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잔향 챔버

  • 기술번호 : KST2019021102
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 잔향 챔버에 관한 것으로, 자세하게, 잔향 챔버는 송수신 안테나로부터 출력되는 전자파가 워크 볼륨으로의 빔 방향을 반사하는 반사판을 송수신 안테나와 한쌍으로 배치시킴으로써, 잔향 챔버 내 워크 볼륨(working volume)의 필드 균일도(field uniformity)가 개선되고, 이를 통해 잔향 챔버의 활용성을 높일 수 있다.
Int. CL G01R 29/08 (2006.01.01)
CPC G01R 29/0821(2013.01) G01R 29/0821(2013.01)
출원번호/일자 1020180050827 (2018.05.02)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0126651 (2019.11.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 심동욱 대전광역시 유성구
2 곽상일 대전광역시 유성구
3 권종화 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0435663-55
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번호 청구항
1 1
잔향 챔버에 있어서,복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨(working volume)과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나; 및상기 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판를 포함하고,상기 반사판은,상기 송수신 안테나와 한 쌍으로 이루어지며, 상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 이격 배치되며,상기 모드 교반기는,상기 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및상기 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나인 잔향 챔버
2 2
제1항에 있어서,상기 송수신 안테나는,상기 잔향 챔버의 워킹 볼륨과 비가시선(non-line of sight)을 가지는 방향으로 전자파를 방사하는 잔향 챔버
3 3
제1항에 있어서,상기 반사판은,상기 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파가 잔향 챔버 내 워킹 볼륨에 전파되기 까지의 전자파 필드의 경로를 제어하는 잔향 챔버
4 4
제1항에 있어서,상기 반사판은,상기 워킹 볼륨의 위치를 기반으로 상기 잔향 챔버 내 빈 공간에 대한 잔향 챔버의 고유 모드(Eigenmode) 분포를 고려하여 반사판의 형태, 크기, 모양 및 배치 공간 중 적어도 하나가 조절되는 잔향 챔버
5 5
제4항에 있어서,상기 잔향 챔버의 고유 모드는,상기 기둥형 모드 교반기, 천장형 모드 교반기, 피라미달 고정형 모드 교반기 및 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나의 모드 교반기에 의해 변화되는 잔향 챔버
6 6
제4항에 있어서,상기 반사판의 형태는,상기 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파를 반사하기 위한 곡면, 꺽인면 중 하나의 형태로 구현되는 잔향 챔버
7 7
제4항에 있어서,상기 반사판의 크기는,상기 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 큰 잔향 챔버
8 8
잔향 챔버에 있어서,복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨(working volume)과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나들; 및상기 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판들를 포함하고,상기 반사판들 각각은,상기 송수신 안테나들 각각과 쌍을 이루어지며, 상기 워킹 볼품의 일면으로부터 복수의 쌍이 이격 배치되며,상기 모드 교반기는,상기 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및상기 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나인 잔향 챔버
9 9
제8항에 있어서,상기 반사판들은,상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 동일한 이격 거리 또는, 상이한 이격 거리로 배치되는 잔향 챔버
10 10
제8항에 있어서,상기 반사판들은,상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치되는 잔향 챔버
11 11
제8항에 있어서,상기 반사판들은,동일한 크기 또는, 서로 다른 크기를 가지며,상기 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 크거나 작은 잔향 챔버
12 12
잔향 챔버에 있어서,복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨(working volume)과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나들; 및상기 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판들를 포함하고,상기 반사판들 각각은,상기 송수신 안테나들 각각과 한 쌍으로 이루어지며, 상기 워킹 볼륨의 적어도 두 면으로부터 이격되어 배치되며,상기 모드 교반기는,상기 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기;상기 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및상기 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나인 잔향 챔버
13 13
제12항에 있어서,상기 반사판들은,상기 워킹 볼륨의 적어도 두 면에서 동일한 개수이거나 또는, 서로 다른 개수로 배치되는 잔향 챔버
14 14
제12항에 있어서,상기 반사판들은,상기 워킹 볼륨의 일면에서 복수의 쌍이 배치되는 경우, 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치되는 잔향 챔버
15 15
제12항에 있어서,상기 반사판들은,상기 워킹 볼륨의 일면에서 복수의 쌍이 배치되는 경우, 상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 동일한 이격 거리 또는, 상이한 이격 거리로 배치되는 잔향 챔버
16 16
제12항에 있어서,상기 반사판들은 동일한 크기 또는, 서로 다른 크기를 가지며,상기 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 크거나 작은 잔향 챔버
17 17
제12항에 있어서,상기 반사판들은,상기 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파를 반사하기 위한 곡면, 꺽인면 중 하나의 형태로 구현되거나 또는, 특정 형태의 슬롯이 포함된 형태로 구현되는 잔향 챔버
18 18
제12항에 있어서,상기 반사판들은,상기 잔향 챔버의 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 형태에 따라 잔향 챔버 내 배치되는 기울기가 조절되는 잔향 챔버
지정국 정보가 없습니다
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1 US20190339315 US 미국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국전자통신연구원 ETRI연구개발지원사업 전자파잔향실 기반 실환경 전파 측정 및 평가 기술 연구