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형상의 변형과 회복이 가역적으로 이루어지는 탄성 소재로 만들어지고, 내부에 마련된 캐비티 공간의 기압 강하에 따른 형상 변화로 인해 상기 캐비티 공간 위쪽의 최상단에 배치된 그리핑 막이 펴진 상태에서 상기 캐비티 공간 쪽으로 함몰되어 접히면서 물체를 그리핑할 수 있고, 상기 기압 강하가 해소되면 원래의 형상으로 복귀하면서 상기 물체의 그리핑을 해제하도록 구성된 그리핑 핑거부; 및 상기 그리핑 핑거부의 저면과 일체로 결합되어 상기 그리핑 핑거부를 밑에서 받쳐주고, 내부에 상기 캐비티 공간과 연결되는 관통공이 마련된 베이스부를 구비하는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제1항에 있어서, 상기 그리핑 핑거부는, 상기 캐비티 공간의 마주보는 두 측방을 막아주도록 제1 방향을 따라 이격 배치된 제1 및 제2 캐비티 벽; 상기 캐비티 공간의 마주보는 나머지 두 측방을 막아주도록 상기 제1 방향과 직교하는 제2방향을 따라 이격 배치되고, 각각의 하부가 상기 제1 및 제2 캐비티 벽과 각각 일체로 결합되어 상기 캐비티 공간의 모든 측방을 막아주고, 각각의 나머지 상부는 상기 제1 및 제2 캐비티 벽보다 소정 길이만큼 더 길게 연장되어 서로 마주보도록 구성된 제1 및 제2 그리핑 핑거; 상기 캐비티 공간의 상방을 완전히 덮으면서 가장자리 부분이 상기 제1 및 제2 캐비티 벽의 상단 및 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거의 하부와 상부의 경계선에 일체로 고착되는 캐비티 막; 및 마주보는 양쪽 모서리가 제1 및 제2 그리핑 핑거의 상단에 각각 고착되어 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거 사이의 상기 캐비티 막의 상부 공간을 덮도록 배치되는 그리핑 막을 구비하는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제2항에 있어서, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽을 구성하는 탄성소재는 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거를 구성하는 탄성소재에 비해 더 낮은 탄성계수를 가지고, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽은 상부가 하부보다 더 낮은 탄성계수를 가지는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제3항에 있어서, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽 각각은 2단 구조로 적층된 하부 및 상부 캐비티 벽을 포함하되, 상기 상부 캐비티 벽을 구성하는 제1 탄성소재의 탄성계수가 상기 하부 캐비티 벽을 구성하는 제2 탄성소재의 탄성계수에 비해 더 낮은 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제3항에 있어서, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽은 단일의 탄성 소재로 구성되며, 각각의 하부는 상부에 비해 더 두꺼운 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제5항에 있어서, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽은 각각은 상기 하부 캐비티 벽과 상기 상부 캐비티 벽간의 두께 차이가 불연속적으로 변하는 계단형 구조, 또는 하부에서 상부로 가면서 연속적으로 얇아지는 구조, 또는 이 두 가지 구조를 조합한 구조인 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제3항에 있어서, 상기 캐비티 공간 내부의 기압이 외부의 대기압보다 낮아질 때, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽이 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거보다 더 크게 수축 변형되고, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽의 상부가 하부보다 더 크게 수축 변형되어, 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거의 상부가 서로 더 근접하도록 오므라들면서 상기 그리핑 막이 상기 캐비티 공간 쪽으로 함몰되어 접히도록 구성된 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제1항에 있어서, 상기 탄성 소재는 실리콘 고무, 천연 또는 합성으로 제조되는 고무, 실리콘, 탄성을 지닌 폴리머류 중에서 선택되는 적어도 어느 한 가지인 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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9
제2항에 있어서, 상기 그리핑 막에 내장되거나 접합되어 접힌 상태의 상기 그리핑 막에 의해 그리핑된 물체의 개수를 검출할 수 있는 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제9항에 있어서, 상기 센서는 상기 그리핑 막과 함께 접히거나 펼쳐질 수 있는 탄성 기판; 및 상기 탄성 기판이 펴진 상태에서는 동일평면에 위치하지만 접힌 상태에서 서로 마주보도록 상기 탄성 기판 상에 배치된 제1 및 제2 전극판을 포함하여, 상기 제1 및 제2 전극판 사이의 정전용량 값을 계측함으로써 상기 그리핑 막에 의해 그리핑된 물체의 개수를 검출할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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11
제1항에 있어서, 상기 베이스부의 관통공에 연결되어 물체를 그리핑하기 위해 상기 캐비티 공간 내의 기압을 강하시키고, 그 물체의 그리핑 상태를 해제하기 위해 상기 캐비티 공간 내의 기압 강하를 해제할 수 있도록 구성된 진공 장치를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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형상의 변형과 회복이 가역적으로 이루어지는 탄성 소재로 만들어지고, 내부에 마련된 캐비티 공간의 기압 강하에 따른 형상 변화로 인해 상기 캐비티 공간 위쪽의 최상단에 배치된 그리핑 막이 펴진 상태에서 상기 캐비티 공간 쪽으로 함몰되어 접히면서 물체를 그리핑할 수 있고, 상기 기압 강하가 해소되면 원래의 형상으로 복귀하면서 상기 물체의 그리핑을 해제하도록 구성된 그리핑 핑거부;상기 그리핑 핑거부의 저면과 일체로 결합되어 상기 그리핑 핑거부를 밑에서 받쳐주고, 내부에 상기 캐비티 공간과 연결되는 관통공이 마련된 베이스부; 및상기 그리핑 막에 내장되거나 접합되어 접힌 상태의 상기 그리핑 막에 의해 그리핑된 물체의 개수를 검출할 수 있도록 구성된 센서를 구비하고,상기 그리핑 핑거부는, 상기 캐비티 공간의 마주보는 두 측방을 막아주도록 제1 방향을 따라 이격 배치된 제1 및 제2 캐비티 벽; 상기 캐비티 공간의 마주보는 나머지 두 측방을 막아주도록 상기 제1 방향과 직교하는 제2방향을 따라 이격 배치되고, 각각의 하부가 상기 제1 및 제2 캐비티 벽과 각각 일체로 결합되어 상기 캐비티 공간의 모든 측방을 막아주고, 각각의 나머지 상부는 상기 제1 및 제2 캐비티 벽보다 소정 길이만큼 더 길게 연장되어 서로 마주보도록 구성된 제1 및 제2 그리핑 핑거; 상기 캐비티 공간의 상방을 완전히 덮으면서 가장자리 부분이 상기 제1 및 제2 캐비티 벽의 상단 및 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거의 하부와 상부의 경계선에 일체로 고착되는 캐비티 막; 및 마주보는 양쪽 모서리가 제1 및 제2 그리핑 핑거의 상단에 각각 고착되어 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거 사이의 상기 캐비티 막의 상부 공간을 덮도록 배치되는 그리핑 막을 구비하는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제12항에 있어서, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽을 구성하는 탄성소재는 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거를 구성하는 탄성소재에 비해 더 낮은 탄성계수를 가지고, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽은 상부가 하부보다 더 낮은 탄성계수를 갖는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제13항에 있어서, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽 각각은 2단 구조로 적층된 하부 및 상부 캐비티 벽을 포함하되, 상기 상부 캐비티 벽을 구성하는 제1 탄성소재의 탄성계수가 상기 하부 캐비티 벽을 구성하는 제2 탄성소재의 탄성계수에 비해 더 낮은 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제13항에 있어서, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽은 단일의 탄성 소재로 구성되며, 각각의 하부는 상부에 비해 더 두꺼운 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제13항에 있어서, 상기 캐비티 공간 내부의 기압이 외부의 대기압보다 낮아질 때, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽이 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거보다 더 크게 수축 변형되고, 상기 제1 및 제2 캐비티 벽의 상부가 하부보다 더 크게 수축 변형되어, 상기 제1 및 제2 그리핑 핑거의 상부가 서로 더 근접하도록 오므라들면서 상기 그리핑 막이 상기 캐비티 공간 쪽으로 함몰되어 접히도록 구성된 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제12항에 있어서, 상기 탄성 소재는 실리콘 고무, 천연 또는 합성으로 제조되는 고무, 실리콘, 탄성을 지닌 폴리머류 중에서 선택되는 적어도 어느 한 가지인 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제12항에 있어서, 상기 베이스부의 관통공에 연결되어 물체를 그리핑하기 위해 상기 캐비티 공간 내의 기압을 강하시키고, 그 물체의 그리핑 상태를 해제하기 위해 상기 캐비티 공간 내의 기압 강하를 해제할 수 있도록 구성된 진공 장치를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치
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제1항 내지 제18항 중 어느 하나의 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치를 이용하여 물체를 그리핑하는 방법으로서,그리핑 대상 물체인 원단의 에지 부분에 상기 그리핑 막의 가운데 부분을 접촉시키는 단계;공기압 조절 기능을 갖는 진공장치를 이용하여 상기 캐비티 공간의 기압을 강하시켜 상기 캐비티 공간의 상부를 수축되게 함으로써 제1 및 제2 그리핑 핑거가 오므라지면서 상기 그리핑 막이 상기 캐비티 공간 쪽으로 함몰되어 접히면서 상기 원단의 에지 부분을 끌어들이는 단계; 및상기 캐비티 공간의 기압 강하를 계속 유지하여 상기 그리핑 막이 완전히 반으로 접혀 밀착되면서 상기 원단의 에지 부분을 견고하게 엣지 리프팅 하는 방식으로 그리핑하여 원하는 위치로 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체를 그리핑하는 방법
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제1항 내지 제18항 중 어느 하나의 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치를 이용하여 물체를 그리핑하는 방법으로서,상기 그리핑 막의 전체 영역을 그리핑 대상 물체인 원단의 표면에 접촉시키는 단계;공기압 조절 기능을 갖는 진공장치를 상기 캐비티 공간의 기압을 강하시켜 상기 캐비티 공간의 상부가 수축되게 함으로써 제1 및 제2 그리핑 핑거가 오므라지면서 상기 그리핑 막이 상기 캐비티 공간 쪽으로 함몰되어 접히면서 상기 원단의 접촉 부분을 접어서 끌어들이는 단계; 및상기 캐비티 공간의 기압 강하를 계속 유지하여 상기 그리핑 막이 완전히 반으로 접혀 밀착되면서 끌어들인 접힌 원단 부분을 견고하게 핀칭하는 방식으로 그리핑하여 원하는 위치로 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체를 그리핑하는 방법
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제1항 내지 제18항 중 어느 하나의 그리핑 막 기반 물체 그리핑 장치를 이용하여 물체를 그리핑하는 방법으로서,상기 그리핑 막을 그리핑 대상 물체의 표면에 접촉시키는 단계;공기압 조절 기능을 갖는 진공장치를 상기 캐비티 공간의 기압을 강하시켜 상기 캐비티 공간의 상부가 수축되게 함으로써 제1 및 제2 그리핑 핑거가 오므라지면서 상기 그리핑 막이 상기 캐비티 공간 쪽으로 함몰되어 접히면서 상기 물체를 내부로 끌어들이는 단계; 및상기 캐비티 공간의 기압 강하를 계속 유지하는 것에 의해 상기 그리핑 막이 상기 물체의 표면과의 접촉 면적을 넓혀 견고하게 그리핑하여 원하는 위치로 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물체를 그리핑하는 방법
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