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염료 화합물 및 포토폴리머 조성물

  • 기술번호 : KST2019021980
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 신규한 구조의 화합물과 상기 화합물을 염료로 포함하는 포토폴리머 조성물과 상기 포토폴리머 조성물로부터 제조된 홀로그램 기록 매체와, 상기 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자 상기 홀로그램 기록 매체을 이용한 홀로그래픽 기록 방법에 관한 것이다.
Int. CL C09B 57/00 (2006.01.01) C07F 7/21 (2006.01.01) G03F 7/075 (2006.01.01) G03F 7/027 (2006.01.01) G03F 7/028 (2006.01.01) G02B 5/32 (2006.01.01) G03H 1/02 (2006.01.01)
CPC C09B 57/00(2013.01) C09B 57/00(2013.01) C09B 57/00(2013.01) C09B 57/00(2013.01) C09B 57/00(2013.01) C09B 57/00(2013.01) C09B 57/00(2013.01)
출원번호/일자 1020180063497 (2018.06.01)
출원인 주식회사 엘지화학, 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0137383 (2019.12.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.06.03)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
2 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김헌 대한민국 대전광역시 유성구
2 김유식 대한민국 대전광역시 유성구
3 카르바쉬 라이사 러시아 대전광역시 유성구
4 권세현 대한민국 대전광역시 유성구
5 장영래 대한민국 대전광역시 유성구
6 장석훈 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.06.01 수리 (Accepted) 1-1-2018-0542370-60
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2019-0568821-93
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.07.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0784430-79
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0647512-36
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.11.18 수리 (Accepted) 1-1-2020-1236853-48
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.11.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-1236854-94
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식1의 화합물:[화학식1]상기 화학식1에서, 상기 X는 탄소(C), 실리콘(Si) 또는 산소(O) 이고, 상기 Z1 및 Z2는 서로 같거나 다르며, 각각 질소(N) 또는 인(P)이고, 상기 R1 내지 R12는 서로 같거나 다르며, 각각 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기; 할로겐기; 니트릴기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기이고, 상기 n 및 m은 각각 0 또는 1이고, 상기 X가 산소 일 때 상기 n 및 m은 0이며, 상기 An-는 음이온이며, 상기 Ar1은 탄소수 1 내지 20의 알킬기; 할로겐기; 니트릴기; 탄소수 1 내지 20의 알콕시기; 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기 및 탄소수 6 내지 20의 아릴기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 작용기가 1이상 치환되거나 비치환된 탄소수 6 내지 30의 방향족 2가 작용기이고, 상기 Y1은 카르복실기(-COOH), 에테르기(-O-) 또는 에스터(-COO-)와 방향족 그룹을 함유한 작용기이거나, 탄소수 1 내지 20의 지방족 작용기 또는 할로겐기가 1이상 치환된 탄소수 6 내지 20의 방향족 작용기이다
2 2
제1항에 있어서, 상기 An-는 할라이드(Halide) 이온, 시아노(cyano) 이온, 탄소수 1 내지 30의 알콕시(alkoxy) 이온, 탄소수 1 내지 30의 알콕시카보닐(alkoxycarbonyl)이온, 설포네이트 이온, 탄소수 1 내지 30의 알킬 설포네이트(alkyl-sulfonate) 이온, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 방향족 설포네이트(aromatic-sulfonate) 이온, 탄소수 1 내지 30의 알킬 설페이트(alkyl-sulfate) 이온, 설페이트 이온, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 방향족 설페이트 (aromatic-sulfate) 이온인, 화합물
3 3
제1항에 있어서, 상기 화학식1에서,상기 X는 실리콘(Si)이고, 상기 n 및 m은 1이며, 상기 Z1 및 Z2는 각각 질소(N) 이고, 상기 R1 내지 R11는 서로 같거나 다르며, 각각 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기; 또는 할로겐기; 이고, 상기 Ar1은 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 할로겐기가 1이상 결합된 탄소수 6 내지 20의 방향족 2가 작용기이고,상기 Y1은 하기 화학식2의 작용기인, 화합물:[화학식2]상기 화학식2에서, Y2는 에테르기 또는 에스터이고, Ar2는 탄소수 1 내지 20의 지방족 작용기 또는 할로겐기가 1이상 치환된 탄소수 6 내지 20의 방향족 작용기이다
4 4
고분자 매트릭스 또는 이의 전구체; 청구항 1의 화합물을 포함하는 염료;광반응성 단량체; 및 광개시제;를 포함하는, 포토폴리머 조성물
5 5
제4항에 있어서, 상기 고분자 매트릭스 또는 이의 전구체는 1) 1이상의 이소시아네이트기를 포함한 화합물과 폴리올 간의 반응 생성물; 또는 2) 실란계 작용기가 분지쇄에 위치하는 (메트)아크릴레이트계 (공)중합체 및 실란 가교제를 포함하는 고분자 매트릭스;를 포함하는, 포토폴리머 조성물
6 6
제4항에 있어서, 상기 실란 가교제는 중량평균분자량이 100 내지 2000인 선형의 폴리에테르 주쇄 및 상기 주쇄의 말단 또는 분지쇄로 결합한 실란계 작용기를 포함하는, 포토폴리머 조성물
7 7
제4항에 있어서, 상기 실란계 작용기가 분지쇄에 위치하는 (메트)아크릴레이트계 (공)중합체는 실란계 작용기가 분지쇄에 위치하는 (메트)아크릴레이트 반복단위 및 (메트)아크릴레이트 반복단위를 포함하고, 100,000 내지 1,000,000의 중량평균분자량을 갖는, 포토폴리머 조성물
8 8
제4항에 있어서, 상기 광반응성 단량체는 다관능 (메트)아크릴레이트 단량체, 또는 단관능 (메트)아크릴레이트 단량체를 포함하는, 포토폴리머 조성물
9 9
제4항에 있어서, 상기 고분자 매트릭스 또는 이의 전구체 1 중량% 내지 80중량%; 상기 광반응성 단량체 1 중량% 내지 80중량%; 상기 염료 0
10 10
제4항에 있어서, 상기 포토폴리머 조성물은 촉매, 포스페이트계 화합물 및 저굴절율 불소계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 더 포함하는, 홀로그램 기록 매체
11 11
제10항에 있어서, 상기 저굴절율 불소계 화합물은 에테르기, 에스터기 및 아마이드기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 작용기 및 2이상의 다이플루오로메틸렌기를 포함하는, 홀로그램 기록 매체
12 12
제4항의 포토폴리머 조성물로부터 제조된 홀로그램 기록 매체
13 13
제11항의 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자
14 14
가간섭성 광원에 의해 제1항의 포토폴리머 조성물에 포함된 광반응성 단량체를 선택적으로 중합시키는 단계를 포함하는, 홀로그래픽 기록 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
패밀리 정보가 없습니다

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2019231117 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.