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염소가스 발생장치 및 염소가스 생성방법

  • 기술번호 : KST2022006408
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 염소가스 발생장치 및 염소가스 생성방법에 관한 것이다. 본 발명의 실시 예를 따르는 염소가스 발생장치는, 반응실; 상기 반응실 내부에 배치된 과망간산칼륨 반응기; 및 상기 과망간산칼륨 반응기에서 발생한 염소가스 및 수분을 분리하여 염소가스를 선택적으로 배출하는 염소가스 분리조;를 포함한다.
Int. CL C01B 7/07 (2006.01.01)
CPC C01B 7/0743(2013.01) C01B 2210/0062(2013.01)
출원번호/일자 1020200148516 (2020.11.09)
출원인 한국기술교육대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0062851 (2022.05.17) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.11.01)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기술교육대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 천안시 동남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조남준 충청남도 천안시 서북구
2 신태섭 충청남도 천안시 서북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조해연 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **(역삼동) 삼호빌딩 *층(트리아특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2020-1194532-23
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2021.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2021-1253261-18
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번호 청구항
1 1
반응실;상기 반응실 내부에 배치된 과망간산칼륨 반응기; 및상기 과망간산칼륨 반응기에서 발생한 염소가스 및 수분을 분리하여 염소가스를 선택적으로 배출하는 염소가스 분리조;를 포함하는,염소가스 발생장치
2 2
제1항에 있어서,상기 반응실에 공급하는 염산용액을 보관하는 염산용액탱크 및 상기 염산용액탱크로부터 염산용액을 상기 반응실 내부로 이동하는 경로를 제공하는 제1배관을 더 포함하는,염소가스 발생장치
3 3
제1항에 있어서,상기 과망간산칼륨 반응기에서 발생한 염소가스 및 수분을 상기 염소가스 분리조로 이동하는 경로를 제공하는 제2배관을 더 포함하는,염소가스 발생장치
4 4
제1항에 있어서,상기 과망간산칼륨 반응기는,과망간산칼륨을 보관하는 과망간산칼륨 용기, 상기 과망간산칼륨 용기에서 염산용액과 과망간산칼륨이 반응하여 생성된 부산물을 필터링하는 부산물 분리부, 및 상기 분리부에서 분리된 부산물을 배출하는 부산물 배출관을 포함하는,염소가스 발생장치
5 5
제4항에 있어서,상기 부산물 분리부는 유리필터를 포함하는,염소가스 발생장치
6 6
제1항에 있어서,상기 염소가스 분리조는,내부에 물을 담지하는 것인,염소가스 발생장치
7 7
제2항에 있어서,상기 제1배관은 상기 반응실의 내부로 연결되고, 상기 과망간산칼륨 반응기 내부의 과망간산칼륨 상에 염산용액을 공급하는,염소가스 발생장치
8 8
제3항에 있어서,상기 제2배관의 일단은 상기 반응실의 상부에 배치된 것인,염소가스 발생장치
9 9
제4항에 있어서,상기 제2배관의 타단은 상기 염소가스 분리조의 내부에 담지된 물에 담겨지도록 배치된 것인,염소가스 발생장치
10 10
제1항에 있어서,상기 염소가스 분리조는 분리된 염소가스를 외부로 배출하는 제3배관을 포함하는 것인,염소가스 발생장치
11 11
제10항에 있어서,상기 제3배관은 상기 염소가스 분리조 내부에 담지된 물의 수면보다 높은 곳에 배치된 것인,염소가스 발생장치
12 12
제1항에 있어서,상기 과망간산칼륨 반응기에 공급되는 염산용액의 양을 제어하는 유량조절기를 더 포함하는,염소가스 발생장치
13 13
반응실, 상기 반응실 내부에 배치된 과망간산칼륨 반응기, 및 상기 과망간산칼륨 반응기에서 발생한 염소가스 및 수분을 분리하여 염소가스를 선택적으로 배출하는 염소가스 분리조,를 포함하는 염소가스 발생장치를 이용한 염소가스 생성방법에 있어서,상기 과망간산칼륨 반응기로 염산용액을 공급하는 단계;상기 과망간산칼륨 반응기에서 과망간산칼륨 및 상기 염산용액이 반응하여 부산물, 염소가스 및 수분을 생성하는 단계;상기 염소가스 및 수분을 상기 염소가스 분리조로 이동하는 단계; 및상기 염소가스 분리조에서 상기 수분을 분리하여 상기 염소가스를 배출하는 단계;를 포함하는,염소가스 생성방법
14 14
제13항에 있어서,상기 부산물, 염소가스 및 수분을 생성하는 단계 이후에,상기 부산물을 분리하는 단계를 더 포함하는,염소가스 생성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육부 한국기술교육대학교산학협력단 사회맞춤형산학협력선도대학육성(LINC+) OLED 발광 도판트 원료용 염화이리듐(IrCl3) 회수 및 Ir계 유기 금속 화합물 합성 기술 개발