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상면에 포토레지스트 층이 도포된 기판 및 기설정된 패턴이 형성된 포토마스크가 순차적으로 적층 배치되는 기판고정부;상기 기판고정부 상측에 구비되며, 광조사영역 면적이 상기 기판의 전체 면적보다 상대적으로 작게 형성되되, 상기 기판 상면을 향해 평행빔을 조사하는 평행광원부;상기 평행광원부에서 조사되는 광조사영역이 상기 기판의 전체 면적을 스캔하도록, 상기 기판이 형성하는 평면 방향을 따라 상기 평행광원부 및 상기 기판을 상대적으로 이송시키는 광원이송부;상기 포토레지스트 층이 노광 및 경화되어 상기 기판 상에 형성되는 구조물의 높이 방향의 경사 각도가 상기 기판 평면 상의 위치에 따라 기설정된 설계에 따라 형성되도록, 상기 평행광원부에서 조사되는 평행빔의 각도를 조절하는 광원회전부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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제 1항에 있어서, 상기 평행광원부는,하면이 개방된 투과계하우징과, 상기 투과계하우징 내 상측에 구비되어 모든 방향으로 광을 발산하는 투과계점광원과, 상기 투과계하우징 내 상기 투과계점광원 하측에 구비되어 상기 투과계점광원에서 발산되는 광을 투과시켜 평행빔으로 변환하는 시준렌즈를 포함하며,상기 투과계점광원에서 발산된 광이 상기 시준렌즈를 투과하여 만들어진 평행빔이 상기 투과계하우징 하면으로 조사됨으로써, 상기 기판 상면을 향해 평행빔을 조사하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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제 1항에 있어서, 상기 평행광원부는,하면이 개방된 반사계하우징과, 상기 반사계하우징 내에 구비되어 모든 방향으로 광을 발산하는 반사계점광원과, 상기 반사계하우징 내 상기 반사계점광원 상측에 구비되어 상기 반사계점광원에서 발산되는 광을 반사시켜 평행빔으로 변환하는 포물면거울을 포함하며,상기 반사계점광원에서 발산된 광이 상기 포물면거울에서 반사되어 만들어진 평행빔이 상기 반사계하우징 하면으로 조사됨으로써, 상기 기판 상면을 향해 평행빔을 조사하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 광원이송부는,상기 기판고정부 상측에 구비되며, 상기 기판이 형성하는 평면 방향을 따라 상기 평행광원부를 이송시키도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 광원회전부는,상기 평행광원부 전체를 회전시키도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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제 1항에 있어서, 상기 평행광원부는,측면 일부 및 하면이 개방된 하우징과, 상기 기판이 형성하는 평면과 평행한 방향으로 진행하며 상기 하우징의 개방된 측면 일부를 향해 조사되는 평행빔을 발산하는 대형평행빔광원과, 상기 하우징 내에 구비되어 상기 하우징의 개방된 측면 일부로 조사되는 광을 반사시켜 하방으로 광경로를 변경하는 반사거울을 포함하며,상기 대형평행빔광원에서 조사된 평행빔이 상기 반사거울에 의해 광경로가 변경되어 상기 하우징 하면으로 조사됨으로써, 상기 기판 상면을 향해 평행빔을 조사하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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제 6항에 있어서, 상기 광원이송부는,상기 기판고정부 상측에 구비되며, 상기 기판이 형성하는 평면 방향을 따라 상기 하우징 및 상기 반사거울로 이루어지는 조립체를 이송시키도록 이루어지며,상기 대형평행빔광원은 고정 구비되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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8
제 6항에 있어서, 상기 광원회전부는,상기 반사거울을 회전시키도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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제 1항에 있어서, 상기 포토리소그래피 장치는,상기 기판고정부 상측에 구비되며, 상기 기판이 형성하는 평면과 평행한 평면을 형성하는 마스크고정부와,상기 기판고정부 및 상기 마스크고정부 사이에 개재되며, 상기 기판이 형성하는 평면에 수직하게 연장되고, 신축가능하게 이루어져, 상기 기판고정부 및 상기 마스크고정부 사이 간격을 조절하는 수직조절부와,상기 수직조절부 및 상기 마스크고정부 사이에 개재되며, 상기 기판이 형성하는 평면과 평행하게 이송가능하게 이루어져, 상기 기판 및 상기 포토마스크 간 정렬 위치를 조절하는 수평조절부를 포함하는 마스크정렬부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
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상면에 포토레지스트 층이 도포된 기판 및 기설정된 패턴이 형성된 포토마스크가 기판고정부 상면에 순차적으로 적층 배치되는 기판배치단계;광원회전부에 의하여 평행광원부에서 조사되는 평행빔의 각도가 조절되는 평행빔각도조절단계;광원이송부에 의하여 상기 기판이 형성하는 평면 방향을 따라 상기 평행광원부 및 상기 기판이 상대적으로 이송되어, 상기 광원회전부에 의하여 설정된 각도로 상기 기판 상면을 향해 평행빔을 조사하는 상기 평행광원부가 상기 기판을 스캔하여 노광하는 평행빔노광단계;를 포함하되,상기 포토레지스트 층이 노광 및 경화되어 상기 기판 상에 형성되는 구조물의 높이 방향의 경사 각도가 상기 기판 평면 상의 위치에 따라 기설정된 설계에 따라 형성되도록,상기 평행빔노광단계 이전에 상기 평행빔각도조절단계가 단일 회 수행됨에 따라, 상기 포토레지스트 층이 노광 및 경화되어 상기 기판 상에 형성되는 구조물의 높이 방향의 경사 각도가 상기 기판 평면 상의 위치에 따라 서로 동일하게 형성되거나,상기 평행빔노광단계 이전 또는 수행 중에 상기 평행빔각도조절단계가 복수 회 수행됨에 따라, 상기 포토레지스트 층이 노광 및 경화되어 상기 기판 상에 형성되는 구조물의 높이 방향의 경사 각도가 상기 기판 평면 상의 위치에 따라 서로 상이하게 형성되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법
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제 10항에 있어서, 상기 평행빔노광단계는,평행빔의 이동 속도 및 평행빔의 이동 간격을 사용하여 상기 포토레지스트 층의 경화에 필요한 광 에너지량이 제어되면서 노광이 수행되도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법
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제 10항에 있어서, 상기 포토리소그래피 방법은,상기 기판배치단계 및 상기 평행빔각도조절단계 사이에,마스크정렬부에 의하여 상기 기판이 형성하는 평면에 수직 및 수평 방향으로 상기 포토마스크가 이송되어 상기 기판 및 상기 포토마스크가 정렬되는 마스크정렬단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법
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