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하부 전극층 상에 위치하는 유체 박막의 상부에 돌출부(protrusion)와 비돌출부(non-protrusion)를 포함하는 마스터 패턴이 형성된 상부 전극을 상기 유체 박막의 표면으로부터 제1 간격만큼 이격되게 배치하는 제1 단계 및 상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 전압을 인가하는 제2 단계를 포함하고,하기의 식 1로부터 도출되는 고유파장(λm)은 상기 돌출부의 주기(λp)는 보다 작은 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법:003c#식 1003e#상기 식1에서, λm은 고유파장이고, γ는 유체 박막의 표면장력, εr는 유체 박막의 유전율, ε0는 진공 유전율, U는 인가되는 전압의 세기, h는 유체 박막의 두께, d는 양 전극 사이의 거리이다
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제1항에 있어서,상기 상부 전극의 돌출부(protrusion)와 마주보는 유체 박막의 표면에 제1 패턴이 형성되고,상기 상부 전극의 비돌출부(non-protrusion)와 마주보는 상기 유체박막의 표면에 제2 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 제1 간격은 2㎛ 내지 10㎛인 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 유체 박막과 상기 돌출부 사이의 거리는 1 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 돌출부의 종횡비(aspect ratio)는 0
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제1항에 있어서,상기 유체 박막은 뉴턴 유체(Newtonian fluid)인 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 단계는 상기 유체 박막이 고분자 물질일 경우, 유리전이온도 이상에서 수행되는 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 유체 박막의 두께는 300 내지 1000nm 인 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 전압은 50 내지 200 V 인 것을 특징으로 하는,미세 구조체의 형성방법
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