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유연성 고분자 기판;상기 유연성 고분자 기판 상에 형성된 전도성 회로 패턴부; 및상기 전도성 회로 패턴부 상에 형성된 전도성 도금 물질을 포함하고,상기 전도성 회로 패턴부는 유리질 탄소(glassy carbon)를 포함하는 것인,연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 회로 패턴부는 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 탄화되어 상기 유리질 탄소로 변환되어 형성된 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 방향족 탄화 수소를 포함하는, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 도금 물질은 금속, 전기활성고분자(EAP), 전도성 세라믹, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 물질을 포함하는 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리노르보넨, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리스타일렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리염화비닐, 폴리아미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산, 폴리페닐설파이드, 폴리에테르에테르케톤, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는, 연성회로기판
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유연성 고분자 기판 상에 레이저를 조사하여 유리질 탄소를 포함하는 전도성 회로 패턴부를 형성하는 단계; 및상기 전도성 회로 패턴 상에 전도성 도금 물질을 전기 도금(electroplating)하는 단계;를 포함하는,연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 유연성 고분자가 탄화되어 상기 유리질 탄소를 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 전기 도금에 의해 상기 전도성 회로 패턴부 상에만 선택적으로 상기 전도성 도금 물질이 형성되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 전도성 회로 패턴부를 형성하는 단계는 컴퓨터 프로그램에 의해 제어되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 레이저를 이동시키며 조사하여 상기 전도성 회로 패턴부를 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 레이저 조사에 의해 상기 전도성 회로 패턴부의 형태 및 패턴 간의 거리가 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 레이저의 에너지 밀도에 따라 상기 유연성 고분자 기판 상에 형성되는 상기 전도성 회로 패턴부의 깊이가 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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13
제 6 항에 있어서,상기 전도성 회로 패턴부는 면저항이 감소하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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14
제 13 항에 있어서,상기 레이저의 조사 시간에 따라 상기 면저항이 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 연성회로기판을 포함하는, 전자 소자
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