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티탄산 화합물 (SrxLay)TizO3 및 상기 티탄산 화합물의 녹는점 미만의 값을 가지는 강유전체 물질 (K0
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제1항에 있어서,상기 소결단계는 환원 분위기의 소결 및 산화 분위기의 후속열처리로 이루어지며, 상기 산화분위기의 후속열처리는 상압에서 수행되는 것을 특징으로 하는 입계절연형 유전체 제조방법
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티탄산 화합물 (BaxLay)TizO3 및 상기 티탄산 화합물의 녹는점 미만의 값을 가지는 강유전체 물질 (K0
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제8항에 있어서,상기 티탄산화합물과 강유전체의 혼합물에 TEOS(tetraethly orthosilicate)를 첨가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입계절연형 유전체 제조방법
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제8항에 있어서,상기 소결단계 이전에 상기 혼합물을 사전열처리(prefiring)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입계절연형 유전체 제조방법
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제8항에 있어서,상기 소결단계는 환원 분위기의 소결 및 산화 분위기의 후속열처리로 이루어지며, 상기 산화분위기의 후속열처리는 N2 분위기 또는 상압에서 수행되는 것을 특징으로 하는 입계절연형 유전체 제조방법
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제1항 또는 제8항에 있어서,상기 강유전체의 첨가 비율은 상기 티탄산 화합물 대비 2 내지 20 mol%인 것을 특징으로 하는 입계 절연형 유전체 제조방법
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티탄산 스트론튬 화합물인 (SrxLay)TizO3 에 강유전체 물질 (K0
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제14항에 있어서,상기 입계 절연형 유전체는 평균 입자크기가 0
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제14항에 있어서,상기 입계 절연형 유전체는 비유전율이 1MHz 이상의 주파수 영역에서 4500 내지 6000이고, 유전손실은 2 내지 5% 인 것을 특징으로 하는 입계 절연형 유전체
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티탄산 바륨 화합물인 (BaxLay)TizO3 에 강유전체 물질 (K0
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제18항에 있어서,상기 입계 절연형 유전체는 평균 입자크기가 0
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제18항에 있어서,상기 입계 절연형 유전체는 비유전율이 1MHz 이상의 주파수 영역에서 1400 내지 3200이고, 유전손실은 10 내지 20% 인 것을 특징으로 하는 입계 절연형 유전체
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제18항에 있어서,상기 입계 절연형 유전체는 주파수 영역에 관계없이 비유전율 변화폭이 0 내지 20으로 유지되고, 유전손실 변화폭이 0 내지 2%로 유지되는 것을 특징으로 하는 입계 절연형 유전체
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제14항 또는 제18항에 있어서,상기 입계 절연형 유전체에서 강유전체의 비율은 상기 티탄산 화합물 대비 2 내지 20 mol%인 것을 특징으로 하는 입계 절연형 유전체 제조방법
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