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지환족 헤테로 고리를 갖는 (메타)아크릴계 단량체, 다관능성 (메타)아크릴계 단량체, 포스페이트기를 포함하는 (메타)아크릴계 단량체 및 광개시제를 포함하는 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,상기 지환족 헤테로 고리를 갖는 (메타)아크릴계 단량체의 지환족 헤테로 고리는 탄소수 4 내지 6을 포함하고 질소, 산소 및 황으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘의 헤테로 원소를 가지는 것인, 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,상기 다관능성 (메타)아크릴계 단량체는 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 카르복시에틸 아크릴레이트, 히드록시 피발산 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트 및 트리메틸롤프로판 트리메타크릴레이트에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,상기 포스페이트기를 포함하는 (메트)아크릴계 단량체는 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트 포스페이트, 2-메타크릴로일 옥시에틸 포스페이트, 비스(2-메타크릴로일 옥시 에틸) 포스페이트, 2-아크릴로일 옥시 에틸 포스페이트, 비스(2-아크릴로일 옥시 에틸) 포스페이트, 메틸-(2-메타크릴로일 옥시 에틸) 포스페이트, 에틸 메타크릴로일 옥시 에틸 포스페이트, 메틸 아크릴로일 옥시 에틸 포스페이트 및 에틸 아크릴로일 옥시 에틸 포스페이트에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,상기 지환족 헤테로 고리를 갖는 (메타)아크릴계 단량체는 에칭 저항성 잉크 조성물 전체 중량에 대하여 30 내지 55 중량%로 포함되는 것인 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,상기 다관능성 (메타)아크릴계 단량체는 에칭 저항성 잉크 조성물 전체 중량에 대하여 30 내지 55 중량%로 포함되는 것인 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,포스페이트기를 포함하는 (메타)아크릴계 단량체는 에칭 저항성 잉크 조성물 전체 중량에 대하여 1 내지 10 중량%로 포함되는 것인 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,상기 광개시제는 에칭 저항성 잉크 조성물 전체 중량에 대하여 5 내지 15 중량%로 포함되는 것인 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항에 있어서,상기 에칭 저항성 잉크 조성물은 25 ℃에서의 점도 값이 50 mPa·s 미만인 에칭 저항성 잉크 조성물
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 에칭 저항성 잉크 조성물로부터 제조된 광경화 필름
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제10항에 있어서,상기 광경화 필름은 ASTM D 3359 규격에 따른 접착성이 5B 이상인 광경화 필름
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제10항에 있어서,상기 광경화 필름은 50 ℃, 5 % NaOH 수용액에서 박리성 테스트 결과값이 8분 이하인 광경화 필름
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동박적층필름의 동박층 상에 소정의 패턴이 형성되도록 상기 청구항 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 에칭 저항성 잉크 조성물을 도포하고, 광 조사하여 패터닝된 도포층을 형성하는 단계;상기 도포층이 형성되지 않은 구역을 에칭(etching)하는 단계; 및상기 도포층을 제거하는 단계;를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 패터닝된 도포층을 형성하는 단계에서, 광 조사 후 열경화를 더 수행하는 것인 인쇄회로기판의 제조방법
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