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증거물에 잔류하는 물질을 감식하기 위한 흔적증거물 감식방법으로서,상기 증거물로부터 획득된 대상증거물과 하나 이상의 기준시료가 시료대에 배치되는 단계;상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료를 동시에 덮고, 복수 개의 구멍을 포함하는 금속 마이크로어레이 커버가 상기 시료대 위에 고정되는 단계;이차이온 질량분석기(Secondary Ion Mass Spectrometry)를 이용하여 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료에 대하여 이온이미지 및 질량스펙트럼을 생성하는 단계;상기 질량스펙트럼으로부터 특정 이온세기 이상의 피크들로 구성된 피크목록을 생성하는 단계; 상기 피크목록에 포함된 피크들에 대한 이온이미지 매핑을 재생성하는 단계; 및이온이미지 패턴을 비교하여 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료의 동일성을 판단하는 단계;를 포함하는, 흔적증거물 감식방법
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제1항에 있어서,상기 이온이미지 내에서 관심영역(ROI)에 대한 질량스펙트럼을 재구성하는 단계; 상기 재구성된 질량스펙트럼으로부터 특정 이온세기 이상의 피크들을 비교하여 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료의 동일성을 판단하는 단계;를 더 포함하는, 흔적증거물 감식방법
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제1항에 있어서,상기 금속 마이크로어레이 커버의 복수 개의 구멍은 모두 동일한 모양 및 크기를 갖는, 흔적증거물 감식방법
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제3항에 있어서,상기 금속 마이크로어레이 커버의 복수 개의 구멍은 원형, 타원형, 사각형, 삼각형, 별모양 중 어느 하나의 모양을 갖고, 50 내지 500㎛ 사이의 지름 크기를 갖는, 흔적증거물 감식방법
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제1항에 있어서,상기 이온이미지 및 질량스펙트럼을 생성하는 단계는, 상기 이차이온 질량분석기로 상기 금속 마이크로어레이 커버로 덮인 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료의 전체 영역에 일차이온을 충돌시켜 동시에 상기 전체 영역의 이온이미지와 질량스펙트럼을 측정하는 단계;를 포함하는, 흔적증거물 감식방법
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제1항에 있어서,상기 대상증거물은 종이, 휴지, 직물, 유리, 플라스틱에 묻어있는 화장품류,기름류, 마약류, 잉크류, 특수약품류, 오염물질류 중 어느 하나로 구성되는, 흔적증거물 감식방법
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제1항에 있어서,상기 금속 마이크로어레이 커버는 스테인레스 스틸, 알루미늄, 구리, 타이타늄, 금, 은 중 하나 이상으로 구성되는, 흔적증거물 감식방법
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제1항에 있어서,상기 피크목록은 상대적인 이온세기가 100 counts/sec 이상의 임의의 값을 하한(lower bound)으로 하는 피크들로 구성되는, 흔적증거물 감식방법
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증거물에 잔류하는 물질을 감식하기 위한 흔적증거물 감식장치로서,상기 증거물로부터 획득된 대상증거물과 하나 이상의 기준시료가 배치되는 시료대;상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료를 동시에 덮고, 상기 시료대 위에 고정되는 복수 개의 구멍을 포함하는 금속 마이크로어레이 커버;상기 금속 마이크로어레이 커버로 덮인 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료에 대하여 이온이미지 및 질량스펙트럼을 생성하는 이차이온 질량분석기(Secondary Ion Mass Spectrometry); 및 상기 이차이온 질량분석기를 제어하는 하나 이상의 프로세서를 포함하고, 상기 하나 이상의 프로세서는, 상기 질량스펙트럼으로부터 특정 이온세기 이상의 피크들로 구성된 피크목록을 생성하고, 상기 피크목록에 포함된 피크들에 대한 이온이미지 매핑을 재생성하고, 이온이미지 패턴을 비교하여 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료의 동일성을 판단하는, 흔적증거물 감식장치
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제9항에 있어서,상기 하나 이상의 프로세서는, 상기 이온이미지 내에서 관심영역(ROI)에 대한 질량스펙트럼을 재구성하고, 상기 재구성된 질량스펙트럼으로부터 특정 이온세기 이상의 피크들을 비교하여 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료의 동일성을 판단하는, 흔적증거물 감식장치
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제9항에 있어서,상기 금속 마이크로어레이 커버의 복수 개의 구멍은 모두 동일한 모양 및 크기로 구성된, 흔적증거물 감식장치
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제9항에 있어서,상기 금속 마이크로어레이 커버의 복수 개의 구멍은 원형, 타원형, 사각형, 삼각형, 별모양 중 어느 하나의 모양을 갖고, 50 내지 500㎛ 사이의 지름 크기를 갖는, 흔적증거물 감식장치
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제9항에 있어서,상기 이차이온 질량분석기는, 상기 금속 마이크로어레이 커버로 덮인 상기 대상증거물과 상기 하나 이상의 기준시료의 전체 영역에 일차이온을 충돌시켜 동시에 상기 전체 영역의 이온이미지와 질량스펙트럼을 측정하는, 흔적증거물 감식장치
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제9항에 있어서,상기 대상증거물은 종이, 휴지, 직물, 유리, 플라스틱에 묻어있는 화장품류,기름류, 마약류, 잉크류, 특수약품류, 오염물질류 중 어느 하나로 구성되는, 흔적증거물 감식장치
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제9항에 있어서,상기 금속 마이크로어레이 커버는 스테인레스 스틸, 알루미늄, 구리, 타이타늄, 금, 은 중 하나 이상으로 구성되는, 흔적증거물 감식장치
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제9항에 있어서,상기 피크목록은 상대적인 이온세기가 100counts/sec 이상의 임의의 값을 하한으로 하는 피크들로 구성되는, 흔적증거물 감식장치
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