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구형의 하이드로겔 입자;상기 하이드로겔 입자 표면에 회합된 복수의 금속 나노콜로이드 입자; 및상기 금속 나노콜로이드 입자가 부착된 하이드로겔 입자 상에 형성된 광 투과성 무기 산화물 나노코팅층;을 포함하는 왼손잡이 광 특성을 갖는 3차원 구조의 나노비드로서, 상기 나노비드가 소정 광 주파수 대역에서 왼손잡이 광 특성을 나타내어 내부에 전기장 및 자기장 공명을 동시에 발생시키고 증폭하도록, 상기 금속 나노콜로이드 입자가 하이드로겔 입자의 표면에 회합되어 있는 구조를 형성하고,상기 무기 산화물 나노코팅층은 왼손잡이 광 특성을 보존하도록 상기 하이드로겔 입자 상에 형성된 금속 나노콜로이드의 회합 구조에 고정력을 제공하는 나노비드
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제1항에 있어서, 상기 하이드로겔 입자의 직경(수력학적 직경)은 50 내지 1000 nm 범위 내에서 조절되는 것을 특징으로 하는 나노비드
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제1항에 있어서, 상기 하이드로겔은 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드)[poly(N-isopropylacrylamide), pNIPAM], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-알릴아민)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-allylamine), poly(NIPAM-co-AA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 메타아크릴레이트)[poly(Nisopropylacrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl methacrylate), poly(NIPAM-co-DMAEMA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl acrylate), poly(NIPAM-co-DMAEA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-acrylic acid), poly(NIPAM-co-AAc)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-메타아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-methacrylic acid), poly(NIPAM-co-MAAc)], 폴리(N,N-디에틸아크릴아미드)[poly(N,N-diethylacrylamide)], 폴리(N-비닐카프롤락탐)[poly(N-vinlycaprolactam)], 폴리(에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol)], 폴리(에틸렌 글리콜-b-프로필렌 글리콜-b-에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol-b-propylene glycol-b-ethylene glycol)]로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 나노비드
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제1항에 있어서, 상기 금속 나노콜로이드 입자의 직경은 1 내지 200 nm 범위 내에서 조절되는 것을 특징으로 하는 나노비드
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제1항에 있어서, 상기 회합 구조 내 금속 나노콜로이드 입자 간 간격은 0
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제1항에 있어서, 상기 금속 나노콜로이드 입자의 재질은 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리 및 알루미늄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 나노비드
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제1항에 있어서, 금속 나노콜로이드 입자 : 하이드로겔 입자의 직경 비는 1 : 2 내지 1000의 범위에서 조절되고, 그리고무기 산화물 나노코팅층의 두께 : 하이드로겔 직경의 비는 1 : 0
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제1항에 있어서, 상기 무기 산화물 나노코팅층의 두께는 1 내지 1000 nm 범위 내에서 정하여지는 것을 특징으로 하는 나노비드
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제1항에 있어서, 상기 무기 산화물 나노코팅층은 실리카, 알루미나, 티타니아 및 산화아연으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 나노비드
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제1항에 있어서, 상기 소정 광 주파수 대역은 가시광-근적외선 대역에서 선정되는 것을 특징으로 하는 나노비드
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a) 금속 나노콜로이드 입자의 수계 분산물을 제공하는 단계;b) 상기 단계 a)와 별도로, 구형의 하이드로겔 입자의 수계 분산물을 제공하는 단계;c) 상기 금속 나노콜로이드 입자의 수계 분산물과 상기 하이드로겔 입자의 수계 분산물을 조절된 온도 조건 하에서 조합하여 상기 하이드로겔 입자 상에 금속 나노콜로이드를 회합시키는 단계; 및d) 상기 금속 나노콜로이드가 회합된 하이드로겔 입자 상에 무기 산화물 전구체를 이용하여 광 투과성 무기 산화물 나노코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 왼손잡이 광 특성을 갖는 3차원 구조의 나노비드를 제조하는 방법으로서,상기 나노비드가 소정 광 주파수 대역에서 왼손잡이 광 특성을 나타내어 내부에 전기장 및 자기장 공명을 동시에 발생시키고 증폭하도록, 상기 금속 나노콜로이드 입자가 하이드로겔 입자의 표면에 회합되어 있는 구조를 형성하고,상기 무기 산화물 나노코팅층은 왼손잡이 광 특성을 보존하도록 상기 하이드로겔 입자 상에 형성된 금속 나노콜로이드의 회합 구조에 고정력을 제공하는 방법
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제11항에 있어서, 상기 단계 c)에서 상기 하이드로겔 입자와 상기 금속 나노콜로이드 입자는 정전기적 인력에 의하여 금속 나노콜로이드가 하이드로겔 입자 표면에 부착되어 회합되며, 그리고상기 하이드로겔 입자의 가역적 팽창 및 수축에 의하여 이의 표면에 회합된 금속 나노콜로이드 입자 간의 회합 구조 및 이에 따른 금속 나노콜로이드 입자 간의 거리 및 밀도가 변화되는 것을 특징으로 하는 방법
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제11항에 있어서, 상기 단계 a)의 금속 나노콜로이드 입자의 수계 분산물 및 상기 단계 b)의 구형의 하이드로겔 입자의 수계 분산물 각각의 농도는 0
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제12항에 있어서, 상기 하이드로겔 입자의 제타 전위(30℃)는 5 내지 40 mV 범위이고, 상기 금속 나노콜로이드 입자의 제타 전위(30℃)는 -70 내지 -10 mV 범위인 것을 특징으로 하는 방법
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제11항에 있어서, 상기 무기 산화물 나노코팅층의 재질은 실리카이고, 이의 전구체는 실란계 화합물로서 MPTMS (mercaptopropyl trimethoxysilane), TEOS(tetraethyl orthosilicate), TMOS(trimethoxy orthosilicate), GPTMS((3-glycidoxypropyl)methyldiethoxysilane), GOTMS(γ-glycidyloxypropyl trimethoxysilane), APTMOS(aminophenyl trimethoxysilane), APTES(aminopropyl triethoxysilane)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 방법
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