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소정의 금속 나노입자 기준 크기 보다 목표 증착 입자 크기가 더 큰 경우, 챔버에서 진공 상태로 스퍼터링법을 이용하여 기판상에 금속 나노입자를 증착하여 금속 나노입자층을 형성하는 단계;상기 금속 나노입자 크기가 상기 목표 증착 크기에 도달할 때까지 상기 금속 나노입자가 증착된 기판을 소정의 시간 동안 대기 중에 노출시켜 상기 증착된 금속 나노입자 크기를 증가시키는 대기 노출 단계; 및챔버에서 진공 상태로 스퍼터링법을 이용하여, 상기 대기 노출 단계를 거친 상기 금속 나노입자층 상에 금속 나노입자를 추가 증착하는 금속 나노입자 추가 증착 단계;를 포함하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노입자 증착 단계에서의 상기 금속 나노입자는, 은인 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노입자 증착 단계에서 증착되는 상기 금속 나노입자층은, 두께 50nm 내지 10μm로 증착되는 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노입자 추가 증착 단계 이후에, 상기 대기 노출 단계 및 상기 금속 나노입자 추가 증착 단계는 소정의 횟수로 반복 수행될 수 있는 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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단일 금속 타겟을 이용하는 스퍼터링법을 통해 증착되는 소정의 금속 나노입자 기준 크기 보다 목표 증착 입자 크기가 더 작은 경우, 금속 나노입자를 작게 증착하기 위하여 챔버에서 진공 상태로 동시 스퍼터링법을 이용하여 기판상에 금속 나노입자를 증착하여 금속 나노입자층을 형성하는 단계;상기 형성 단계에서 작게 증착된 상기 금속 나노입자가 상기 목표 증착 크기에 도달할 때까지 상기 금속 나노입자가 증착된 기판을 소정의 시간 동안 대기 중에 노출시켜 상기 증착된 금속 나노입자 크기를 증가시키는 대기 노출 단계; 및챔버에서 진공 상태로 스퍼터링법을 이용하여, 상기 대기 노출 단계를 거친 상기 금속 나노입자층 상에 금속 나노입자를 추가 증착하는 금속 나노입자 추가 증착 단계;를 포함하고,상기 동시 스퍼터링법은, 금속을 타겟으로 하여 스퍼터링하는 제1스퍼터링건을 이용하여 증착된 금속 나노입자 상에, 유전체를 타겟으로 하여 스퍼터링 하는 제2스퍼터링건을 이용하여 유전체 층을 증착하는 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 금속 나노입자 증착 단계에서의 상기 금속 나노입자는, 은인 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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제5항에 있어서,상기 유전체는, SiO2, BaO 및 Al2O3으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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단일 금속 타겟을 이용하는 스퍼터링법을 통해 증착되는 소정의 금속 나노입자 기준 크기 보다 목표 증착 입자 크기가 더 작은 경우, 금속 나노입자를 작게 증착하기 위하여 챔버에서 진공 상태로 합금 타겟 스퍼터링법을 이용하여 기판상에 금속 나노입자를 증착하여 금속 나노입자층을 형성하는 단계;상기 형성 단계에서 작게 증착된 상기 금속 나노입자가 상기 목표 증착 크기에 도달할 때까지 상기 금속 나노입자가 증착된 기판을 소정의 시간 동안 대기 중에 노출시켜 상기 증착된 금속 나노입자 크기를 증가시키는 대기 노출 단계; 및챔버에서 진공 상태로 스퍼터링법을 이용하여, 상기 대기 노출 단계를 거친 상기 금속 나노입자층 상에 금속 나노입자를 추가 증착하는 금속 나노입자 추가 증착 단계;를 포함하고,상기 합금 타겟을 이용한 스퍼터링법은, 은을 포함하는 합금을 타겟으로 하여 스퍼터링하는 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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제5항 및 제8항에 있어서,상기 금속 나노입자 증착 단계에서 증착되는 상기 금속 나노입자층은, 두께 50nm 내지 10μm로 증착되는 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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제5항 및 제8항에 있어서,상기 금속 나노입자 추가 증착 단계 이후에, 상기 대기 노출 단계 및 상기 금속 나노입자 추가 증착 단계는 소정의 횟수로 반복 수행될 수 있는 것을 특징으로 하는 입자 크기 제어를 통한 금속 나노입자층 제조방법
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