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MEMS 광 스위치를 활용하는 광 위상 배열 칩 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022013834
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 광 위상 배열 칩 및 그 제조 방법 개시된다. 일 실시예에 따르면, 광 위상 배열 칩은, 상기 광 위상 배열 칩은, 단일 집적 회로-상기 단일 집적 회로는, 실리콘 기판; 상기 실리콘 기판의 상부에 형성되는 하부층; 상기 하부층의 상부에 형성되는 실리콘층; 상기 실리콘층의 상부에 순차적으로 배치되는 제1 상부층, 제2 상부층 및 제3 상부층; 상기 실리콘층에 접지된 채 상기 제1 상부층을 관통하며 상기 제1 상부층의 상부에 형성되는 전극을 포함함- 상에 구현되는 복수의 광 스위치들 및 복수의 광 위상 배열들을 포함하는 것을 특징으로 한다
Int. CL G02B 6/12 (2022.01.01) G02B 6/122 (2006.01.01)
CPC G02B 6/12033(2013.01) G02B 6/122(2013.01) G02B 2006/12145(2013.01) G02B 2006/12061(2013.01) G02B 2006/12166(2013.01)
출원번호/일자 1020210007201 (2021.01.19)
출원인 한국과학기술원, 광주과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0104875 (2022.07.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.01.19)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박효훈 대전광역시 유성구
2 유종범 대전광역시 유성구
3 유동은 대전광역시 유성구
4 이주범 대전광역시 유성구
5 김인기 광주광역시 북구
6 석태준 광주광역시 북구
7 강금봉 대전광역시 유성구
8 윤현호 대전광역시 유성구
9 권남현 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2021-0067961-62
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번호 청구항
1 1
광 위상 배열 칩에 있어서, 상기 광 위상 배열 칩은, 단일 집적 회로-상기 단일 집적 회로는, 실리콘 기판; 상기 실리콘 기판의 상부에 형성되는 하부층; 상기 하부층의 상부에 형성되는 실리콘층; 상기 실리콘층의 상부에 순차적으로 배치되는 제1 상부층, 제2 상부층 및 제3 상부층; 상기 실리콘층에 접지된 채 상기 제1 상부층을 관통하며 상기 제1 상부층의 상부에 형성되는 전극을 포함함- 상에 구현되는 복수의 광 스위치들 및 복수의 광 위상 배열들을 포함하는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
2 2
제1항에 있어서,상기 복수의 광 스위치들은, 입력되는 광파가 진행되는 버스 도파로로 직렬 연결되고, 상기 복수의 광 스위치들 각각은, MEMS 액츄에이터; 상기 MEMS 액츄에이터에 의해 구동되는 결합 도파로; 및 상기 결합 도파로가 구동됨에 응답하여 상기 복수의 광 위상 배열들 각각으로 상기 광파를 전달하는 분기 도파로를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
3 3
제2항에 있어서,상기 버스 도파로 및 상기 복수의 광 스위치들 각각에 포함되는 상기 결합 도파로 및 상기 분기 도파로는, 상기 제1 상부층, 상기 제2 상부층 및 상기 제3 상부층이 식각된 제1 개구 내 상기 실리콘층 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
4 4
제2항에 있어서,상기 결합 도파로는 상기 MEMS 액츄에이터에 의해 상기 버스 도파로 및 상기 분기 도파로에 근접함에 따라, 제1 광 결합을 통해 상기 버스 도파로에 진행되는 광파를 상기 결합 도파로로 전달하고, 제2 광 결합을 통해 상기 결합 도파로에 전달된 광파를 상기 복수의 광 위상 배열들 각각으로 전달하는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
5 5
제1항 있어서,상기 복수의 광 위상 배열들 각각은, 상기 복수의 광 스위치들 각각으로부터 전달되는 광파를 분기시키는 광 분배기; 상기 광 분배기에 의해 분기된 광파들을 각각 입력 받아 위상을 제어하는 복수의 위상 제어기 배열들; 상기 복수의 위상 제어기들로부터 출력되는 광파들을 복수의 광학 안테나 배열들로 전달하는 연결부; 및 상기 연결부에 의해 전달되는 상기 광파들을 기 설정된 종방향 조향범위에 따라 발산하는 복수의 광학 안테나 배열들을 포함하는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
6 6
제5항 있어서,상기 복수의 위상 제어기 배열들 각각은, 상기 제1 상부층, 상기 제2 상부층 및 상기 제3 상부층이 식각된 제2 개구 내 상기 실리콘층 상에 형성되는 립 도파로 및 저항선; 상기 제2 상부층 및 상기 제3 상부층이 식각된 제3 개구 내 상기 제1 상부층의 상부에 형성되는 상기 전극; 및 상기 전극 및 상기 저항선을 연결하도록 상기 실리콘층 상에 형성되는 접지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
7 7
제6항 있어서,상기 전극의 너비 및 상기 제3 개구에서 상기 제2 상부층이 식각된 너비는, 상기 전극의 접지를 위해 상기 제3 개구에서 상기 제3 상부층이 식각된 너비보다 넓은 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
8 8
제6항에 있어서,상기 복수의 위상 제어기 배열들 각각은, 상기 복수의 위상 제어기 배열들 각각의 열적 격리를 위하여, 상기 립 도파로 및 상기 저항선이 상기 제2 개구 내에 매립되는 저항 매립형 위상 제어 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
9 9
제4항 있어서,상기 복수의 광학 안테나 배열들 각각은, 상기 실리콘층 상에 형성되는 격자 홈으로 구성되는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
10 10
제4항 있어서,상기 복수의 광학 안테나 배열들은, 상기 복수의 위상 제어기 배열들 간의 위상 관계에 따라 상기 광파들이 형성하는 발산 빔의 횡방향성을 조절하는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
11 11
제1항 있어서,상기 제3 상부층은, 상기 복수의 광 스위치들이 형성되는 제1 개구, 상기 복수의 광 위상 배열들이 형성되는 제2 개구 및 제3 개구가 식각되는 공정에서, 상기 단일 집적 회로 상 상기 제1 개구, 상기 제2 개구 및 상기 제3 개구를 제외한 나머지 영역들을 보호하는 보호층으로 사용되는 것을 특징으로 하는 광 위상 배열 칩
12 12
광 위상 배열 칩의 제조 방법에 있어서, 실리콘 기판, 상기 실리콘 기판의 상부에 형성되는 하부층 및 상기 하부층의 상부에 형성되는 실리콘층을 포함하는 반도체 구조체를 준비하는 단계; 상기 실리콘층 상에 버스 도파로, 결합 도파로, 분기 도파로, 립 도파로 및 격자 홈을 형성하는 단계; 상기 실리콘층 상의 슬랩 영역에 이온 주입 공정을 통해 저항선 및 접지부를 형성하는 단계; 상기 실리콘층의 상부에 제1 상부층을 배치하는 단계; 상기 제1 상부층 중 상기 접지부에 대응하는 영역에 비아 홀(Via hole)을 식각하는 단계; 상기 비아 홀에 도전성 물질을 증착하여 전극을 형성하는 단계; 상기 전극이 형성된 제1 상부층의 상부에 제2 상부층 및 제3 상부층을 순차적으로 배치하는 단계; 상기 제3 상부층, 상기 제2 상부층 및 상기 제1 상부층 중 상기 버스 도파로, 상기 결합 도파로 및 상기 분기 도파로에 대응하는 영역을 식각하여 제1 개구를 형성함으로써 상기 버스 도파로, 상기 결합 도파로 및 상기 분기 도파로를 각각 포함하는 복수의 광 스위치들을 구현하는 단계; 및 상기 제3 상부층, 상기 제2 상부층 및 상기 제1 상부층 중 상기 립 도파로 및 상기 저항선에 대응하는 영역을 식각하여 제2 개구를 형성하고, 상기 제2 상부층 및 상기 제3 상부층 중 상기 전극 및 상기 접지부에 대응하는 영역을 식각하여 제3 개구를 형성함으로써, 상기 립 도파로, 상기 저항선, 상기 전극 및 상기 접지부를 각각 포함하는 복수의 위상 제어기 배열들을 구성하고 상기 격자 홈을 각각 포함하는 복수의 광학 안테나 배열들을 구성하여 상기 복수의 위상 제어기 배열들 및 상기 복수의 광학 안테나 배열들을 각각 포함하는 복수의 광 위상 배열들을 구현하는 단계를 포함하는 광 위상 배열 칩의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 원천기술개발사업 실리콘 위상배열 기반 스마트 3D 영상센서 개발(2019)