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공간광변조기를 이용한 3차원 구조 제조장치 및 3차원 구조 제조방법

  • 기술번호 : KST2023003264
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 3차원 구조 제조장치에 관한 것으로, 공간 광변조기(SLM); 및 상기 공간 광변조기로부터 조사되는 공간 광변조된 광이 투과하는 위치에 배치된 위상마스크를 포함하는 3차원 구조 제조장치가 제공된다. 본 발명의 3차원 구조 제조장치는 공간광변조기를 통과하는 입사광의 공간적, 시간적 분포 조절을 통해 종래의 기술로는 불가능한 고해상도 구조 제작을 달성 할 수 있다. 또한 별도의 추가적인 위상마스크 제조 없이 새로운 구조를 제조할 수 있어, 공정비용 절감 및 생산수율 향상이 가능하다.
Int. CL G03F 7/20 (2006.01.01)
CPC G03F 7/70116(2013.01) G03F 7/2014(2013.01)
출원번호/일자 1020210176783 (2021.12.10)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0088009 (2023.06.19) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.12.10)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신종화 대전광역시 유성구
2 전석우 대전광역시 유성구
3 김명준 대전광역시 유성구
4 김나영 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 노경규 대한민국 서울시 서초구 반포대로**길 ** 매강빌딩 *층(에이치앤에이치국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2021-1435707-93
2 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2021.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2021-1451064-19
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2023-5023571-05
4 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.05.04 수리 (Accepted) 4-1-2023-5110236-33
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번호 청구항
1 1
공간 광변조기(SLM); 및상기 공간광변조기로부터 조사되는 공간 광변조된 광이 투과하는 위치에 배치된 위상마스크;를 포함하는 3차원 구조 제조장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 위상마스크는 고굴절률 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조 제조장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 고굴절률 물질은 PDMS(Polydimethylsiloxane), PFPE(Perfluoropolyether), PUA(Polyurethane acrylate), PMMA(Polymethyl metacerylate), Al2O3, Si 및 TiO2 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 3차원 구조 제조장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 위상마스크는 광 경로상 상기 공간 광변조기 이후에 밀접하게 위치하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조 제조장치
5 5
(a) 위상마스크 상에 포토레지스트를 배치하는 단계; 및 (b) 상기 위상마스크에 공간 광변조된 광을 조사하여, 상기 위상마스크를 투과한 광을 상기 포토레지스트에 노광하는 단계;를 포함하는 3차원 구조 제조방법
6 6
제5항에 있어서, 단계 (a)에서,상기 위상마스크와 상기 포토레지스트는 접촉 배치된 것을 특징으로 하는 3차원 구조 제조방법
7 7
제5항에 있어서, 단계 (b) 이후에, 노광된 상기 포토레지스트를 베이킹 및 현상하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조 제조방법
8 8
제5항에 있어서, 단계 (b)에서,상기 공간 광 변조된 광은 공간광변조기로부터 진폭 및 위상을 조절하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조 제조방법
9 9
제5항에 있어서, 단계 (b)는,상기 공간 광 변조된 광은 시간에 따라 공간광변조기로부터 진폭 및 위상을 조절하는 단계; 및/또는 시간에 따라 빛을 중첩하여 노광하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조 제조방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 미래소재디스커버리지원(R&D) 푸리에 역계산을 활용한 소재 형상 제어 및 광학 소자 개발