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복강 내 온열 가압 가스 순환 시스템

  • 기술번호 : KST2021000463
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 복강 내 온열 가압 가스 순환 시스템은, 개체의 복강에 연결되는 가스 호스 및 상기 가스 호스에 연결되고 가스를 순환하기 위한 펌프를 포함하며, 복강으로부터 배출된 가스를 다시 복강으로 순환시키는 가스 순환 장치; 및 상기 복강 내부의 가스가 일정한 온도가 되도록 가스 순환 장치의 가스 온도를 제어하는 온도 제어 장치;를 포함한다.
Int. CL A61M 13/00 (2006.01.01) A61M 11/00 (2006.01.01) A61M 31/00 (2006.01.01) A61B 17/34 (2006.01.01) A61F 7/12 (2006.01.01) A61F 7/00 (2006.01.01)
CPC A61M 13/006(2013.01) A61M 11/007(2013.01) A61M 31/002(2013.01) A61B 17/3474(2013.01) A61F 7/12(2013.01) A61F 7/0085(2013.01) A61M 2210/1021(2013.01) A61M 2205/362(2013.01) A61M 2205/3368(2013.01) A61M 2205/3344(2013.01) A61M 2202/0225(2013.01) A61F 2007/0287(2013.01) A61F 2007/0288(2013.01) A61F 2007/0086(2013.01)
출원번호/일자 1020190085381 (2019.07.15)
출원인 서울대학교병원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0008989 (2021.01.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.11.08)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교병원 대한민국 서울특별시 종로구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김형호 경기도 성남시 분당구
2 강구태 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최우성 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, *층 (수송동, 석탄회관빌딩)(케이씨엘특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2019-0724183-87
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164229-95
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-1148563-02
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번호 청구항
1 1
복강 내 온열 가압 가스를 순환하는 시스템으로서, 개체의 복강에 연결되는 가스 호스 및 상기 가스 호스에 연결되고 가스를 순환하기 위한 펌프를 포함하며, 복강으로부터 배출된 가스를 다시 복강으로 순환시키는 가스 순환 장치; 및 상기 복강 내부의 가스가 일정한 온도가 되도록 가스 순환 장치의 가스 온도를 제어하는 온도 제어 장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
2 2
제1항에 있어서, 상기 가스 순환 장치는, 복강 내부로 가스가 투입되는 복강 내 가스 투입부; 및 복강으로부터 외부로 가스를 배출시키고, 복강 외부에서 가스를 순환시켜 다시 복강 내로 투입하는 순환부;를 포함하고,상기 온도 제어 장치는, 복강 내부의 가스 온도 및 복강 외부의 가스 순환 장치의 가스 온도 중 하나 이상의 가스 온도를 측정하는 온도 센서; 상기 가스 순환 장치의 가스 호스의 적어도 일부에 열을 제공하는 가열 장치; 및 상기 가열 장치와 온도 센서에 연결된 온도 제어부;를 포함하고, 상기 온도 제어부는 상기 온도 센서의 측정 값을 기초로 복강 내부의 가스 온도가 일정한 온도로 되도록 상기 가열 장치의 온도를 제어하는 것을 특징으로 하는 시스템
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제2항에 있어서, 상기 복강 내 가스 투입부는 개체의 복강 내부로 가스 투입 시 약제를 가스를 함께 분사하는 약제 및 가스 분사 장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
4 4
제3항에 있어서, 상기 약제 및 가스 분사장치는, 약제를 공급하는 약제 주사기; 가스 호스에 연결되어 가압 가스를 공급받고, 상기 약제 주사기로부터 약제를 공급받으며, 복강에 투관되어 개체의 복강 내부로 약제와 가스를 투여하는 약제 및 가스 투여기; 및 상기 약제 및 가스 투여기 말단에 배치되고, 복강 내부로 약제와 가스를 분사하는 노즐;을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
5 5
제4항에 있어서, 상기 순환부는, 복강에 투관되고 가스를 배출하는 제1 트로카, 상기 제1 트로카에 연결된 가스 호스인 순환 호스 및 상기 순환 호스에 연결되고 순환 가스의 압력을 상승시키는 순환 펌프;를 포함하며, 상기 순환부의 순환 가스는 상기 약제 및 가스 투여기로 제공되거나, 복강에 투관된 제2 트로카로 제공되거나, 상기 약제 및 가스 투여기 및 제2 트로카에 제공되는 것을 특징으로 하는 시스템
6 6
제5항에 있어서, 상기 복강 내 가스 투입부는 약제 및 가스 분사 장치에 가스를 공급하는 가스 공급부를 더 포함하고,상기 가스 공급부는, 가스를 발생시키는 가스 주입기; 및상기 가스 주입기로부터의 가스가 유동하고, 약제 및 가스 분사 장치로 연결되는 제1 호스;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
7 7
제6항에 있어서, 상기 가스 공급부는 제1 호스를 통해 유동하는 가스의 압력을 상승시키는 펌프;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
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제6항에 있어서, 상기 가스 공급부는 제1호스로부터 분기된 제2 호스를 더 포함하며,상기 순환부는, 순환 호스 및 제2 호스의 가스가 유입되고 약제 및 가스 투여기로 가스를 배출하는 제1밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
9 9
제5항에 있어서,상기 순환부는 순환부로 가스를 공급하는 가스 공급부를 더 포함하고,상기 가스 공급부는, 가스를 발생시키는 가스 주입기; 및상기 가스 주입기로부터의 가스가 유동하고, 순환부로 연결되는 제3 호스;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
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제9항에 있어서,상기 순환부는 제3 호스의 가스 및 순환 호스의 가스가 유입되고, 순환 펌프로 가스를 배출하는 제2밸브;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
11 11
제9항에 있어서,상기 순환부는, 순환 펌프로부터 가스가 유입되고 약제 및 가스 투여기로 가스를 제공하는 제3밸브;를 더 포함하고, 상기 제3밸브로부터 하나 이상의 가스 호스가 약제 및 가스 투여기로 연결되는 것을 특징으로 하는 시스템
12 12
제11항에 있어서,상기 제3밸브로부터 두 개의 가스 호스가 약제 및 가스 투여기의 서로 다른 위치로 연결되거나, 또는 상기 제3밸브로부터 하나의 가스 호스가 약제 및 가스 투여기로 연결되고, 다른 하나의 가스 호스가 제2 트로카로 연결되는 것을 특징으로 하는 시스템
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제5항에 있어서, 상기 가열 장치는 가스 호스의 적어도 일부분을 감싸는 열선 코일이고,상기 온도 제어 장치는, 복강 내부로 분사되는 가스의 온도를 측정하는 제1 온도 센서;를 포함하고,상기 제1 온도 센서의 측정값을 기초로 상기 복강 내부의 가스의 온도가 38℃ 내지 42℃로 유지되도록 열선 코일의 온도를 제어하는 것을 특징으로 하는 시스템
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제13항에 있어서, 상기 온도 제어 장치는, 상기 순환부의 가스의 온도를 측정하는 제2 온도 센서; 및 상기 순환부에서 약제 및 가스 투여기로 제공되는 가스의 온도를 측정하는 제3 온도 센서; 중 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템
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제10항에 있어서,상기 제2 온도 센서 및 상기 제3 온도 센서 중 하나 이상의 측정값을 기초로 각 가스 호스로부터의 가스 공급량을 조절하는 것을 특징으로 하는 시스템
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제4항에 있어서, 상기 노즐은 이류체 노즐인 것을 특징으로 하는 시스템
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제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가스는 이산화탄소인 것을 특징으로 하는 시스템
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제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시스템은 복강 내 온열 항암화학요법을 위한 시스템이고, 상기 약제는 항암제인 것을 특징으로 하는 시스템
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.