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레이저를 이용한 아파타이트 피막 형성방법

  • 기술번호 : KST2020002145
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 기판의 적어도 일부 영역에 Ca2+ 이온 및 PO43- 이온을 포함하는 전구체 용액을 직접 접촉시키는 단계, 상기 전구체 용액을 통과하여 상기 전구체 용액과 직접 접촉되는 기판 상의 영역으로 레이저를 조사하는 단계, 및 상기 레이저가 조사된 영역에 아파타이트를 형성하는 단계를 포함하는, 아파타이트 피막 형성 방법을 제공한다.
Int. CL C23C 16/48 (2006.01.01) C23C 18/14 (2006.01.01) A61L 27/32 (2006.01.01) A61L 27/06 (2006.01.01) A61F 2/28 (2006.01.01)
CPC C23C 16/483(2013.01) C23C 16/483(2013.01) C23C 16/483(2013.01) C23C 16/483(2013.01) C23C 16/483(2013.01) C23C 16/483(2013.01) C23C 16/483(2013.01) C23C 16/483(2013.01)
출원번호/일자 1020180104453 (2018.09.03)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0026475 (2020.03.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.09.03)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전호정 서울특별시 성북구
2 엄승훈 서울특별시 성북구
3 정용우 서울특별시 성북구
4 서현선 서울특별시 성북구
5 김유찬 서울특별시 성북구
6 옥명렬 서울특별시 성북구
7 석현광 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 김한 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
3 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2018-0871567-85
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.02.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.04.12 수리 (Accepted) 9-1-2019-0017839-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0070755-46
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2020.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0348801-46
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번호 청구항
1 1
아파타이트 형성을 위한 전구체용액을 담지하되, 상기 전구체용액이 기판과 직접 접촉할 수 있는 환경을 제공하는 전구체용액담지부; 및 상기 전구체용낵담지부 내에 담지되는 전구체용액을 통과하여 상기 전구체용액과 상기 기판이 직접 접촉된 상태에서 상기 기판으로 레이저빔이 조사될 수 있도록 배치되는 레이저 발생장치; 를 포함하는, 아파타이트 피막 형성장치
2 2
제 1 항에 있어서, 기판이 놓여질 수 있는 기판수용부; 를 더 포함하고,상기 전구체용액담지부는 담지된 상기 전구체용액이 기판과 직접 접촉될 수 있도록 적어도 일부에 개방부를 가지는, 아파타이트 피막 형성장치
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 전구체용액담지부의 개방부는 기판에 의해 밀봉될 수 있는 구조를 가지는, 아파타이트 피막 형성장치
4 4
제 1 항에 있어서, 기판이 놓여질 수 있는 기판수용부; 를 더 포함하고,상기 기판수용부는 상기 전구체용액담지부 내부에 형성되는, 아파타이트 피막 형성장치
5 5
(a) 기판의 적어도 일부 영역에 Ca2+ 이온 및 PO43- 이온을 포함하는 아파타이트 형성용 전구체 용액을 직접 접촉시키는 단계; (b) 상기 전구체 용액을 통과하여 상기 전구체 용액과 직접 접촉되는 기판 상의 영역으로 레이저빔을 조사하는 단계; 및 (c) 상기 레이저빔이 조사된 영역에 아파타이트를 형성하는 단계; 를 포함하는, 아파타이트 피막 형성방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 (c) 단계 이후에(d) 상기 전구체 용액을 제거한 후 상기 아파타이트가 형성된 영역으로 레이저빔을 조사하여 아파타이트의 일부를 제거하는 단계; 를 더 포함하는, 아파타이트 피막 형성방법
7 7
제 5 항에 있어서, 상기 전구체 용액은 DMEM(Dulbecco Modified Eagle Medium), HBP(Human blood plasma) 및 SBF(Simulated body fluid) 중에서 선택되는 하나인,아파타이트 피막 형성방법
8 8
제 5 항에 있어서, 상기 전구체 용액은 1배 내지 400배로 농축하여 사용되는 것인,아파타이트 피막 형성방법
9 9
제 5 항에 있어서, 상기 레이저빔을 조사하는 단계는, 상기 레이저빔을 소정의 거리만 일방향으로 스캐닝하는 단계를 1회 이상 반복하여 조사하는 것인, 아파타이트 피막 형성방법
10 10
제 5 항에 있어서, 상기 레이저빔을 조사하는 단계는, 상기 레이저빔을 소정의 거리만큼 지그재그 방향으로 스캐닝하는 단계를 1회 이상 반복하여 조사하는 것인,아파타이트 피막 형성방법
11 11
제 5 항에 있어서, 상기 기판은 티타늄(Ti), 티타늄 합금, 마그네슘(Mg) 및 마그네슘 합금 중 어느 하나를 포함하는, 아파타이트 피막 형성방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20200071834 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2020071834 US 미국 DOCDBFAMILY
2 WO2020050579 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.