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양방향 정류 특성이 부여된 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2019020505
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법이 제공된다. 저항 변화 메모리 소자는 제 1 전극을 포함한다. 상기 제1 전극 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 바이폴라 다이오드 스위칭을 보여주는 제1 구리 산화물막이 위치한다. 상기 제1 구리 산화물막 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 결정입자 경계 내에 구리 필라멘트의 형성 또는 파괴에 의해 바이폴라 저항성 스위칭을 보여주는 제2 구리 산화물막이 위치한다. 상기 제2 구리 산화물막 상에 제 2 전극이 위치한다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/324 (2017.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020190043229 (2019.04.12)
출원인 세종대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0119545 (2019.10.22) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020180042600   |   2018.04.12
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.04.12)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구 능동로 *** (군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김덕기 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 서울특별시 광진구 능동로 *** (군
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2019-0379087-08
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.08.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.09.06 수리 (Accepted) 9-1-2019-0041429-91
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.04.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0240583-88
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.06.02 수리 (Accepted) 1-1-2020-0564601-86
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.06.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0564602-21
7 등록결정서
Decision to grant
2020.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0726294-53
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 전극;상기 제1 전극 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 바이폴라 다이오드 스위칭을 보여주는 제1 구리 산화물막;상기 제1 구리 산화물막 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 결정입자 경계 내에 구리 필라멘트의 형성 또는 파괴에 의해 바이폴라 저항성 스위칭을 보여주는 제2 구리 산화물막; 및상기 제2 구리 산화물막 상에 제 2 전극을 포함하고,상기 제2 구리 산화물막은 Cu2+xO (0≤x≤0
2 2
청구항 1에 있어서,상기 제1 구리 산화물막은 Cu1+xO (0≤x≤0
3 3
청구항 1에 있어서,상기 제1 구리 산화물막은 XRD 분석시, 2θ가 30 내지 40의 범위 내에 (110), , 및 (111) 피크들을 나타내는 저항 변화 메모리 소자
4 4
청구항 3에 있어서,상기 제1 구리 산화물막은 XRD 분석시, 과, 2θ가 48 내지 50의 범위 내에서 피크를 더 나타내는 저항 변화 메모리 소자
5 5
청구항 1에 있어서,상기 제1 구리 산화물막은 단일 이온화된 산소공공(V0+)을 이중 이온화된 산소공공(V0++) 대비 더 많은 양으로 함유하는 저항 변화 메모리 소자
6 6
청구항 1에 있어서,상기 제2 구리 산화물막은 이중 이온화된 산소공공(V0++)을 단일 이온화된 산소공공(V0+) 대비 더 많은 양으로 함유하는 저항 변화 메모리 소자
7 7
청구항 1에 있어서,상기 제2 구리 산화물막은 상기 제1 구리 산화물막 대비 구리 양이온의 함량이 많은 저항 변화 메모리 소자
8 8
청구항 1에 있어서,상기 제2 구리 산화물막은 XRD 분석시, 2θ가 30 근처에서 (110) 피크를 나타내는 저항 변화 메모리 소자
9 9
청구항 8에 있어서,상기 제2 구리 산화물막은 2θ가 35 내지 40의 범위 내에서 (111)피크와 2θ가 40 내지 45의 범위 내에서 (102)피크를 나타내는 저항 변화 메모리 소자
10 10
삭제
11 11
청구항 1에 있어서,상기 제2 구리 산화물막은 평균 결정입자의 크기가 상기 제1 구리 산화물막에 비해 큰 저항 변화 메모리 소자
12 12
청구항 1에 있어서,상기 제2 구리 산화물막은 상기 제1 구리 산화물막에 비해 면저항이 더 높은 저항 변화 메모리 소자
13 13
청구항 1에 있어서,상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 상기 구리 산화물막들과 반응성이 없는 전도성 막인 저항 변화 메모리 소자
14 14
청구항 1에 있어서,상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 서로에 관계없이 Pt, Ru, Au, TiN, TaN, 또는 ITO (Indium Tin Oxide)인 저항 변화 메모리 소자
15 15
제1 전극을 제공하는 단계;제1 전극 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 바이폴라 다이오드 스위칭을 보여주는 제1 구리 산화물막을 형성하는 단계;상기 제1 구리 산화물막 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 결정입자 경계 내에 구리 필라멘트의 형성 또는 파괴에 의해 바이폴라 저항성 스위칭을 보여주는 제2 구리 산화물막을 형성하는 단계; 및상기 제2 구리 산화물막 상에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하되,상기 제2 구리 산화물막은 Cu2+xO (0≤x≤0
16 16
청구항 15에 있어서,상기 제1 구리 산화물막과 상기 제2 구리 산화물막 중 적어도 어느 하나는 구리 산화물 입자 분산액을 코팅한 후 이를 열처리 하여 형성하는 저항 변화 메모리 소자 제조방법
17 17
청구항 16에 있어서,상기 제1 구리 산화물막을 구리 산화물 입자 분산액을 코팅한 후 이를 열처리하여 형성하고,상기 열처리는 비활성 기체 대비 산소가 많은 분위기에서 수행하는 저항 변화 메모리 소자 제조방법
18 18
청구항 16에 있어서,상기 제2 구리 산화물막을 구리 산화물 입자 분산액을 코팅한 후 이를 열처리하여 형성하고,상기 열처리는 산소 대비 비활성 기체가 많은 분위기에서 수행하는 저항 변화 메모리 소자 제조방법
19 19
제 1 전극;상기 제1 전극 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 단일 이온화된 산소공공(V0+)을 이중 이온화된 산소공공(V0++) 대비 더 많은 양으로 함유하는 제1 구리 산화물막;상기 제1 구리 산화물막 상에 다수의 결정입자들을 구비하고, 이중 이온화된 산소공공(V0++)을 단일 이온화된 산소공공(V0+) 대비 더 많은 양으로 함유하는 제2 구리 산화물막; 및상기 제2 구리 산화물막 상에 제 2 전극을 포함하는 저항 변화 메모리 소자
20 20
청구항 19에 있어서,상기 제1 구리 산화물막은 Cu1+xO (0≤x≤0
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패밀리정보가 없습니다
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