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나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판; 상기 기판 상에 형성된 유기 발광층 및 상기 기판 상에 상기 유기 발광층을 덮도록 형성된 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)를 포함하는 유기 발광 소자
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제1항에 있어서, 상기 유기 발광층과 상기 인캡슐레이션 글래스 사이에 형성된 에폭시 필러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자
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제1항에 있어서, 상기 유기 발광층은, 제1 전극, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 제2 전극 및 캡핑층이 적층되어 형성되는 유기 발광 소자
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제1항에 있어서, 상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은, 나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)를 통해 형성되고, 상기 마스터 몰드는, 폴리머층과 상기 폴리머층 상에 형성되는 금속층을 포함하되, 상기 금속층은 상기 폴리머층과의 열팽창 계수의 차이로 인해 상기 나노 주름 구조로 형성되는 유기 발광 소자
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제1항에 있어서, 상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은, 상기 금속층의 두께에 따라 상기 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값이 결정되는 유기 발광 소자
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나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판을 형성하는 단계 상기 기판 상에 유기 발광층을 형성하는 단계 및 상기 기판 상에 상기 유기 발광층을 덮도록 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 기판은, 상기 유기 발광층과의 인접면에 상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 유기 발광층과 상기 인캡슐레이션 글래스 사이에 에폭시 필러를 형성하는 단계를 더 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 기판을 형성하는 단계는, 나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)를 제조하는 단계; 상기 마스터 몰드 상에 에폭시 물질을 도포하는 단계; 상기 에폭시 물질이 도포된 마스터 몰드와 유리 기판을 이용한 임프린팅 공정(imprinting process)을 통해 상기 유리 기판 상에 상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 형성하는 단계 및 상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 자외선 경화(UV curing) 시키는 단계를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 마스터 몰드를 제조하는 단계는,몰드 기판 상에 폴리머층을 형성하는 단계; 상기 폴리머층이 형성된 몰드 기판을 제1 온도로 열처리 하는 단계; 상기 열처리된 폴리머층 상에 금속층을 증착하는 단계 및 상기 금속층이 증착된 폴리머층을 제2 온도로 냉각 처리하여 상기 금속층이 나노 주름 구조로 형성되는 단계 를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 금속층을 나노 주름 구조로 형성하는 단계는, 상기 폴리머층과 상기 금속층의 열팽창 계수의 차이로 인해 상기 금속층이 나노 주름 구조로 형성되는 유기 발광 소자의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 금속층을 증착하는 단계는, 상기 열처리된 폴리머층 상에 증착 형성되는 상기 금속층의 두께를 제어하여, 상기 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값을 제어하는 유기 발광 소자의 제조방법
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