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기판의 결정화를 위한 결정화 모듈; 및상기 결정화 모듈에 의해 결정화된 상기 기판의 결정화도를 검사하기 위한 검사 모듈을 포함하고,상기 검사 모듈은, 상기 기판에 테라헤르츠 파를 조사하는 방출부,상기 테라헤르츠 파가 상기 기판의 제1 영역에 조사하도록 광 경로를 조정하는 조정부 -상기 제1 영역은 상기 결정화 모듈에 의해 결정화된 영역 중 적어도 일부의 영역임-,상기 제1 영역에 조사된 상기 테라헤르츠 파가 상기 기판에서 반사된 반사 테라헤르츠 파를 수신하는 수신부, 및상기 수신부가 수신한 상기 반사 테라헤르츠 파를 통해 상기 기판의 결정화도를 판단하는 제어부를 포함하는, 기판 검사 장치
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제1 항에 있어서,상기 조정부는, 상기 방출부로부터 조사되는 상기 테라헤르츠 파의 경로를 변환시키는 경로 변환 부재, 및변환된 상기 테라헤르츠 파의 경로에 따라 상기 기판에 복수의 제2 영역을 형성하게 하는 초점 조정 부재 -상기 제1 영역은 상기 복수의 제2 영역의 합으로 정의됨-, 를 포함하는, 기판 검사 장치
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제2 항에 있어서,상기 경로 변환 부재는 상기 방출부를 기준으로 소정의 각도로 회전하는 반사 미러인,기판 검사 장치
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제1 항에 있어서,상기 조정부는 상기 방출부로부터 조사되는 상기 테라헤르츠 파의 적어도 일부를 소정의 각도로 반사시키는 제1 빔 스플리터 및 제2 빔 스플리터를 포함하고,상기 제1 빔 스플리터와 상기 제2 빔 스플리터는 소정의 거리로 이격되어 위치하고, 상기 제1 빔 스플리터에 의해 변환된 상기 테라헤르츠 파는 상기 기판에 제2 영역을 형성하고, 상기 제2 빔 스플리터에 의해 변환된 상기 테라헤르츠 파는 상기 기판에 제3 영역을 형성하고, 상기 제1 영역은 상기 제2 영역 및 상기 제3 영역의 합으로 정의되는, 기판 검사 장치
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제2 항 또는 제4 항에 있어서,상기 제어부는 상기 조정부가 상기 결정화 모듈에서 처리된 결정화 영역에 따라 상기 제1 영역을 조정하도록 제어하는,기판 검사 장치
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상기 제1 항에 있어서,상기 테라헤르츠 파가 조사되는 상기 방출부의 광원은 펄스형 또는 연속형 광원인,기판 검사 장치
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제1 항에 있어서,상기 연산부는 상기 수신부가 수신한 상기 반사 테라헤르츠 파의 주파수 및 수신 시간에 관한 데이터를 통해 상기 제1 영역의 결정화도를 정량적으로 측정하는,기판 검사 장치
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제1 항에 있어서,상기 검사 모듈에 의해 검출된 상기 기판의 상기 제1 영역의 결정화도를 영상화하는 영상 모듈을 더 포함하는, 기판 검사 장치
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기판의 결정화를 위한 결정화 단계; 및상기 결정화 모듈에 의해 결정화된 상기 기판의 결정화도를 검사하기 위한 검사 단계를 포함하고, 상기 검사 단계는, 상기 기판에 테라헤르츠 파를 조사하는 방출 단계,상기 테라헤르츠 파가 상기 기판의 제1 영역에 조사하도록 광 경로를 조정하는 조정 단계 -상기 제1 영역은 상기 결정화 처리부에 의해 결정화된 영역 중 적어도 일부의 영역임-,상기 제1 영역에 조사된 상기 테라헤르츠 파가 상기 기판에서 반사된 반사 테라헤르츠 파를 수신하는 수신 단계, 및상기 수신부가 수신한 상기 반사 테라헤르츠 파를 통해 상기 기판의 결정화도를 제어부에 의해 판단하는 단계를 포함하는,기판 검사 방법
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