맞춤기술찾기

이전대상기술

웨이브릿을 이용한 플라즈마장비의 센서정보 감시방법

  • 기술번호 : KST2014040650
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 웨이브릿변환을 이용한 플라즈마장비의 센서정보 감시방법에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은, 플라즈마 장비에서 수집되는 센서정보에 웨이브릿 변환과 고감도 감시 메트릭을 적용하여 플라즈마 상태를 감시하도록 반도체공정을 수행하는 플라즈마 장비와, 센서정보처리를 위한 웨이브릿 정보변환기와 감시 메트릭을 구비하여; 공정이 끝난 후 플라즈마 장비에서 센서정보를 수집하고, 이렇게 수집된 센서정보에 웨이브릿 변환을 적용하며, 변환된 센서정보에 감시 메트릭을 적용하여 감도를 계산한 것을 포함한 것을 그 특징으로 한다. 웨이브릿 변환, 플라즈마 장비, 센서정보감시방법, 플라즈마, 고감도 감시 메트릭, 반도체 공정
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) H01L 21/3065 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01)
CPC H01J 37/32926(2013.01) H01J 37/32926(2013.01) H01J 37/32926(2013.01) H01J 37/32926(2013.01)
출원번호/일자 1020060044912 (2006.05.19)
출원인 세종대학교산학협력단
등록번호/일자 10-0868083-0000 (2008.11.04)
공개번호/일자 10-2007-0111744 (2007.11.22) 문서열기
공고번호/일자 (20081114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.05.19)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구 능동로 *** (군

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김병환 대한민국 서울 노원구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박윤호 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로 ***, 중앙빌딩 ***호 유노국제특허법률사무소 (서초동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 대한민국 서울 광진구 군
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.05.19 수리 (Accepted) 1-1-2006-0348784-37
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.03.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.04.11 수리 (Accepted) 9-1-2007-0019412-39
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0235848-25
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.06.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0455357-77
6 의견서
Written Opinion
2007.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0455345-29
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2007.10.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0580308-96
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2007-0946538-17
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.10 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2008-0019947-24
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2008-0019940-16
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0266520-16
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.06.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0428839-84
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.06.16 수리 (Accepted) 1-1-2008-0428829-27
14 보정요구서
Request for Amendment
2008.06.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0076342-86
15 보정요구서
Request for Amendment
2008.06.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0076174-12
16 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2008-0439843-14
17 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2008-0439832-12
18 등록결정서
Decision to grant
2008.10.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0522947-36
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5073277-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반도체 플라즈마 장비에서 수집되는 센서정보에 웨이브릿 변환과 고감도 감시 메트릭을 적용하여 플라즈마 상태를 감시하도록 반도체공정을 수행하는 플라즈마 장비와, 센서정보처리를 위한 웨이브릿 정보변환기와 감시 메트릭을 구비하여; 공정이 끝난 후 플라즈마 장비에서 센서정보를 수집하고, 이렇게 수집된 센서정보에 웨이브릿 변환을 적용하며, 변환된 센서정보에 감시 메트릭을 적용하여 감도를 계산한 것을 포함한 것을 특징으로 하는 웨이브릿을 이용한 반도체 플라즈마장비의 센서정보 감시방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 웨이브릿은 이산치 웨이브릿 변환과 연속적 웨이브릿 변환인 것을 특징으로 하는 웨이브릿을 이용한 플라즈마장비의 센서정보 감시방법
3 3
반도체 공정을 수행하는 플라즈마 장비와, 센서정보처리를 위한 웨이브릿 정보변환기와 감시 메트릭으로 구성되어; 반도체 공정을 수행하는 플라즈마 장비로부터 공정 진행 중 또는 공정 후에 장비 부품으로부터 시간에 따르는 데이터를 수집하며, 이를 하나의 데이터 파일에 저장하고;상기 웨이브릿 정보변환기에서는 파일에 저장된 각 센서정보를 순차적으로 변환하며, 이를 위해 사전에 각 센서 정보에 대해 샘플링할 수 있는 데이터 요소의 총수를 지정하며; 변환된 센서정보에 감시 메트릭을 적용하여 민감도를 계산하고, 계산된 민감도는 기준 민감도와 비교하고 이에 기초하여 플라즈마 상태를 평가하며;동일 센서에 대해 확보된 다수의 데이터 패턴 상호간에 임의 장비센서정보의 웨이브릿 변환정보를 적용하고 그 추정치를 계산하며, 계산된 임의 장비센서정보의 웨이브릿 변환정보를 추정된 기준 민감도와 비교하여 플라즈마 상태를 판단한 것을 특징으로 하는 웨이브릿을 이용한 반도체 플라즈마장비의 센서정보 감시방법
4 4
제 3 항에 있어서, 이산치 웨이브릿 변환(DWT)을 적용할 경우, 그 데이터 요소의 총수는 2ⁿ과 일치하게끔 n의 값을 조정한 것을 특징으로 하는 웨이브릿을 이용한 반도체 플라즈마장비의 센서정보 감시방법
5 5
제 3 항에 있어서상기 센서정보 변환에는 이산치 웨이브릿 변환(DWT)외에 연속적 웨이브릿 변환 (CWT)도 함께 적용한 것을 특징으로 하는 웨이브릿을 이용한 플라즈마장비의 센서정보 감시방법
6 6
제 3 항에 있어서, 계산된 임의 장비센서정보의 웨이브릿 변환정보와 기준 민감도와의 차가 임계점 이하이면 플라즈마 상태가 정상이라 판단하고, 새로운 웨이퍼에 대한 공정을 수행하고;만약 차가 임계점 이상이면 플라즈마 장비에 이상이 생긴 것으로 판단하고, 이 경우 플라즈마 장비를 일시 중단한 후 웨이브릿 변환정보에 대해 계산된 민감도와 기준 민감도의 차가 임계점 이상을 나타낼 정도로 기준 민감도를 초과하는 센서정보를 확인하고 그 정보를 제공하는 부품을 점검한 것을 특징으로 하는 웨이브릿을 이용한 플라즈마장비의 센서정보 감시방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.