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팔라듐을 포함한 촉매의 존재하에, 파릴렌을 포함한 고분자 수지 필름과 아민 화합물을 반응 시키는 단계;를 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 촉매는 트리(디벤질리덴아세톤)디팔라듐(0), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐, 아세트산팔라듐, 염화팔라듐, 팔라듐블랙, 비스(트리페닐포스핀)팔라듐디클로라이드, 비스(트리-o-토실포스핀)팔라듐디클로라이드, 비스(트리시클로헥실포스핀)팔라듐디클로라이드, 비스(트리페닐포스핀)팔라듐디아세테이트, [1,2-비스(디페닐포스피노)부탄]팔라듐디클로라이드 및 [1,2-비스(디페닐포스피노)에탄] 팔라듐디클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 촉매와 함께 리간드를 더 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 리간드는 2-디시클로헥실포스피노비페닐, 2-디시클로헥실포스피노-2'-메틸비페닐, 2-디시클로헥실포스피노-2',6'-디이소프로필비페닐, 2-(디시클로헥실포스피노)3,6-디메톡시-2',4',6'-트리이소프로필-1,1'-비페닐, (R)-1-[(SP)-2-(디시클로헥실포스피노)페로세닐]에틸디-t-부틸포스핀으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 촉매와 함께 염기를 더 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 염기는 리튬 헥사메틸디실라잔, t-부톡시나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산세슘 및 수산화바륨으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 아민 화합물은 1,1,1-트리페닐실릴아민, 암모니아 및 리튬 아민으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 파릴렌을 포함한 고분자 수지 필름과 아민 화합물을 반응 시키는 단계는 60 내지 100 ℃의 온도에서 수행하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 아민 화합물과 반응한 상기 고분자 수지 필름에 대해 아민기와 반응하는 관능기를 포함한 화합물과 반응하는 단계;를 더 포함하는, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 아민기와 반응하는 관능기를 포함한 화합물은 이소시아네이트기 또는 이소티오시아네이트기를 포함한 화합물인, 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름의 제조 방법
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제1항의 제조 방법에 따라 제조된 표면 개질된 파릴렌 고분자 필름 2장을 서로 대향하도록 순차적으로 적층하는 단계를 포함하는, 고분자 미세유체 채널의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 순차 적층된 고분자 미세유체 채널을 이소시아네이트기를 포함한 화합물로 반응시킨, 고분자 미세유체 채널의 제조 방법
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