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기설정 개수의 방사패턴(radiation pattern)을 각각 형성하되 소정의 간격을 두고 배열되는 복수의 안테나 소자(antenna elements)를 포함하는 안테나부(antenna unit);상기 복수의 안테나 소자에서 인접하는 안테나 소자 사이에 소정의 위상차를 갖는 상기 방사패턴이 생성되도록 제어하는 빔포밍부(beamforming unit); 및상기 복수의 안테나 소자에 각각 상기 방사패턴이 형성되도록 상기 복수의 안테나 소자에 급전전력을 공급하는 급전제어부(feeder control unit)를 포함하는 위상배열 안테나 시스템(phased array antenna system)
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제1항에 있어서,상기 위상배열 안테나 시스템의 전체 스캐닝 범위(target scanning range)는, 상기 기설정 개수의 방사패턴에 각각 대응되는 복수의 부분공간(subspace)으로 분할되는 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제2항에 있어서,상기 빔포밍부는,상기 복수의 안테나 소자로부터 각각 발생하는 방사패턴이 해당하는 부분공간 내에 형성되도록 상기 위상차를 설정하는 기능을 갖는 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제2항에 있어서,상기 급전제어부는,상기 복수의 안테나 소자에서 발생하는 방사패턴이 상기 복수의 부분공간(subspace)에 대하여 순차적으로 스캐닝되도록 상기 복수의 안테나 소자에 대한 급전을 제어하는 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제4항에 있어서,상기 복수의 안테나 소자에 발생하는 방사패턴은 모두 동일한 부분공간으로 스캐닝되는 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제2항에 있어서,상기 전체 스캐닝 범위가 -θmax 내지 +θmax인 경우, 수학식에 의해 상기 부분공간이 분할되는 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제2항에 있어서,상기 방사패턴의 방향은 상기 부분공간의 중심인 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제2항에 있어서,상기 부분공간의 수 및 상기 전체 스캐닝 범위를 기반으로 상기 안테나 소자의 간격이 결정되는 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 급전제어부의 스위칭 모드의 개수는 상기 기설정 개수와 동일한 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 안테나 소자는,상기 기설정 개수의 방사패턴에 대해 각각 9 dBi 이상의 안테나 소자 이득을 갖는 것을 특징으로 하는 위상배열 안테나 시스템
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기설정 개수의 방사패턴을 각각 형성하되 소정의 간격을 두고 배열되는 복수의 안테나 소자를 구비하는 위상배열 안테나 시스템에서 방사패턴을 스캐닝하는 방법에 있어서,상기 복수의 안테나 소자에서 인접하는 안테나 소자 사이에 소정 위상차를 갖는 상기 방사패턴이 생성되도록 제어하는 과정; 및상기 복수의 안테나 소자에 각각 상기 방사패턴이 형성되도록 상기 복수의 안테나 소자에 급전전력을 공급하는 과정을 포함하는 위상배열 안테나 시스템의 스캐닝 방법
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