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간섭 리소그래피 장치

기술번호 : KST2019030945
담당센터 : 서울서부기술혁신센터
전화번호 : 02-6124-6930

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	간섭 리소그래피 장치가 개시된다. 간섭 리소그래피 장치는 Z축 방향으로 진행하는 소스 광을 제공하는 광원; 상기 광원에서 제공된 상기 소스 광을 상기 Z축에 수직한 Y축 방향으로 편향시키는 제1편향 소자; 및 상기 제1편향 소자에서 편향된 광을 상기 Z축 및 상기 Y축에 수직한 X축 방향으로 편향시키는 제2편향 소자를 포함한다.
Int. CL	G03F 7/20 (2006.01.01) G03F 9/00 (2006.01.01)
CPC	G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01)
출원번호/일자	1020160110335 (2016.08.29)
출원인	한양대학교 산학협력단
등록번호/일자	10-1750209-0000 (2017.06.16)
공개번호/일자
공고번호/일자	(20170622) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보	대한민국 \| 1020160044702 \| 2016.04.12
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2016.08.29)
심사청구항수	13

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한양대학교 산학협력단	대한민국	서울특별시 성동구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	류영화	대한민국	경기도 고양시 일산동구
2	송석호	대한민국	서울특별시 동작구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	박상열	대한민국	서울 금천구 가산디지털로 층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한양대학교 산학협력단	대한민국	서울특별시 성동구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2016.08.29	수리 (Accepted)	1-1-2016-0841294-09
2	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2016.10.11	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2017.01.09	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2017-0005332-19
4	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2017.01.10	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0022637-15
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2017.03.08	수리 (Accepted)	1-1-2017-0230942-57
6	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2017.03.08	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2017-0230961-14
7	등록결정서 Decision to grant	2017.06.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0418150-14
8	[출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment	2017.11.01	수리 (Accepted)	1-1-2017-1084479-16
9	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.05	수리 (Accepted)	4-1-2019-5155816-75
10	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.06	수리 (Accepted)	4-1-2019-5156285-09

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 Z축 방향으로 진행하는 소스 광을 제공하는 광원;상기 광원에서 제공된 상기 소스 광을 상기 Z축에 수직한 Y축 방향으로 편향시키는 제1편향 소자; 및상기 제1편향 소자에서 편향된 광을 상기 Z축 및 상기 Y축에 수직한 X축 방향으로 편향시키는 제2편향 소자를 포함하되,상기 제1편향 소자에서 편향된 광은 상기 소스 광의 1차 편향광을 포함하고,상기 소스 광의 1차 편향광이 통과하는 제1편광판; 및상기 제1편광판를 통과한 상기 소스 광의 1차 편향광을 반사광과 투과광으로 분리하는 제1빔 스플리터를 포함하되,상기 제2편향 소자에는 상기 반사광과 상기 투과광이 입사되는 간섭 리소그래피 장치
2	2 제 1 항에 있어서,상기 제1편향 소자는 상기 Y축 방향으로 광의 편향 각도 조절이 가능하고,상기 제2편향 소자는 상기 X축 방향으로 광의 편향 각도 조절이 가능한 간섭 리소그래피 장치
3	3 제 2 항에 있어서,상기 제1편향 소자 및 상기 제2편향 소자는 AOD, EOD, 그리고 MOD 중 어느 하나를 포함하는 간섭 리소그래피 장치
4	4 삭제
5	5 제 1 항에 있어서,상기 소스 광의 1차 편향광은 상기 X축 방향으로 편향된 광 성분과 상기 Y축 방향으로 편향된 광 성분을 포함하며,상기 X축 방향으로 편향된 광 성분과 상기 Y축 방향으로 편향된 광 성분 중 어느 하나는 상기 제1빔 스플리터에서 반사되어 상기 반사광으로 제공되고, 다른 하나는 상기 제1빔 스플리터를 투과하여 상기 투과광으로 제공되는 간섭 리소그래피 장치
6	6 제 1 항에 있어서,상기 제1편광판은 상기 Y축에 대해 45°의 편향 방향을 가지는 간섭 리소그래피 장치
7	7 제 1 항에 있어서,상기 제1편향 소자에서 편향된 광은 상기 소스 광의 0차 편향광을 더 포함하고,상기 제1편광판과 상기 제1빔 스플리터 사이에 위치하며, 상기 소스 광의 0차 편향광을 차단하는 제1차단판을 더 포함하는 간섭 리소그래피 장치
8	8 제 1 항에 있어서,상기 제2편향 소자에서 편향되는 광은 상기 반사광의 1차 편향광과 상기 투과광의 1차 편향광을 포함하고,상기 반사광의 1차 편향광과 상기 투과광의 1차 편향광이 통과하는 제2편광판; 및상기 제2편광판을 통과한 상기 반사광의 1차 편향광과 상기 투과광의 1차 편향광 중 어느 하나는 반사하고, 다른 하나는 투과하는 제2빔 스플리터를 포함하는 간섭 리소그래피 장치
9	9 제 8 항에 있어서,상기 제2편광판은 상기 X축과 나란한 방향으로 편향 방향을 갖는 제1영역; 및상기 Y축과 나란한 방향으로 편향 방향을 갖는 제2영역을 포함하는 간섭 리소그래피 장치
10	10 제 8 항에 있어서,상기 제2편향 소자에서 편향되는 광은 상기 반사광의 0차 편향광과 상기 투과광의 0차 편향광을 포함하고,상기 제2편광판과 상기 제2빔 스플리터 사이에 위치하며, 상기 반사광의 0차 편향광과 상기 투과광의 0차 편향광을 차단하는 제2차단판을 더 포함하는 간섭 리소그래피 장치
11	11 Z축 방향으로 진행하는 소스 광을 제공하는 광원;상기 광원에서 제공된 상기 소스 광을 상기 Z축에 수직한 Y축 방향으로 편향시키는 제1편향 소자; 및상기 제1편향 소자에서 편향된 광을 상기 Z축 및 상기 Y축에 수직한 X축 방향으로 편향시키는 제2편향 소자를 포함하되,상기 제1편향 소자와 상기 제2편향 소자 사이에 위치하며, 상기 제1편향 소자에서 편향된 광의 일부만을 통과시키는 제1패스 필터; 및상기 제2편향 소자의 후단에 위치하며, 상기 제2편향 소자에서 편향된 광의 일부만을 통과시키는 제2패스 필터를 포함하는 간섭 리소그래피 장치
12	12 제 11 항에 있어서,상기 제2패스 필터는 상기 제2편향 소자에서 편향된 광들 중 2개의 편향광만을 통과시키는 간섭 리소그래피 장치
13	13 제 12 항에 있어서,상기 제2패스 필터는 상기 제2편향 소자에서 편향된 광들 중 동일 차수의 2개의 편향광만을 통과시키는 간섭 리소그래피 장치
14	14 제 11 항에 있어서,상기 제1패스 필터에는 길이 방향이 X축 방향과 나란한 슬릿 개구가 형성되고,상기 제2 패스필터에는 길이 방향이 Y축 방향과 나란한 슬릿 개구들이 형성된 간섭 리소그래피 장치

순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	산업통상자원부	한양대학교 산학협력단	산업기술혁신사업 / 산업핵심기술개발사업 / 전자정보디바이스산업원천기술개발사업(RCMS)	Micro-dot 홀로그램을 이용한 고색재현 디스플레이 박막 개발

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-1750209-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20160829 출원 번호 : 1020160110335 공고 연월일 : 20170622 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20170616 청구범위의 항수 : 13 유별 : G03F 7/20 발명의 명칭 : 간섭 리소그래피 장치 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	276,000 원	2017년 06월 16일	납입
제 4 년분	금 액	192,340 원	2020년 12월 08일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2016.08.29	수리 (Accepted)	1-1-2016-0841294-09
2	선행기술조사의뢰서	2016.10.11	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서	2017.01.09	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2017-0005332-19
4	의견제출통지서	2017.01.10	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0022637-15
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2017.03.08	수리 (Accepted)	1-1-2017-0230942-57
6	[명세서등 보정]보정서	2017.03.08	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2017-0230961-14
7	등록결정서	2017.06.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0418150-14
8	[출원서등 보정]보정서	2017.11.01	수리 (Accepted)	1-1-2017-1084479-16
9	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.05	수리 (Accepted)	4-1-2019-5155816-75
10	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.06	수리 (Accepted)	4-1-2019-5156285-09


과제고유번호	1711041064
세부과제번호	10051423
연구과제명	Micro-dot 홀로그램을 이용한 고색재현 디스플레이 박막 개발
성과구분	출원
부처명	미래창조과학부
연구관리전문기관명
연구주관기관명
성과제출연도	2016
연구기간	201606~201705
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	IT(정보기술)


과제고유번호	1711041064
세부과제번호	10051423
연구과제명	Micro-dot 홀로그램을 이용한 고색재현 디스플레이 박막 개발
성과구분	등록
부처명	미래창조과학부
연구관리전문기관명
연구주관기관명
성과제출연도	2016
연구기간	201606~201705
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	IT(정보기술)

특허성과

[1020160110335]	간섭 리소그래피 장치	새창보기

중요키워드

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