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금속기판; 상기 금속기판 상부에 형성된, 광투과성 유전체층; 및 상기 광투과성 유전체층 상부면에 형성된, 서로 이격된 복수의 금속나노입자;를 포함하는, 색채화된 표면을 가지는 금속부재
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제 1 항에 있어서,상기 금속기판은 Fe, Al, Cu, Ni, Mg, Zn, Ti, Cr, Ag, Au, Pt, Pd 순금속 및 그 합금 중 어느 하나를 포함하는,색채화된 표면을 가지는 금속부재
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제 1 항에 있어서,상기 광투과성 유전체는 TiO2, Al2O3, MgO, SiO2, ITO(Indium Tin Oxide) 및 Si3N4 중 어느 하나를 포함하는,색채화된 표면을 가지는 금속부재
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제 1 항에 있어서,상기 금속나노입자는 Au, Ag, Al, Pt, Cu, Pd, Zn, Ti, Cr, Ni, Ru 순금속 및 합금 중 어느 하나를 포함하는,색채화된 표면을 가지는 금속부재
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제 1 항에 있어서,상기 금속나노입자는 평균 입자 크기가 2㎚ 내지 50㎚ 범위인,색채화된 표면을 가지는 금속부재
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제 1 항에 있어서,상기 광투과성 유전체는 두께가 5㎚ 내지 200㎚ 범위인,색채화된 표면을 가지는 금속부재
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금속기판의 적어도 일면에 광투과성 유전체층을 형성하는 단계; 및상기 광투과성 유전체층의 적어도 일면에 서로 이격된 복수의 금속나노입자를 형성하는 단계;를 포함하는, 금속 표면의 색채화 방법
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제 7 항에 있어서,상기 금속나노입자를 형성하는 방법은 PVD(Physical Vapor Deposition), CVD(Chemical Vapor Deposition) 및 ALD(Atomic Layer Depostion) 중에서 선택되는 어느 하나를 포함하는, 금속 표면의 색채화 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 광투과성 유전체층의 두께 및 상기 금속나노입자의 두께 중 어느 하나 이상을 변화시켜 상기 금속기판으로 입사된 광파장 중 흡수되는 파장 대역을 제어하는, 금속 표면의 색채화 방법
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제 7 항에 있어서,상기 금속기판은 Fe, Al, Cu, Ni, Mg, Zn, Ti, Cr, Ag, Au, Pt, Pd 순금속 및 그 합금 중 어느 하나를 포함하는,금속 표면의 색채화 방법
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제 7 항에 있어서,상기 광투과성 유전체는 TiO2, Al2O3, MgO, SiO2, ITO(Indium Tin Oxide) 및 Si3N4 중 어느 하나를 포함하는,금속 표면의 색채화 방법
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