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질화붕소 복합체의 열전도도를 측정하는 단계;를 포함하며,상기 질화붕소 복합체는 고분자 수지를 포함하는 매트릭스 및 질화붕소 나노물질을 포함하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제1항에 있어서,상기 열전도도 측정은 접촉식, 비접촉식, 열용량법, 열확산법, 열선법, 열유속법, 또는 열평판법 중 하나 이상의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제1항에 있어서,상기 질화붕소 복합체의 열전도도는 질화붕소 나노물질 사이의 직접 접촉비율에 따라 달라지는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제1항에 있어서,상기 질화붕소 복합체는 상기 매트릭스에 분산된 분산제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제4항에 있어서,상기 분산제는 질화붕소 나노물질 표면에 물리적으로 흡착되는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제5항에 있어서,상기 접촉은 질화붕소 나노물질과 분산제 간의 정전기적 인력, 소수성-소수성 표면 상호인력, 또는 파이-파이 적층에 의한 흡착 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제1항에 있어서,상기 평가 방법은 측정된 열전도도로부터 분산 균일도를 평가하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제7항에 있어서,상기 분산 균일도 평가는 측정된 열전도도와 질화붕소 나노물질의 분산 균일도가 비례하는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제7항에 있어서,상기 분산도 평가는 질화붕소 복합체에 전체적으로(colligative) 분산된 질화붕소 나노물질의 평균 분산 균일도를 평가하는 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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제1항에 있어서,상기 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법은 비파괴 방법인 것을 특징으로 하는, 질화붕소 복합체의 분산 균일도 평가 방법
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