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복수의 파장의 레이저를 조사하는 광원부;상기 광원부로부터 조사된 레이저를 인가받아 서로 다른 위상값을 갖는 패턴을 생성하고, 생성된 패턴을 파장에 따라 이격시켜 샘플로 조사하는 광학계;상기 광학계를 거쳐 샘플로부터 반사된 광을 수광하는 수광부; 상기 광원부, 광학계 및 수광부의 동작을 제어하며, 상기 수광부가 수광한 광의 간섭 패턴을 분석하여 샘플의 성질을 분석하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템
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제1항에 있어서,상기 광원부는,서로 다른 파장을 출력하는 광원을 복수 개 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템
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제1항에 있어서,상기 광학계는,생성된 패턴을 파장에 따라 이격시키기 위해 회절 격자(Diffraction Grating)를 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템
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제1항에 있어서,상기 광학계는,생성된 패턴을 파장에 따라 이격시키기 위해 프리즘을 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템
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제1항에 있어서,상기 제어부는,상기 광원부만을 제어하여 생성되는 패턴의 위상을 변화시키는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템
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제1항에 있어서,상기 제어부는,상기 광원부 및 광학계를 제어하여 생성되는 패턴의 위상을 변화시키는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템
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