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플라즈마 표면처리를 이용한 에어로겔 파우더 성형방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2014019431
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 에어로겔 파우더 표면을 플라즈마와 표면반응시켜 제품을 보다 용이하고 신속하게 성형함과 아울러 다양한 형상의 제품을 제조 가능하도록 한 플라즈마 표면처리를 이용한 에어로겔 파우더 성형방법 및 장치에 관한 것이다. 이를 위해, 플라즈마를 이용하여 고온 단열 특성을 갖는 에어로겔 파우더를 성형하는 방법 및 장치에 있어서, 챔버 내부의 고주파 전극과 교반기 사이에 에어로겔 파우더를 투입하고, 진공펌프를 이용하여 챔버 내부를 진공 배기한 후, 가스투입구를 통해 챔버 내부에 반응가스를 투입하며, 고주파 전극에 플라즈마 전원을 인가하여 고주파 전극과 교반기 사이에 고밀도 플라즈마를 발생시키고, 고밀도 플라즈마에 의한 에어로겔 파우더의 표면반응을 배가시킬 수 있도록 교반기를 회전시키는 것을 특징으로 한다. 상기한 구성에 따라, 고밀도 플라즈마 표면처리를 통해 에어로겔 파우더의 표면반응을 일으키므로, 성형체를 다양한 형상의 3차원의 형상으로 손쉽게 성형할 수 있고, 또한 성형시간을 대폭적으로 감소시켜 성형체의 보다 신속하고 간편하게 성형할 수 있게 된다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) H05K 1/03 (2006.01) B01J 19/00 (2006.01)
CPC B01J 19/08(2013.01) B01J 19/08(2013.01) B01J 19/08(2013.01)
출원번호/일자 1020080002531 (2008.01.09)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-0926981-0000 (2009.11.09)
공개번호/일자 10-2009-0076528 (2009.07.13) 문서열기
공고번호/일자 (20091117) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.09)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤덕재 대한민국 경기 안양시 동안구
2 나경환 대한민국 경기도 과천시
3 최석우 대한민국 서울특별시 동작구
4 김경수 대한민국 경기 용인시 수지구
5 김성영 대한민국 경기 고양시 일산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유종정 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 *, ***호(역삼동, 강남역센트럴푸르지오시티)(오주특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.01.09 수리 (Accepted) 1-1-2008-0017791-52
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2008-0036921-92
3 보정요구서
Request for Amendment		 2008.01.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0008734-42
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0048904-41
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2008-5164358-96
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5178457-80
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2009-5013686-94
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.02.11 수리 (Accepted) 9-1-2009-0007031-91
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.06.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0266380-55
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.07.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0426570-96
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2009-0426571-31
13 등록결정서
Decision to grant		 2009.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0448717-62
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마를 이용하여 고온 단열 특성을 갖는 에어로겔 파우더를 성형하는 방법에 있어서, 챔버(10) 내부의 고주파 전극(15)과 교반기(16) 사이에 에어로겔 파우더를 투입하는 단계(S10)와; 진공펌프(11)를 이용하여 챔버(10) 내부를 진공 배기한 후, 가스투입구(12)를 통해 챔버(10) 내부에 불활성가스, 질소, 산소, 플루오로메탄(CF4), 염소계가스, 수소, 암모니아 중 적어도 어느 하나 이상의 반응가스를 투입하는 단계(S20)와; 고주파 전극(15)에 플라즈마 전원을 인가하여 고주파 전극(15)과 교반기(16) 사이에 고밀도 플라즈마를 발생시키는 단계(S30)와; 고밀도 플라즈마에 의한 에어로겔 파우더의 표면반응을 배가시킬 수 있도록 교반기(16)를 회전시키는 단계(S40)를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 이용한 에어로겔 파우더 성형방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서, 상기 플라즈마 전원은 주파수가 20KHz~20MHz이고, 전력이 30~5000W인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 이용한 에어로겔 파우더 성형방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 에어로겔 파우더가 공정 중 진공펌프(11)에 의해 흡입 배출되는 것을 필터(17)를 통해 차단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 이용한 에어로겔 파우더 성형방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 교반기(16)는 고밀도 플라즈마에 의한 에어로겔 파우더의 표면처리 시간이 종료될 때까지 지속적으로 교반하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 이용한 에어로겔 파우더 성형방법
7 7
플라즈마를 이용하여 고온 단열 특성을 갖는 에어로겔 파우더를 성형하는 장치에 있어서, 챔버(10)와; 상기 챔버(10) 일측에 설치되어 내부의 압력을 진공 제어하는 진공펌프(11)와; 상기 챔버(10) 상면에 설치되어 내부에 불활성가스, 질소, 산소, 플루오로메탄(CF4), 염소계가스, 수소, 암모니아 중 적어도 어느 하나 이상의 반응가스를 투입하는 가스투입구(12)와; 상기 챔버(10) 내부 중앙에 설치되어 플라즈마 전원의 인가를 통해 고밀도 플라즈마를 생성하는 고주파 전극(15)과; 상기 고주파 전극(15) 외측에 설치되어 챔버(10) 내부에 투입되는 에어로겔 파우더를 회전 교반시키는 교반기(16)와; 상기 진공펌프(11)에 의한 에어로겔 파우더의 배출을 방지할 수 있도록 진공펌프(11)와 교반기(16) 사이에 설치한 적어도 하나 이상의 필터(17)를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면 처리를 이용한 에어로겔 파우더 성형장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.