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나노구조를 갖는 기재;상기 기재의 적어도 일 면상에 배치된 입자층; 및 윤활유체를 포함하는 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 다공성 복합구조체는 중간층(interlayer)을 더 포함하며, 상기 중간층은 기재의 적어도 일 면상에 배치되며, 상기 중간층의 적어도 일면상에 입자층이 배치된, 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 기재 및 입자층은 재진입 구조(re-entrant structure)를 형성하는 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 다공성 복합구조체가 SLIPS(slippery liquid infused porous surface)을 포함하는 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 다공성 복합구조체는 윤활유체에 대한 친화성을 갖는 물질을 더 포함하는 다공성 복합구조체
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제5항에 있어서, 상기 윤활유체에 대한 친화성을 갖는 물질이 입자층에 화학적으로 결합된, 다공성 복합구조체
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제5항에 있어서, 상기 윤활유제에 친화성을 갖는 물질이 불소화된 실란인 다공성 복합구조체
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제7항에 있어서, 상기 불소화된 실란이 트리클로로(1H, 1H, 2H, 2H-퍼플루오로옥틸)실란, 1H, 1H, 2H, 2H -퍼플루오로데실트리에톡실란, 또는 그 조합인 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 기재가 나노로드, 나노리본, 나노튜브, 나노블래이드, 나노플레이트, 규칙적 기공 또는 랜덤 기공을 갖는 템플레이트, 또는 그 조합인 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 기재는 베이스층 및 상기 베이층으로부터 돌출 형성되는 복수의 기둥부를 포함하고, 상기 베이스층 및 기둥부는 동일한 재질로 구성되며, 상기 기둥부는 나노로드, 나로리본, 나노튜브, 나노블래이드(nanoblade), 나노플레이트(nanoplate) 또는 그 조합인 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 입자층은 무기입자, 유기입자 또는 그 조합인 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 입자층은 무기입자층이며, 상기 무기입자층은 SiO2, Al2O3, TiO2, ZnO2, WO3, SnO2, ZrO, ITO
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제1항에 있어서, 상기 기재의 적어도 일 면상에 중간층이 배치되며, 상기 중간층의 적어도 일 면에 입자층이 형성되며, 상기 중간층과 입자층은 정전기적 인력으로 결합된, 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 입자층은 실리카층이며,상기 실리카층은 복수층이며, 양전하로 대전된 실리카층과 음전하로 대전된 실리카층을 포함하는 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 기재는 금속, 금속 산화물, 금속 수산화물, 고분자, 글래스, 세라믹, 또는 그 조합을 포함하는 다공성 복합구조체
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제1항에 있어서, 상기 다공성 복합구조체의 물 및 유기용매에 대한 접촉각은 170° 이상이고, 미끄러짐각이 10° 이하인 다공성 복합구조체
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제2항에 있어서, 상기 중간층은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물의 가수분해, 탈수 및 축합 반응물을 포함하는 다공성 복합구조체:003c#화학식 1003e#화학식 1 중, R1은 C1-C20 알킬렌기, 또는 C6-C20 아릴렌기이고, R2는 수소, C1-C20 알킬기, C6-C20 아릴기, 또는 Cl이다
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제17항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 (3-아미노프로필)트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노운데실트리메톡시실란, 아미노페닐트리메톡시실란, 비스(트리메톡시릴릴프로필)아민, N-(2-아미노에틸아미노프로필)트리메톡시실란 또는 그 조합인 다공성 복합구조체
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나노구조를 갖는 기재 상에 입자층을 형성하여 제1구조체를 형성하는 단계; 및 상기 제1구조체 상부에 윤활유체를 제공하는 단계를 포함하는 다공성 복합구조체의 제조방법
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제19항에 있어서, 상기 나노기재를 갖는 기재상에 입자층을 형성하여 제1구조체를 형성하는 단계를 실시하기 이전에, 나노구조를 갖는 기재상에 중간층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 다공성 복합구조체의 제조방법
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제20항에 있어서, 상기 중간층을 형성하는 단계가,기재 상에 하기 화학식 1의 화합물을 코팅하는 공정인 다공성 복합구조체의 제조방법:003c#화학식 1003e#화학식 1 중, R1은 C1-C20 알킬렌기, 또는 C6-C20 아릴렌기이고, R2는 수소, C1-C20 알킬기, C6-C20 아릴기, 또는 Cl이다
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제21항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 (3-아미노프로필)트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노운데실트리메톡시실란, 아미노페닐트리메톡시실란, 비스(트리메톡시릴릴프로필)아민, N-(2-아미노에틸아미노프로필)트리메톡시실란 또는 그 조합인 다공성 복합구조체의 제조방법
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제19항에 있어서, 상기 나노기재를 갖는 기재상에 입자층을 형성하여 제1구조체를 형성하는 단계를 실시하기 이전에, 나노구조를 갖는 기재상에 중간층을 형성하는 단계를 더 포함하며,상기 중간층 상부에 입자층을 형성하여 제1구조체를 형성하는 단계가, 상기 중간층 상부에 음전하를 갖는 무기입자 및 양전하를 갖는 무기입자와 반복적으로 접촉하여 제조되는 다공성 복합구조체의 제조방법
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제23항에 있어서, 상기 음전하를 갖는 무기입자가 음전하를 갖는 콜로이달 실리카이며, 상기 양전하를 갖는 무기입자가 양전하를 갖는 콜로이달 실리카인 다공성 복합구조체의 제조방법
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제19항에 있어서, 상기 제1구조체 상부에 윤활유체를 제공하는 단계를 실시하기 이전에, 제1구조체 상부에 윤활유체에 대한 친화성을 갖는 물질을 제공하는 단계를 더 포함하는 다공성 복합구조체의 제조방법
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제25항에 있어서, 상기 윤활유체에 대한 친화성을 갖는 물질을 제공하는 단계가 불소화된 실란을 코팅하는 단계인, 다공성 복합구조체의 제조방법
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제26항에 있어서, 상기 불소화된 실란이 트리클로로(1H, 1H, 2H, 2H-퍼플루오로옥틸)실란, 1H, 1H, 2H, 2H -퍼플루오로데실트리에톡실란, 또는 그 조합인 다공성 복합구조체의 제조방법
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제19항에 있어서, 상기 제조방법이 산소 플라즈마 처리를 실시하는 단계를 더 포함하는 다공성 복합구조체의 제조방법
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제19항에 있어서, 상기 나노구조를 갖는 기재는, 기재의 불순물 및 자연 산화물막을 제거하는 공정을 거친 후, 나노구조를 형성하기 위한 에칭공정을 실시하여 제조되는, 다공성 복합구조체의 제조방법
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제1항 내지 제18항 중 어느 한 항의 다공성 복합구조체를 함유한 물품
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제1항 내지 제18항 중 어느 한 항의 다공성 복합구조체를 함유한 공기정화장치
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제31항에 있어서, 상기 공기정화장치가 미세 먼지를 포함하는 공기가 흐르는 덕트; 상기 덕트 내에 물을 분사하여 기-액 혼합 유체를 형성하며, 공기 중의 미세 먼지를 포집하는 액적 분사부; 상기 기-액 혼합 유체가 통과되는 미세유로를 형성하며 상기 미세 먼지를 포함하는 액적을 포집하는 다공성 부재를 구비하는 집진부;를 포함하며, 상기 다공성 부재가 나노구조를 갖는 기재; 상기 기재의 적어도 일 면상에 배치된 입자층; 및 윤활유체를 포함하는 다공성 복합구조체
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제31항에 있어서, 상기 공기정화장치가 집진부에 방전 플라즈마를 발생시키는 방전 플라즈마 발생 장치를 더 구비하는 공기정화장치
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제31항에 있어서, 상기 공기정화장치가 집진부로부터 배출되는 오존을 촉매를 이용하여 제거할 수 있는 촉매 반응기를 더 구비하는, 공기정화장치
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