| 1 |
1
일면이 반응 챔버에 돌출되게 결합된 돌출부; 상기 돌출부 타면에 위치된 윈도우; 상기 돌출부 일측에 결합되고, 상기 돌출부 내 상기 윈도우에 인접한 공간에 가스를 분사하는 가스 공급부; 상기 가스 공급부와 대향하게 상기 돌출부 타측에 결합되고, 상기 분사되는 가스를 배출하는 가스 배출부; 및 상기 가스 배출부에 설치되고, 상기 반응 챔버로부터 유입된 반응 가스 또는 증착 반응 물질이 상기 윈도우에 증착되는 것을 방지하도록, 상기 배출되는 가스의 유량을 제어하는 배출 유량 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 반응 챔버는 상기 반응 챔버 내의 공정 압력이 유지되도록 상기 반응 챔버 내 반응 가스가 배출되는 별도의 배출구가 결합된 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 가스 공급부는 가스 공급 장치; 및 상기 가스 공급 장치와 상기 돌출부 일측을 연결하고, 상기 가스 공급 장치에 의해 공급되는 상기 가스가 통과하는 공급 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 가스 공급부는, 상기 공급 라인에 설치되고 상기 공급 라인을 통과하는 상기 가스의 유량을 제어하는 공급 유량 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 가스 배출부는 상기 분사되는 가스를 펌핑하는 제1펌프; 및 상기 제1펌프와 상기 돌출부 타측을 연결하고, 상기 인접한 공간으로부터 상기 제1펌프의 펌핑에 의해 배출되는 상기 가스가 통과하는 배출 라인을 포함하고, 상기 배출 유량 제어부는 상기 배출 라인에 설치되는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 배출 유량 제어부는 상기 배출되는 가스의 유량을 제어하여, 상기 공급 라인을 통과하는 상기 가스의 유량과 상기 배출 라인을 통과하는 상기 가스의 유량을 동일하게 하는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 6 |
6
제4항에 있어서, 상기 가스 배출부는, 상기 배출 라인에 설치되고 상기 배출 라인을 통과하는 상기 가스의 유량을 측정하는 배출 유량 측정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 7 |
7
제6항에 있어서, 상기 배출 유량 측정부는 상기 배출 유량 제어부와 상기 돌출부 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 8 |
8
제6항에 있어서, 상기 배출 유량 측정부는 상기 배출 유량 제어부와 상기 제1펌프 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 가스는 불활성 가스이거나 플라즈마나 레이저에 의해 분해되어도 단독으로 반응물을 생성하지 않는 가스인 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 10 |
10
일면이 반응 챔버에 돌출되게 결합된 돌출부; 상기 돌출부 타면에 위치된 윈도우; 상기 돌출부 일측에 결합되고, 상기 돌출부 내 상기 윈도우에 인접한 공간에 가스를 분사하는 가스 공급부; 상기 가스 공급부와 대향하게 상기 돌출부 타측에 결합되고, 상기 분사되는 가스를 배출하는 가스 배출부; 및 상기 가스 배출부에 설치되고, 상기 반응 챔버로부터 유입된 반응 가스 또는 증착 반응 물질이 상기 윈도우에 증착되는 것을 방지하도록, 상기 배출되는 가스의 유량을 제어하는 배출 유량 제어부를 포함하고, 상기 돌출부는 2개 이상인 것을 특징으로 하고,상기 반응 챔버는 상기 반응 챔버 내의 공정 압력이 유지되도록 상기 반응 챔버 내 반응 가스가 배출되는 별도의 배출구가 결합된 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우 장치
|
| 11 |
11
반응 챔버; 상기 반응 챔버에 일면이 돌출되게 결합된 돌출부; 상기 돌출부 타면에 위치된 윈도우; 상기 돌출부 일측에 결합되고, 상기 돌출부 내 상기 윈도우에 인접한 공간에 가스를 분사하는 가스 공급부; 상기 가스 공급부와 대향하게 상기 돌출부 타측에 결합되고, 상기 분사되는 가스를 배출하는 가스 배출부; 및 상기 가스 배출부에 설치되고, 상기 반응 챔버로부터 유입된 반응 가스 또는 증착 반응 물질이 상기 윈도우에 증착되는 것을 방지하도록, 상기 배출되는 가스의 유량을 제어하는 배출 유량 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 반응 챔버에 결합되고, 상기 반응 챔버 내의 공정 압력이 유지되도록 상기 반응 챔버 내 반응 가스가 배출되는 별도의 배출구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우를 갖는 장치
|
| 12 |
12
삭제
|
| 13 |
13
제11항에 있어서, 상기 가스 배출부는 상기 분사되는 가스를 펌핑하는 제1펌프; 및 상기 제1펌프와 상기 돌출부 타측을 연결하고, 상기 인접한 공간으로부터 상기 제1펌프의 펌핑에 의해 배출되는 상기 가스가 통과하는 배출 라인을 포함하고, 상기 배출 유량 제어부는 상기 배출 라인에 설치되고; 상기 배출 라인의 단면적은 상기 별도의 배출구 단면적의 1/100 이상인 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우를 갖는 장치
|
| 14 |
14
제11항에 있어서, 상기 반응 챔버는 기상 증착 장치 또는 퍼니스의 챔버인 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우를 갖는 장치
|
| 15 |
15
제11항에 있어서, 상기 돌출부의 부피는 상기 반응 챔버 부피의 1/1000 내지 1/2인 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우를 갖는 장치
|
| 16 |
16
반응 챔버; 상기 반응 챔버에 일면이 돌출되게 결합된 돌출부; 상기 돌출부 타면에 위치된 윈도우; 상기 돌출부 일측에 결합되고, 상기 돌출부 내 상기 윈도우에 인접한 공간에 가스를 분사하는 가스 공급부; 상기 가스 공급부와 대향하게 상기 돌출부 타측에 결합되고, 상기 분사되는 가스를 배출하는 가스 배출부; 및 상기 가스 배출부에 설치되고, 상기 반응 챔버로부터 유입된 반응 가스 또는 증착 반응 물질이 상기 윈도우에 증착되는 것을 방지하도록, 상기 배출되는 가스의 유량을 제어하는 배출 유량 제어부를 포함하고, 상기 돌출부는 2개 이상인 것을 특징으로 하고,상기 반응 챔버에 결합되고, 상기 반응 챔버 내의 공정 압력이 유지되도록 상기 반응 챔버 내 반응 가스가 배출되는 별도의 배출구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우를 갖는 장치
|
| 17 |
17
제16항에 있어서, 상기 윈도우 중 제1윈도우를 통해 외부로부터 상기 반응 챔버 내로 레이저가 조사되는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우를 갖는 장치
|
| 18 |
18
제17항에 있어서, 상기 조사된 레이저는 상기 윈도우 중 상기 제1윈도우와 대향하는 제2윈도우를 통해 외부로 방출되는 것을 특징으로 하는, 클린 윈도우를 갖는 장치
|
