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질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법에 있어서,정제수에 염화소듐을 투입시켜 상기 염화소듐을 포화시키는 단계와;상기 염화소듐이 투입된 상기 정제수에 재결정 용액을 투입시켜 상기 염화소듐을 재결정화시키는 단계와;재결정화된 상기 염화소듐을 자가 전파 연소성 물질이 용해된 탄소 전구체 용액에 투입시키는 단계와;상기 탄소 전구체 용액을 건조시켜 상기 염화소듐과 상기 자가 전파 연소성 물질의 복합체를 형성하는 단계와;상기 복합체에 열원이 인가되어 상기 자가 전파 연소성 물질이 자가 전파 연소 반응을 통해 연소되어, 상기 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체가 제조되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 탄소 전구체 용액은 알코올과 디에틸에테르의 혼합액에 니트로셀룰로오스가 용해된 콜로디온 용액을 포함하며;상기 자가 전파 연소성 물질은 상기 니트로셀룰로오스인 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제2항에 있어서,재결정화된 상기 염화소듐 500 mg을 기준으로 상기 콜로디온 용액 30g의 비율로 재결정화된 상기 염화소듐을 상기 콜로디온 용액에 투입시키는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 재결정 용액은 에탄올을 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 재결정화시키는 단계는 상기 재결정 용액을 투입한 후, 초음파를 이용한 분산 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체가 제조되는 단계는 연소 후 잔존하는 상기 염화소듐을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 염화소듐을 제거하는 단계는 정제수를 투입을 통해 상기 염화소듐을 용해시켜 제거하는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 제조 방법에 의해 제조된 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체
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제8항에 따른 질소 도핑된 다공성 탄소 구조체를 포함하는 것을 특징으로 하는 슈퍼 커패시터
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