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스퍼터링이 수행되는 챔버;소스를 구비하여 상기 챔버의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부;상기 챔버의 상부에서 미세분말을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부; 및상기 챔버의 내부 저면에 설치되어 상기 소스에 의해 표면이 코팅된 표면 코팅 분말들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부;를 포함하여,상기 스퍼터 건부에 전력을 공급하여 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말 공급부에서 낙하되며 공급되어 부유하는 상기 분말의 표면에 증착시켜 표면 코팅을 수행하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 챔버는,캐리어 가스를 공급하도록 저면에 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 공급관; 및상기 챔버의 상부 측면에 상기 캐리어 가스를 배출하도록 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 배출관;을 더 포함하여 구성되어,상기 캐리어 가스에 의해 낙하하는 상기 분말들을 일정 시간 부유상태로 유지하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 스퍼터 건부는,상기 소스 플라즈마를 수평 방향으로 분사하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 스퍼터 건부는,진동 또는 상기 챔버의 내측면을 따라 회전 구동하며 상기 소스를 플라즈마화시켜 수평방향으로 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 분말 공급부는,미세분말들을 수용하는 분말 용기; 및상기 분말들의 직경보다 큰 직경의 격자를 가지며 상기 분말 용기의 저면에 설치되는 스크린;을 포함하여,상기 분말들의 표면에 스퍼터링 코팅 시, 상기 스크린을 통해 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 분말 공급부는,상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 회전하는 것에 의해, 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 분말 공급부는,상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 진동하는 것에 의해, 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치
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스퍼터링이 수행되는 챔버; 소스를 구비하여 상기 챔버의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부; 상기 챔버의 상부에서 코팅대상인 미세분말들을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부; 및 상기 챔버의 내부 저면에 설치되어 상기 소스에 의해 표면이 코팅된 표면 코팅된 분말들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부;를 포함하여 구성되는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치에 의한 미세분말 스퍼터링 코팅 방법에 있어서,상기 분말 공급부를 통해 분말들을 낙하시키는 분말 공급 단계; 및상기 스퍼터 건부에 전력을 공급하여 수평 방향으로 소스 플라즈마를 생성하여 공중에 부유된 상기 분말들의 표면에 소스 코팅 층을 형성하는 스퍼터링 코팅 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 분말 공급 단계는,상기 분말 공급부를 회전시켜 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 분말 공급 단계는,상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 상기 분말 공급부를 진동시켜 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 스퍼터링 코팅 단계는,상기 스퍼터 건부를 회전 구동시키며 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 스퍼터링 코팅 단계는,상기 스퍼터 건부를 진동 또는 상기 챔버의 내측면을 따라 회전 구동하며 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법
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