맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

나노 와이어 그리드 편광 및 적외선 차단 일체형 광학 필터

  • 기술번호 : KST2020014080
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필터는, 투명 기판; 상기 투명 기판의 일면에 배치되고 다층 박막을 포함하는 적외선 차단 필터; 서로 나란히 연장되고 상기 투명 기판의 타면에 배치된 무반사 코팅 패턴; 서로 나란히 연장되고 상기 무반사 코팅 패턴에 정렬된 와이어 그리드 형태로 패터닝된 폴리머 패턴들; 및 상기 폴리머 패턴들 각각의 적어도 일 측면 및 상부면을 덮는 도전 패턴들을 포함한다.
Int. CL G02B 5/20 (2006.01.01) G02B 5/30 (2006.01.01) G02B 1/10 (2015.01.01)
CPC G02B 5/20(2013.01) G02B 5/20(2013.01) G02B 5/20(2013.01)
출원번호/일자 1020190064139 (2019.05.30)
출원인 한국과학기술원, 주식회사 옵트론텍
등록번호/일자 10-2166765-0000 (2020.10.12)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20201016) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.05.30)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 옵트론텍 대한민국 경상남도 창원시 의창구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이종권 대전광역시 유성구
2 강일석 대전광역시 서구
3 심갑섭 대전광역시 유성구
4 김광희 대전광역시 유성구
5 김재범 경기도 성남시 분당구
6 김장섭 대전광역시 유성구
7 김병오 서울특별시 서대문구
8 박종철 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 옵트론텍 대한민국 경상남도 창원시 의창구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2019.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2019-0559213-32
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2020.02.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2020.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0049576-55
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2020.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0290260-52
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
 2020.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2020-0538919-34
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2020.05.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0538923-17
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
9 등록결정서
Decision to grant		 2020.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0671777-25
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2020-5247972-83
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
투명 기판;상기 투명 기판의 일면에 배치되고 다층 박막을 포함하는 적외선 차단 필터;서로 나란히 연장되고 상기 투명 기판의 타면에 배치된 무반사 코팅 패턴;서로 나란히 연장되고 상기 무반사 코팅 패턴에 정렬된 와이어 그리드 형태로 패터닝된 폴리머 패턴들; 및상기 폴리머 패턴들 각각의 적어도 일 측면 및 상부면을 덮는 도전 패턴들을 포함하고,상기 폴리머 패턴들은 기울어진 것을 특징으로 하는 광학 필터
2 2
투명 기판;상기 투명 기판의 일면에 배치되고 다층 박막을 포함하는 적외선 차단 필터;서로 나란히 연장되고 상기 투명 기판의 타면에 배치된 무반사 코팅 패턴;서로 나란히 연장되고 상기 무반사 코팅 패턴에 정렬된 와이어 그리드 형태로 패터닝된 폴리머 패턴들; 및상기 폴리머 패턴들 각각의 적어도 일 측면 및 상부면을 덮는 도전 패턴들을 포함하고,상기 도전 패턴들은 규칙적으로 배열되고, 상기 도전 패턴들 각각의 라인 폭은 50 nm 내지 150 nm이고,상기 도전패턴들의 높이는 150 nm 내지 500 nm 이고,상기 도전 패턴의 측면의 두께는 10 nm 내지 30nm이고,상기 도전 패턴의 상부면의 두께는 10 nm 내지 60 nm인 것을 특징으로 하는 광학 필터
3 3
삭제
4 4
투명 기판의 일면에 배치되고 다층 박막을 포함하는 적외선 차단 필터를 형성하는 단계;상기 투명 기판의 타면에 무반사 코팅막을 형성하는 단계;상기 무반사 코팅막 상에 포토레지스트층을 형성하고 패터닝하여 서로 나란히 연장되는 와이어 그리드 형태로 폴리머 패턴들을 형성하는 단계;상기 폴리머 패턴들을 마스크로 상기 무반사 코팅막을 식각하여 무반사 코팅 패턴들을 형성하는 단계;상기 폴리머 패턴들의 제1 측면 및 상부면을 덮도록 도전체로 제1 경사층착을 수행하는 단계; 및상기 폴리머 패턴들의 제1 측면의 반대측인 제2 측면과 상부면을 덮도록 도전체로 제2 경사층착을 수행하여 도전 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,상기 폴리머 패턴들의 제1 측면 및 상부면을 덮도록 도전체로 제1 경사층착을 수행하는 단계는 상기 제1 경사 증착을 통하여 상기 폴리머 패턴들을 기울이는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법
5 5
제4 항에 있어서, 상기 폴리머 패턴들을 형성한 후 상기 폴리머 패턴들의 선폭을 감소시키도록 등방성 식각을 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법
6 6
제4 항에 있어서,상기 폴리머 패턴들을 마스크로 상기 무반사 코팅막을 식각하여 무반사 코팅 패턴들을 형성하는 단계는 상기 투명 기판을 추가적으로 더 식각하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법
7 7
제6 항에 있어서,상기 도전 패턴을 이방성 식각하여 상기 도전 패턴의 상부면을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법
8 8
제7 항에 있어서,상기 도전 패턴의 상부면을 제거하여 노출된 상기 폴리머 패턴들을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 ㈜ 옵트론텍, 나노종합기술원 ICT 유망기술개발지원 사업 (ICT R＆D 바우처 지원) 나노패턴이 적용된 편광특성을 갖는 이미지 센서용 광학 필터 개발