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베이스 부재를 공급하기 위한 베이스 부재 공급부;상기 베이스 부재 공급부로부터 공급된 상기 베이스 부재에, 복수개의 제1철(凸)부 패턴 및 상기 제1철(凸)부 패턴 보다 낮은 단차를 갖는 복수개의 요(凹)부 패턴을 포함하는 제1패턴층을 형성하기 위한 롤러부; 상기 롤러부와 연속하여 위치하고, 각각의 상기 요(凹)부 패턴에 액체를 주입하여, 각각의 상기 요(凹)부 패턴에 액체층을 포함하는 제2패턴층을 형성하기 위한 액체 주입부; 상기 액체 주입부와 연속하여 위치하고, 상기 제1철(凸)부 패턴 및 상기 액체층의 상부에 수지층을 형성하기 위한 수지층 형성부; 및상기 수지층 형성부와 연속하여 위치하고, 상기 수지층을 패터닝하여, 각각의 상기 제1철(凸)부 패턴의 상부에 제2철(凸)부 패턴을 포함하는 제3패턴층을 형성하기 위한 포토리소그래피 장치부를 포함하는 패턴 제조장치
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제 1 항에 있어서,상기 제3패턴층을 포함하는 상기 베이스 부재를 회수하기 위한 회수부를 더 포함하는 패턴 제조장치
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제 1 항에 있어서,상기 액체는, 실리콘 오일, 과불화탄소 액체, 퍼플루오로불화(perfluoroFluorinated) 진공 오일, 불화 착색제, 이온성 액체, 물과 비혼화성인 불화 이온성 액체, PDMS를 포함하는 실리콘 오일, 불화 실리콘 오일로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 어느 하나 이상의 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제조장치
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패턴 제조방법에 있어서,상기 패턴 제조방법은,베이스 부재의 상부에, 복수개의 제1철(凸)부 패턴 및 상기 제1철(凸)부 패턴 보다 낮은 단차를 갖는 복수개의 요(凹)부 패턴을 포함하는 제1패턴층을 형성하는 단계;각각의 상기 요(凹)부 패턴에 액체를 주입하여, 각각의 상기 요(凹)부 패턴에 액체층을 포함하는 제2패턴층을 형성하는 단계;상기 제1철(凸)부 패턴 및 상기 액체층의 상부에 수지층을 형성하는 단계; 및상기 수지층을 패터닝하여, 각각의 상기 제1철(凸)부 패턴의 상부에 제2철(凸)부 패턴을 포함하는 제3패턴층을 형성하는 단계를 포함하는 패턴 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 패턴 제조방법에 의해 제조된 패턴은,복수개의 제1철(凸)부 패턴; 상기 제1철(凸)부 패턴 보다 낮은 단차를 갖는 복수개의 요(凹)부 패턴; 각각의 상기 제1철(凸)부 패턴의 상부에 위치하는 제2철(凸)부 패턴; 및 각각의 상기 요(凹)부 패턴에 위치하는 액체층을 포함하고, 상기 제2철(凸)부 패턴의 폭은 상기 제1철(凸)부 패턴의 폭보다 넓은 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 수지층을 패터닝하여, 각각의 상기 제1철(凸)부 패턴의 상부에 제2철(凸)부 패턴을 포함하는 제3패턴층을 형성하는 단계이후,각각의 상기 요(凹)부 패턴에 주입된 상기 액체층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 패턴 제조방법에 의해 제조된 패턴은,복수개의 제1철(凸)부 패턴; 상기 제1철(凸)부 패턴 보다 낮은 단차를 갖는 복수개의 요(凹)부 패턴; 및 각각의 상기 제1철(凸)부 패턴의 상부에 위치하는 제2철(凸)부 패턴을 포함하고, 상기 제2철(凸)부 패턴의 폭은 상기 제1철(凸)부 패턴의 폭보다 넓은 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 베이스 부재의 상부에, 복수개의 제1철(凸)부 패턴 및 상기 제1철(凸)부 패턴 보다 낮은 단차를 갖는 복수개의 요(凹)부 패턴을 포함하는 제1패턴층을 형성하는 단계는,베이스 부재를 롤러부의 메인 롤러에 공급하는 단계; 상기 메인 롤러의 요(凹)부에 수지를 공급하는 단계; 상기 수지를 가경화하는 단계; 및 상기 가경화된 수지를 상기 베이스 부재에 전사하여, 복수개의 제1철(凸)부 패턴 및 상기 제1철(凸)부 패턴 보다 낮은 단차를 갖는 복수개의 요(凹)부 패턴을 포함하는 제1패턴층을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 각각의 상기 요(凹)부 패턴에 액체를 주입하여, 각각의 상기 요(凹)부 패턴에 액체층을 포함하는 제2패턴층을 형성하는 단계는,상기 복수개의 제1철(凸)부 패턴 및 상기 제1철(凸)부 패턴 보다 낮은 단차를 갖는 복수개의 요(凹)부 패턴을 포함하는 제1패턴층의 상부에 액체를 주입하는 단계; 및 상기 복수개의 제1철(凸)부 패턴의 상면에 도포되는 액체를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 수지층의 일부 영역은 상기 복수개의 제1철(凸)부 패턴에 의해 지지되어, 상기 복수개의 제1철(凸)부 패턴의 상부에 형성되고, 또한, 상기 수지층의 다른 일부 영역은, 상기 액체층과 상기 수지층의 밀도 차이에 의해, 상기 수지층의 다른 일부 영역이 상기 액체층의 상부에 플로팅(floating)된 상태로 지지됨으로써, 상기 액체층의 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 수지층을 패터닝하여, 각각의 상기 제1철(凸)부 패턴의 상부에 제2철(凸)부 패턴을 포함하는 제3패턴층을 형성하는 단계는, 투과영역 및 차단영역을 포함하는 마스크를 통해 상기 수지층에 광을 조사하는 노광 단계; 및 상기 노광 단계에 의해 광이 조사된 영역을 제거하거나, 또는, 상기 노광 단계에 의해 광이 조사되지 않은 영역을 제거하는 현상단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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제 5 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 제2철(凸)부 패턴은 상기 수지층이 패터닝된 수지층 패턴인 것을 특징으로 하는 패턴 제조방법
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