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베이스 기판 상에 제1 봉지층을 형성하는 것;상기 제1 봉지층의 상면에 제2 봉지층을 직접 형성하는 것; 상기 제2 봉지층을 패터닝하여 격벽들을 형성하는 것; 및상기 격벽들 사이에 컬러 용액들을 제공하는 것을 포함하되,상기 컬러 용액들에 대한 상기 제1 봉지층의 젖음(wetting) 특성이, 상기 컬러 용액들에 대한 상기 격벽들의 젖음 특성보다 큰 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 기판은 CMOS(상보성 금속 산화물 반도체, Complementary Metal Oxide Semiconductor) 반도체 패턴이 형성된 실리콘 기판을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 봉지층은 무기 산화물을 포함하고,상기 제2 봉지층은 산소를 포함하지 않는 무기 화합물을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 봉지층은 산화알루미늄(Al2O3)을 포함하고,상기 제2 봉지층은 실리콘 나이트라이드(SiNx)를 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 봉지층을 형성하는 것 및 상기 제2 봉지층을 형성하는 것은 원자층 증착법(ALD), 플라즈마 화학 기상 증착법(PECVD), 또는 스퍼터링(Sputtering) 을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 제2 봉지층을 패터닝하는 것은,상기 제2 봉지층 상에 감광막을 형성하는 것;상기 감광막을 패터닝하여 마스크 패턴을 형성하는 것; 및상기 마스크 패턴을 식각 마스크로 이용하여 상기 제2 봉지층을 선택적으로 식각하는 것을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 격벽들의 각각의 두께는 상기 제1 봉지층의 두께보다 큰 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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베이스 기판 상에 제1 봉지층을 형성하는 것;상기 제1 봉지층의 상면에 제2 봉지층을 직접 형성하는 것; 상기 제2 봉지층을 패터닝하여 격벽들을 형성하는 것; 및상기 격벽들 사이에 컬러 패턴들을 형성하는 것을 포함하되,상기 컬러 패턴들을 형성하는 것은 용액 공정으로 형성하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 컬러 패턴들을 형성하는 것은,상기 격벽들에 의해 노출된 제1 봉지층의 상면에 직접 컬러 용액들을 제공하는 것; 및상기 컬러 용액들을 건조시키는 것을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 용액 공정은 잉크젯 방식을 이용하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 컬러 패턴들은 컬러 필터들 또는 색 변환층 및 컬러 필터의 조합을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제8 항에 있어서, 상기 컬러 패턴들의 각각의 두께는 상기 격벽들의 각각의 두께보다 큰 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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