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유연성 고분자 기판; 및상기 유연성 고분자 기판 내부에 형성된 전극층; 을 포함하는 연성회로기판에 있어서,상기 전극층은 유리질 탄소(glassy carbon)를 포함하는 것인,연성회로기판
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제 1 항에 있어서, 상기 전극층은 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 탄화되어 상기 유리질 탄소로 변환되어 형성된 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서, 상기 전극층은 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 적외선 레이저 조사에 의한 광열효과(Photothermal Effect)에 의해 탄화되어 상기 유리질 탄소로 변환되어 형성된 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서, 상기 전극층은 상기 유연성 고분자 기판의 내부에서 수직 방향으로 이격되어 배치되는 2 개 이상의 층을 포함하는 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 방향족 탄화 수소를 포함하는 것인, 연성회로기판
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제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자는 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리노르보넨, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리스타일렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리염화비닐, 폴리아미드, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산, 폴리페닐설파이드, 폴리에테르에테르케톤, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 연성회로기판
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유연성 고분자 기판 상에 레이저를 조사하여 상기 유연성 고분자 기판 내부에 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 연성회로기판의 제조 방법에 있어서,상기 레이저는 적외선 영역대의 파장을 가지는 것이고,상기 전극층은 상기 유연성 고분자 기판의 일부가 탄화되어 형성된 유리질 탄소를 포함하는 것인,연성회로기판의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 레이저를 조사하여 상기 전극층을 형성하는 단계를 2 회 이상 반복 수행하여 2 개 이상의 전극층을 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 레이저의 레이저 포커스를 조절하여 상기 유연성 고분자 기판 내에서 상기 전극층이 형성되는 깊이를 조절하는, 연성회로기판의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 유연성 고분자가 광열효과(Photothermal Effect)에 의해 탄화되어 유리질 탄소를 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 레이저의 에너지 밀도에 따라 상기 유연성 고분자 기판 상에 형성되는 상기 전극층의 두께가 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 레이저를 이동시키며 조사하여 상기 전극층을 형성하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 탄화된 전극층은 면저항이 감소하는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 13 항에 있어서,상기 레이저의 조사 시간에 따라 상기 면저항이 조절되는 것인, 연성회로기판의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 연성회로기판을 포함하는, 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode, OLED) 패널
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