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유연성 고분자 기판; 및상기 유연성 고분자 기판 상에 형성된 전도성 회로 패턴부;를 포함하고,상기 전도성 회로 패턴부는 유리질 탄소(glassy carbon)를 포함하는 것인,연성회로기판
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제 1 항에 있어서, 상기 전도성 회로 패턴부는 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 탄화되어 상기 유리질 탄소로 변환되어 형성된 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 방향족 탄화 수소를 포함하는, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리노르보넨, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리스타일렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리염화비닐, 폴리아미드, 폴리틸렌테레프탈레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산, 폴리페닐설파이드, 폴리에테르에테르케톤, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 회로 패턴부는 금속을 포함하지 않는 것인, 연성회로기판
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유연성 고분자 기판 상에 레이저를 조사하여 전도성 회로 패턴부를 형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 전도성 회로 패턴부는 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 탄화되어 형성되는 것인,연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 레이저는 적외선 영역대의 파장을 가지는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 유연성 고분자가 탄화되어 유리질 탄소를 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 레이저를 이동시키며 조사하여 상기 전도성 회로 패턴부를 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 탄화된 전도성 회로 패턴부는 면저항이 감소하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 레이저의 조사 시간에 따라 상기 면저항이 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 레이저의 에너지 밀도에 따라 상기 유연성 고분자 기판 상에 형성되는 상기 전도성 회로 패턴부의 깊이가 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 연성회로기판은 금속을 증착시키지 않고 제조되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 연성회로기판을 포함하는, 전자 소자
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제 14 항에 있어서,상기 전자 소자는 온도에 따라 상이한 저항값을 가지는 것인, 전자 소자
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