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a) 고분자 물질을 포함하는 몸체부를 준비하는 단계; b) 10 W/㎠ 내지 10 kW/㎠ 밀도의 펄스 직류 전력을 이용한 플라즈마 이온 주입법에 의하여, 생체 활성 물질의 플라즈마 이온 및 생체 적합성 물질의 플라즈마 이온을 상기 몸체부에 주입하는 단계; 및 c) 1 W/㎠ 내지 50 W/㎠ 밀도의 직류 전력을 이용한 공동증착법에 의하여, 상기 몸체부의 표면에 생체 활성 물질 및 생체 적합성 물질을 포함하는 증착층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 플라즈마 이온 주입법 및 공동증착법은 각각 상기 생체 활성 물질 및 상기 생체 적합성 물질을 5:95 내지 30:70의 원자비로 포함하는 타겟을 이용하며, 상기 생체 활성 물질은 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 하이드록시 아파타이트(hydroxyapatite), 및 β-TCP(β-tricalcium phosphate) 중 적어도 하나를 포함하고,상기 생체 적합성 물질은 실리콘, 티타늄, 코발트, 크롬, 아연, 탄탈럼, 게르마늄, 스테인리스강, 금, 백금, 알루미나, 및 지르코니아 중 적어도 하나를 포함하는, 생체 활성 고분자 임플란트의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자 물질은 폴리아릴에테르케톤(PAEK)인 것을 특징으로 하는, 생체 활성 고분자 임플란트의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 공동증착법은 스퍼터링 또는 음극 아크 증착을 이용하는 것을 특징으로 하는, 생체 활성 고분자 임플란트의 제조방법
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청구항 1에 있어서, b) 단계 이전에, 상기 몸체부의 표면을 샌딩(sanding) 처리 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 생체 활성 고분자 임플란트의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 증착층의 두께는 10 ㎚ 이상 10 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 생체 활성 고분자 임플란트의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 생체 활성 고분자 임플란트는 체내에서 상기 생체 활성 물질이 용해되어 다공성 구조가 형성되는 것을 특징으로 하는, 생체 활성 고분자 임플란트의 제조방법
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청구항 1, 4 내지 7, 및 10 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의하여 제조된 생체 활성 고분자 임플란트
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