| 요약 |
본 발명에 따른 회전분사노즐은 제한된 공간(원통형, 사각형)의 챔버 내에서 냉각이 진행되기 때문에 개방된 공간에서 냉각을 수행할 경우에 비해서 냉각효율을 높일 수 있고, 냉각 챔버에 경사(δ)를 주어 냉각후 냉각매체(물 또는 가스)이 신속하게 배출할 수 있으며, 회전하는 분사노즐을 사용하여 발생되는 기포를 신속하게 제거하여 냉각 성능을 향상시킬 수 있다. 회전분사노즐은 냉각수의 분사위치로부터 냉각매체가 피냉각체의 표면에 중첩(d)되어 충돌하기 때문에 냉각수의 분사압력이 효과적으로 전달될 수 있고, 분사각도의 조절이 용이하고, 넓은 분사각도를 형성하기 유리하다. 또한, 고온으로 가열된 열처리 대상 물체(선재, 판재, 파이프재 등) 표면에 기포발생을 최소화하고 냉각능을 극대화할 수 있도록 분사노즐의 직경(), 분사 각도(β), 노즐 각도(γ), 자유공간의 높이(h) 및 폭(w), 노즐의 개수(n), 분무범위의 중첩 길이(d) 등을 최적화 하여 냉각성능을 향상시켜 나노석출물을 균일하게 분포시킴으로써 고전기전도 및 고강도를 동시에 충족하는 동합금을 용이하게 제조할 수 있는 냉각환경이 안정적으로 제공할 수 있는 장점이 있다.
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