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구리 박막의 건식 식각방법

  • 기술번호 : KST2019019316
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 구리 박막의 식각방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 구리 박막에 대하여 메탄을 포함한 식각가스(CH4/Ar, CH4/O2/Ar) 및 식각가스의 농도 등을 포함한 최적의 식각공정 조건을 적용함으로써, 종래 구리 박막의 식각법에 비해 재증착이 발생하지 않으면서 빠른 식각속도 및 높은 이방성 (또는 식각 경사)의 식각프로파일을 제공할 수 있는 구리 박막의 식각방법에 관한 것이다.
Int. CL H01L 21/311 (2006.01.01) H01L 21/3213 (2006.01.01) H01L 21/3065 (2006.01.01) H01L 21/768 (2006.01.01) H01J 37/32 (2006.01.01)
CPC H01L 21/31116(2013.01) H01L 21/31116(2013.01) H01L 21/31116(2013.01) H01L 21/31116(2013.01) H01L 21/31116(2013.01)
출원번호/일자 1020180036725 (2018.03.29)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0114274 (2019.10.10) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.03.29)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정지원 서울특별시 양천구
2 임은택 서울특별시 서초구
3 류진수 전라북도 군산시 공단대로 ** 타워써미트아파트 *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 공간 대한민국 대전광역시 서구 둔산서로 ***, *층(둔산 *동, 산업은행B/D)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 인천광역시 미추홀구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2018-0314690-28
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-0342645-85
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.03.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 심사처리보류(연기)보고서
Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination
2019.05.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0046575-71
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.05.14 수리 (Accepted) 9-1-2019-0023789-90
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0355418-13
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2019-0746586-88
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2019-0830576-25
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.08.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0830560-06
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0933646-18
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2020.01.22 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2020-0075941-57
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2020-0075950-68
14 등록결정서
Decision to Grant Registration
2020.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0094120-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 구리 박막을 하드마스크로 패터닝하여 마스킹하는 단계;(b) CH4 25 ~ 75 vol%, 및 O2 5 ~ 10 vol%를 포함하고 나머지는 불활성 가스로 구성되는 혼합가스를 플라즈마화하는 단계; 및 (c) 상기 (b) 단계에서 생성된 플라즈마를 이용하여 상기 (a) 단계에서 마스킹된 구리 박막을 식각하는 단계;를 포함하며,상기 (b) 단계의 플라즈마화는 0
2 2
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3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서의 혼합가스는 NO2, N2O 및 CO2로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 구리 박막의 식각방법
5 5
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6 6
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7 7
제 1항에 있어서,상기 (a) 단계의 하드마스크는 이산화규소(SiO2), 질화규소(TiN), 티타늄(Ti), 탄탈럼(Ta) 및 텅스텐(W) 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 구리박막의 식각방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서의 상기 불활성 가스는 He, Ne, Ar 및 N2로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 구리 박막의 식각방법
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계의 플라즈마화는 유도결합플라즈마 반응성 이온식각법을 포함하는 고밀도 플라즈마 반응성 이온식각법, 자기증강반응성 이온식각법, 반응성 이온 식각법, 원자층 식각법 (atomic layer etching) 및 펄스 모듈레이트된 고밀도 플라즈마 반응성 이온 식각법으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 구리박막의 식각방법
12 12
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 인하대학교 산학협력단 전자정보디바이스산업원천기술개발사업(시스템 반도체) 구리 건식 식각용 비온실 식가가스 개발 및 구리 박막의 건식 식각공정 개발
2 반도체연구조합 인하대학교 산학협력단 미래소자 원천기술개발사업 구리 건식 식각용 비온실 식각가스 개발 및 구리 박막의 건식 식각공정 개발