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중공사 분리막을 포함하는 반응부;상기 중공사 분리막의 중공 내에 이산화탄소를 포함하는 연도 가스를 제공하는 기체 제공부;상기 중공사 분리막의 외면을 둘러싸는 공간에 해수 담수화 공정에서 생성된 브라인을 제공하는 액체 제공부; 및상기 반응부를 통과한 브라인으로부터 탄산염을 분리하는 탄산염 분리부를 포함하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제1항에 있어서, 상기 반응부에 전달되기 전에 상기 브라인을 저장하는 액체 저장부를 더 포함하며, 상기 액체 저장부는 상기 브라인의 pH를 10 내지 14로 조절하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제2항에 있어서, 상기 탄산염 분리부에서 탄산염과 분리된 브라인이 전달되는 용액 배출부를 더 포함하며, 상기 용액 배출부는 상기 탄산염과 분리된 브라인의 이온 농도가 미리 설정된 배출 허용 범위 내인 경우, 상기 브라인을 배출하고, 상기 배출 허용 범위를 벗어나는 경우, 상기 브라인을 상기 액체 저장부로 보내는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제1항에 있어서, 상기 반응부를 통과한 연도 가스가 전달되는 기체 배출부를 더 포함하며, 상기 기체 배출부는 상기 반응부를 통과한 연도 가스의 이산화탄소 농도가 미리 설정된 배출 허용 범위인 경우, 상기 연도 가스를 배출하고, 상기 배출 허용 범위를 벗어나는 경우, 상기 연도 가스를 상기 기체 제공부로 보내는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제1항에 있어서, 상기 중공사 분리막은 기공 내부로 물의 침투를 허용하지 않도록 소수성을 가지며, 물접촉각은 80˚내지 120˚인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제5항에 있어서, 상기 중공사 분리막은 폴리비닐리덴 플루오라이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제6항에 있어서, 상기 중공사 분리막은 플루오로실란 또는 클로로실란으로 표면 처리되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제1항에 있어서, 상기 중공사 분리막은 고밀도층 및 상기 고밀도층보다 작은 밀도를 갖는 저밀도층을 포함하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제8항에 있어서, 상기 고밀도층은 상기 중공사 분리막의 중공에 인접하고, 상기 저밀도층은 상기 중공사 분리막의 외면에 인접하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제8항에 있어서, 상기 저밀도층은 상기 중공사 분리막의 직경 방향으로 연장되는 핑거 형상을 갖는 제1 기공을 포함하며, 상기 고밀도층은 상기 제1 기공 보다 작은 제2 기공을 포함하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제8항에 있어서, 상기 저밀도층은 상기 제1 기공 보다 작고 상기 제2 기공 보다 큰 제3 기공을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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제11항에 있어서, 상기 제1 기공은 평균적으로, 10㎛ 이상의 폭과 50㎛ 이상의 길이를 가지며, 상기 제2 기공은 평균적으로, 0
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제8항에 있어서, 상기 중공사 분리막의 전체 두께에 대한 상기 고밀도층의 두께 비율은 0
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제1항에 있어서, 상기 중공사 분리막의 기공도는 80% 이상인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 광물화 시스템
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