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하이드록시기(-OH)를 포함하는 고분자 파우더를 준비하는 단계; 및폴리테트라플루오로에틸렌에 상기 고분자 파우더를 혼합하여 제1 혼합물을 제조하는 단계;를 포함하는 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 파우더는 30 ~ 60 Hz 진동에서 1 ~ 10 분 동안 분쇄된 것인 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 파우더는 수평균 분자량(Mn)이 10,000 ~ 1,000,000 g/mol 인 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 파우더는 중량평균 분자량(Mw)이 10,000 ~ 10,000,000 g/mol 인 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 파우더는 상기 하이드록시기(-OH)를 10 중량% 이하로 포함하는 것인 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 파우더는 폴리에틸렌글라이콜(PEG), 폴리바이닐아세테이트(PVA), 폴리아크릴릭애씨드(PAA), 카르복시메틸셀룰로오스(CMC), 폴리아클릭애씨드(PAA)-카르복시메틸셀룰로오스(CMC) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 혼합물을 제조하는 단계는 1500 ~ 2500rpm으로 10 ~ 30 분 동안 혼합하는 것인 전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 혼합물은 상기 폴리테트라플루오로에틸렌 40 ~ 60중량% 및 상기 고분자 파우더 40 ~ 60중량%를 포함하는 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 건식 바인더는 용제를 사용하지 않는 것인 전극용 건식 바인더의 제조방법
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하이드록시기(-OH)를 포함하는 고분자 파우더를 준비하는 단계; 폴리테트라플루오로에틸렌에 상기 고분자 파우더를 혼합하여 제1 혼합물을 제조하는 단계;활물질 및 도전재를 혼합하여 제2 혼합물을 제조하는 단계;제2 혼합물에 상기 제1 혼합물을 혼합하여 점토화하는 단계;표면처리된 집전체 상에 상기 점토화된 결과물을 도포하는 단계; 및 상기 점토화된 결과물을 압연하여 전극을 제조하는 단계;를 포함하는 건식 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 고분자 파우더는 폴리에틸렌글라이콜(PEG), 폴리바이닐아세테이트(PVA), 폴리아크릴릭애씨드(PAA), 카르복시메틸셀룰로오스(CMC), 폴리아클릭애씨드(PAA)-카르복시메틸셀룰로오스(CMC) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하며,상기 제1 혼합물은 상기 폴리테트라플루오로에틸렌 40 ~ 60중량% 및 상기 고분자 파우더 40 ~ 60중량%를 포함하는 전극용 건식 바인더의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 제2 혼합물을 제조하는 단계는 1500 ~ 2500rpm으로 10 ~ 30 분 동안 혼합하는 것인 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 도전재는 슈퍼피(Super P)를 포함하며,상기 활물질은 흑연을 포함하는 건식 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 점토화하는 단계는 1500 ~ 2500rpm으로 1 ~ 10 분 동안 혼합하여 점토화하는 것인 건식 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 점토화된 결과물은 상기 건식 바인더 1 ~ 5 중량%, 상기 활물질 92 ~ 98 중량% 및 도전재 1 ~ 3 중량%를 포함하는 건식 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 표면처리는 상기 집전체 표면에 10 ~ 30 μm 두께로 카본을 코팅한 것인 건식 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 집전체는 구리(Cu), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 철(Fe), 크롬(Cr), 스테인리스 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 건식 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 압연하는 단계는 10~ 30℃ 온도에서 1 ~ 5 cm/s의 속도로 롤 프레싱하는 것인 건식 전극의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 전극은 용제를 사용하지 않는 것인 건식 전극의 제조방법
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