는 소자의 개수 및 배치 위치에 따라 상기 유전체 공진기는 서로 다른 팬턴의 빔을 방사하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
9 |
9
제8항에 있어서,상기 급전 장치는전원 공급부에서 상기 여기 소자에 이르는 급전 경로를 제어하여 상기 복수의 여기 소자 중 적어도 하나에 급전하도록 제어하는 스위치를 포함하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
10 |
10
삭제
|
11 |
11
제8항에 있어서,상기 제어 장치는여기 소자의 위치 또는 식별자를 포함하는 정보들을 저장하는 메모리를 더 포함하고, 상기 정보들 중 제어 명령에 포함된 패턴 정보에 매칭되는 정보를 선택하여 상기 복수의 여기 소자 중 특정한 여기 소자에 급전 되도록 제어하되, 상기 패턴 정보는 빔 패턴에 대한 정보 또는 급전 대상인 여기 소자에 대한 정보를 포함하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
12 |
12
제8항에 있어서,상기 제어 장치는 제어 명령에 따라 상기 복수의 여기 소자 중 급전 대상을 결정하여, 상기 급전 장치가 상기 급전 대상인 여기 소자에 전원을 공급하도록 제어하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
13 |
13
삭제
|
14 |
14
제8항에 있어서,상기 패턴은 빔의 방향, 빔의 세기 및 빔이 커버하는 영역 중 적어도 하나가 상이한 빔 패턴인 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
15 |
15
유전체 공진기;상기 유전체 공진기에 접촉 배치되어, 공진 모드를 각각 여기하는 복수의 여기 소자;복수의 여기 소자에 각각 전원을 공급하는 복수의 급전 장치; 및상기 복수의 급전 장치에 전달되는 신호를 제어하여 상기 복수의 여기 소자 중 적어도 하나의 여기 소자에 급전하도록 제어하는 스위치를 포함하되,상기 유전체 공진기는 급전을 받아 3차원 공간에서 대칭 구조의 공진 모드를 생성하고,상기 복수의 여기 소자 중 급전되는 소자의 개수 및 배치 위치에 따라 상기 유전체 공진기는 서로 다른 팬턴의 빔을 방사하는 패턴 구성 제어가 가능한 유전체 공진기 안테나
|
16 |
16
삭제
|