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레지스트 경화용 광을 조사하는 광원; 상기 광원과 이격되어 배치되며, 상기 광원에서 조사된 광을 반사시키는 반사미러; 및 상기 반사미러와 이격되어 배치되며, 상기 반사미러에 의해 반사된 광을 받아 기판에 도포된 레지스트 상에 광점이 맺히도록 집광하는 집광렌즈; 를 포함하고, 상기 광원, 반사미러 및 집광렌즈 중 어느 하나 이상은 주기적으로 구동 가능하게 형성되어, 상기 집광렌즈에 의해 맺히는 광점이 시간에 따라 3차원 공간상에서 특정한 궤적을 갖고 이동되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제1항에 있어서, 상기 반사미러는 X 방향 및 Y 방향 각각을 중심으로 특정한 각도 범위 내에서 주기적으로 회전 구동 가능하게 형성되어, 상기 반사미러의 구동에 의해 X 방향 및 Y 방향으로 광점의 이동 궤적이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제2항에 있어서, 상기 광원은 점광원 및 시준렌즈를 포함하고, 상기 시준렌즈는 점광원과 반사미러 사이의 광 경로 상에 배치되며, 상기 시준렌즈는 광축 방향으로 주기적으로 구동 가능하게 형성되어, 상기 시준렌즈의 구동에 의해 Z 방향으로 광점의 이동 궤적이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제2항에 있어서, 상기 광원은 점광원 및 시준렌즈를 포함하고, 상기 시준렌즈는 점광원과 반사미러 사이의 광 경로 상에 배치되며, 상기 점광원은 광축 방향으로 주기적으로 구동 가능하게 형성되어, 상기 점광원의 구동에 의해 Z 방향으로 광점의 이동 궤적이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제2항에 있어서, 상기 광원은 평행광원 및 빔 확장기를 포함하고, 상기 빔 확장기에는 시준렌즈가 구비되며, 상기 빔 확장기는 평행광원과 반사미러 사이의 광 경로 상에 배치되며, 상기 빔 확장기의 시준렌즈는 광축 방향으로 주기적으로 구동 가능하게 형성되어, 상기 시준렌즈의 구동에 의해 Z 방향으로 광점의 이동 궤적이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제2항에 있어서, 상기 집광렌즈는 Z 방향으로 주기적으로 구동 가능하게 형성되어, 상기 집광렌즈의 구동에 의해 Z 방향으로 광점의 이동 궤적이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제1항에 있어서, 상기 광원은 시준렌즈를 포함하고, 상기 광원은 점광원 또는 평행광원을 더 포함하며, 상기 시준렌즈, 점광원 및 집광렌즈 중 어느 하나는 광축에 교차되는 방향으로 주기적으로 구동 가능하게 형성되어, 구동에 의해 X 방향 및 Y 방향으로 광점의 이동 궤적이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제7항에 있어서, 상기 시준렌즈, 점광원 및 집광렌즈 중 어느 하나는 광축 방향으로 주기적으로 구동 가능하게 형성되어, 구동에 의해 Z 방향으로 광점의 이동 궤적이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 장치
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제1항에 있어서, 상기 반사미러와 집광렌즈 사이에 구비되어, 상기 반사미러에서 집광렌즈로 진행하는 광을 통과시키며, 상기 레지스트로부터 반사되어 돌아오는 광을 반사시키는 빔 분할기; 및 상기 빔 분할기에서 반사된 광을 받아 레지스트의 상태를 측정하는 측정장치; 를 더 포함하는 광학식 리소그래피 장치
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광원에서 조사되는 광을 반사미러를 통해 반사시킨 후 집광렌즈를 통해 기판에 도포된 레지스트 상에 광점이 맺히도록 하는 광점 형성단계; 및 상기 광원, 반사미러 및 집광렌즈 중 어느 하나 이상을 주기적으로 구동시켜, 상기 집광렌즈에 의해 맺히는 광점이 시간에 따라 상기 레지스트 상에서 3차원으로 특정한 궤적을 갖고 이동되도록 하는 경화영역 확장단계; 를 포함하는 광학식 리소그래피 방법
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제10항에 있어서, 상기 기판을 X, Y 및 Z 방향으로 이동시켜 특정한 너비와 높이를 갖는 패턴 형태로 레지스트를 경화시키는 경화패턴 형성단계를 더 포함하는 광학식 리소그래피 방법
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제10항에 있어서, 상기 기판을 X, Y 방향으로 이동시키고 집광렌즈를 Z 방향으로 이동시켜 특정한 너비와 높이를 갖는 패턴 형태로 레지스트를 경화시키는 경화패턴 형성단계를 더 포함하는 광학식 리소그래피 방법
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제10항에 있어서, 상기 경화영역 확장단계에서, 상기 광점의 X 방향, Y 방향 및 Z 방향의 위치(XS, YS, ZS)가 정현파 형태가 되도록 구동되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 방법
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제13항에 있어서, 상기 광점의 X 방향 및 Y 방향 위치(XS, YS)가 진폭 변조된 정현파가 되도록 구동되는 것을 특징으로 하는 광학식 리소그래피 방법
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