| [KST2015073973][한국전자통신연구원] |
반도체장치의금속배선형성방법 |
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| [KST2015095485][한국전자통신연구원] |
다층의 금속 배선 제조 방법 |
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| [KST2018000096][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 및 그의 제조 방법(A SEMICONDUCTOR DEVICE AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME) |
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| [KST2022020767][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 및 이의 제조방법 |
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| [KST2015100665][한국전자통신연구원] |
다층 금속 배선방법 |
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| [KST2018004012][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 및 이의 제조 방법(SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME) |
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| [KST2015089884][한국전자통신연구원] |
첨두 전력 저감 회로 및 이를 포함하는 반도체 장치 |
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| [KST2015091597][한국전자통신연구원] |
반도체 장치 및 그 제조방법 |
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| [KST2015102301][한국전자통신연구원] |
직접회로에서의금속배선제조방법 |
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| [KST2017012675][한국전자통신연구원] |
다중 채널을 갖는 트랜지스터(transistor having multichannel) |
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| [KST2017014166][한국전자통신연구원] |
압력 센서 및 그 제조 방법(PRESSURE SENSOR AND THE METHOD OF MANUFACTURING THE SAME) |
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| [KST2018007968][한국전자통신연구원] |
유연 기판의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 유연 기판 |
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| [KST2019002640][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 및 이의 제조 방법 |
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| [KST2015074842][한국전자통신연구원] |
플리머를 다층으로 적층하기 위한 방법 |
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| [KST2015076684][한국전자통신연구원] |
자기정렬형함몰채널구조를기반으로하는고집적저전압이이피롬셀의구조및그제조방법 |
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| [KST2015100899][한국전자통신연구원] |
수평 잠재 중첩표와 네트 상하 관계표를 이용한 채널 배선 방법 |
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| [KST2018000876][한국전자통신연구원] |
전자 소자 및 그의 제조 방법(Electronic device and method of fabricating the same) |
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| [KST2019006332][한국전자통신연구원] |
유연 기판의 제조 방법 및 유기발광다이오드의 제조 방법 |
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| [KST2021001175][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 제조방법 |
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| [KST2015077663][한국전자통신연구원] |
반도체 소자의 금속배선 형성 방법 |
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| [KST2017006854][한국전자통신연구원] |
금속 스탬프 제조 방법(A METHOD OF MANUFACTURING METAL STAMPS) |
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| [KST2017013857][한국전자통신연구원] |
질화물계 트랜지스터의 제조 방법(METHOD FOR MANUFACTURING NITRIDE-BASED TRANSISTOR) |
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| [KST2018001362][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 및 그 제조 방법(A SEMICONDUCTOR DEVICE AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME) |
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| [KST2017012674][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 및 그 제조 방법(SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME) |
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| [KST2021005412][한국전자통신연구원] |
반도체 소자의 제조 방법 |
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