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플라즈마 소스 및 이를 이용한 플라즈마 발생장치

  • 기술번호 : KST2019023192
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플라즈마 소스가 개시된다. 상기 플라즈마 소스는 페라이트 구조체; 및 상기 페라이트 구조체를 사이에 두고 서로 이웃하며 전기적으로 커플링(coupling)된 제1 분할전극 및 제2 분할전극을 포함하는 분할전극쌍을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 플라즈마 소스를 이용하면, 처리기판 방향으로 강한 자기장을 집중시켜서 높은 플라즈마 밀도 및 균일도를 구현할 수 있고, 플라즈마 소스의 가장자리에서도 전력의 손실 없이 플라즈마를 균일하게 생성할 수 있고, 플라즈마 생성 과정에서 전극이 손상되는 것이 방지될 수 있는 등의 이점이 있다.
Int. CL H01J 37/32 (2006.01.01)
CPC H01J 37/32541(2013.01) H01J 37/32541(2013.01)
출원번호/일자 1020170134023 (2017.10.16)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1932859-0000 (2018.12.19)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20190320) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.10.16)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 염근영 서울특별시 강남구
2 김기현 대전광역시 유성구
3 김기석 인천광역시 부평구
4 지유진 경기도 수원시 장안구
5 박진우 경기도 고양시 일산동구
6 김두산 전라남도 순천시 조
7 이원오 경기도 화성
8 송창훈 경상북도 상주
9 변지영 경기도 수원시 권선구
10 오지수 경기도 수원시 장안구
11 탁현우 경기도 용인시 기흥구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 박종수 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2017-1016033-39
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.05.03 수리 (Accepted) 1-1-2018-0437082-85
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2018.05.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2018.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2018-0022409-53
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0574842-49
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2018-1047361-50
7 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-1087007-39
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.11.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-1171252-13
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2018-1171251-67
10 등록결정서
Decision to grant
2018.12.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0854588-36
11 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2019.03.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5007551-41
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
페라이트 구조체; 및상기 페라이트 구조체를 사이에 두고 서로 이웃하며 전기적으로 커플링(coupling)된 제1 분할전극 및 제2 분할전극을 포함하는 분할전극쌍을 포함하고,상기 페라이트 구조체는,플레이트 형태의 베이스부; 및상기 베이스부의 일면으로부터 돌출되고 상기 베이스부의 일측 변과 평행하게 연장되는 삽입돌기부를 포함하고,상기 페라이트 구조체는 상기 삽입돌기부가 상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극의 사이로 삽입되고 상기 베이스부는 상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극의 위로 위치하도록 상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극 사이에 결합되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 소스
2 2
제1항에 있어서,상기 페라이트 구조체 및 분할전극쌍이 제1 방향을 따라 다수로 나열되어 선형 배열되고,상기 페라이트 구조체는 서로 이격된 각각의 분할전극쌍들 사이에도 추가로개재되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 소스
3 3
제1항에 있어서,상기 분할전극쌍이 제1 방향 및 상기 제1 방향에 수직하는 제2 방향을 따라 다수로 나열되어 매트릭스 구조로 선형 배열되되 각각의 분할전극쌍은 일정 간격 이격되게 배치되고, 상기 페라이트 구조체는 매트릭스 구조로 서로 이격된 각각의 분할전극쌍들 사이에도 추가로 개재되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 소스
4 4
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,유전체 플레이트를 더 포함하고,상기 분할전극쌍 및 페라이트 구조체는 상기 유전체 플레이트 상에 선형 배열되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 소스
5 5
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,유전체 플레이트를 더 포함하고,상기 분할전극쌍 및 페라이트 구조체는 상기 유전체 플레이트 내로 임베딩(embedding)되어 선형 배열되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 소스
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서,상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극은 직사각형 플레이트 형상이고,상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극은 각각의 장축변이 서로 전기적으로 커플링되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 소스
8 8
내부에 처리기판을 지지하는 스테이지를 구비하는 진공 챔버;페라이트 구조체; 및 상기 페라이트 구조체를 사이에 두고 서로 이웃하며 전기적으로 커플링(coupling)된 제1 분할전극 및 제2 분할전극을 포함하고, 전원이 인가되면 일방향으로 자기장을 형성하는 분할전극쌍을 포함하는 플라즈마 소스; 및상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극 중 어느 하나에 연결되어 상기 분할전극쌍에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고,상기 플라즈마 소스는 상기 스테이지 상에 놓이는 처리기판과 일정 거리 이격되게 배치되되 상기 자기장이 상기 처리기판을 향하도록 배치되며,상기 페라이트 구조체는,플레이트 형태의 베이스부; 및상기 베이스부의 일면으로부터 돌출되고 상기 베이스부의 일측 변과 평행하게 연장되는 삽입돌기를 포함하고,상기 페라이트 구조체는 상기 삽입돌기가 상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극의 사이로 삽입되고 상기 베이스부는 상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극의 위로 위치하도록 상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극 사이에 결합되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 발생장치
9 9
제8항에 있어서,상기 플라즈마 소스는상기 페라이트 구조체 및 분할전극쌍이 제1 방향을 따라 다수로 나열되어 선형 배열되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 발생장치
10 10
제8항에 있어서,상기 플라즈마 소스는 상기 분할전극쌍이 제1 방향 및 상기 제1 방향에 수직하는 제2 방향을 따라 다수로 나열되어 매트릭스 구조로 선형 배열되되 각각의 분할전극쌍은 일정 간격 이격되게 배치되고, 상기 페라이트 구조체가 매트릭스 구조로 서로 이격된 각각의 분할전극쌍들 사이에도 추가로 개재되어 구성된 것을 특징으로 하는,플라즈마 발생장치
11 11
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 소스는 유전체 플레이트를 더 포함하고,상기 분할전극쌍 및 페라이트 구조체는 상기 유전체 플레이트 상에 선형 배열되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 발생장치
12 12
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 소스는 유전체 플레이트를 더 포함하고,상기 분할전극쌍 및 페라이트 구조체는 상기 유전체 플레이트 내로 임베딩(embedding)되어 선형 배열되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 발생장치
13 13
삭제
14 14
제8항에 있어서,상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극은 직사각형 플레이트 형상이고,상기 제1 분할전극 및 제2 분할전극은 각각의 장축변이 서로 전기적으로 커플링되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 발생장치
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1 US20190221404 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2019221404 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 성균관대학교(자연과학캠퍼스) 원천기술개발사업(나노소재기술개발사업) 고집적 신경세포 모방 소자 인터커넥션을 위한 초정밀 나노 공정기술 개발