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하기 화학식 1로 표시되는 물질과 화학식 2로 표시되는 물질을 포함하는 복합구조체:003c#화학식 1003e#Hf2S003c#화학식 2003e#Hf2S1-y (0 003c# y ≤ 0
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2 |
2
제 1항에서, Hf2S1-y (0 003c# y ≤ 0
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3
제 1항에서, Hf2S의 일함수는 2
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4 |
4
제 1항에서, Hf2S와 Hf2S1-y (0 003c# y ≤ 0
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5 |
5
제 1항에서, Hf2S와 Hf2S1-y (0 003c# y ≤ 0
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6 |
6
제 1항에서, Hf2S와 Hf2S1-y (0 003c# y ≤ 0
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7
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항의 복합구조체를 포함하는 전자방출 물질
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8 |
8
제 7항의 전자방출 물질의 분말을 표면에 노출되게 포함하는 전자 이미터
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9
제 8항의 전자 이미터를 구비하고 있는 형광관
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10
복합구조체의 제조방법에 있어서,Hf 분말 및 S 분말을 혼합한 후 500 내지 600℃의 온도로 열처리하여 화합물 원료를 얻는 제 1 단계; 및상기 제 1 단계에서 얻어진 화합물 원료를 2500 내지 3000℃로 용융한 다음, 상온까지 급속 냉각하는 제 2 단계;를 포함하고, 상기 복합구조체는 하기 화학식 1로 표시되는 물질과 화학식 2로 표시되는 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합구조체의 제조방법:003c#화학식 1003e#Hf2S003c#화학식 2003e#Hf2S1-y (0 003c# y ≤ 0
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11
삭제
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제 10항에 있어서,제조된 복합구조체를 볼 밀링, 어트리션 밀링, 고에너지 밀링, 제트 밀링 또는 막자 사발을 이용한 분쇄의 방법으로 분말화하거나, 또는 가스 원자화에 의해 분말화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복합구조체의 제조방법
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