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EUV 광을 생성하는 광 생성부;상기 광 생성부로부터 상기 EUV 광을 제공받아 제1 EUV 광 및 제2 EUV 광으로 분리시키는 스플리터; 펠리클(pellicle)을 투과한 후, 대상체에서 반사되고, 상기 펠리클을 재투과한 상기 제1 EUV 광의 세기와 상기 펠리클 없이 상기 대상체에서 바로 반사된 상기 제1 EUV 광의 세기를 측정하여, 상기 펠리클의 반사도 및 투과도와 상기 대상체의 반사도를 검출하는 광학 특성 평가부; 및마스크로부터 반사 및 회절된 상기 제2 EUV 광을 대물 렌즈를 통해 집속한 후 집속된 상기 제2 EUV 광을 수집하여 공간 영역 이미지를 획득함으로써, 상기 마스크의 이미징 성능을 검사하는 이미징 검사부를 포함하는 EUV 노광공정용 종합 검사 장치
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제1 항에 있어서, 상기 대상체는 다층 박막 거울을 포함하는 제1 샘플을 포함하되, 상기 광학 특성 평가부는, 펠리클을 투과한 후, 상기 제1 샘플에서 반사되고, 상기 펠리클을 재투과한 상기 제1 EUV 광의 세기와 상기 펠리클 없이 상기 제1 샘플에서 바로 반사된 상기 제1 EUV 광의 세기를 측정하여, 상기 펠리클의 투과도를 검출하는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 종합 검사 장치
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제2 항에 있어서, 상기 대상체는 EUV를 흡수하는 소재를 포함하는 제2 샘플을 더 포함하되,상기 광학 특성 평가부는, 펠리클을 투과한 후, 상기 제2 샘플에서 반사되고, 상기 펠리클을 재투과한 상기 제1 EUV 광의 세기와 상기 펠리클 없이 상기 제1 샘플에서 바로 반사된 상기 제1 EUV 광의 세기를 측정하여, 상기 펠리클의 반사도를 검출하는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 종합 검사 장치
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제2 항에 있어서, 상기 대상체는 EUV 공정에서 사용되는 소재를 포함하는 제3 샘플을 더 포함하되, 상기 광학 특성 평가부는, 상기 펠리클 없이 상기 제1 샘플에서 바로 반사된 상기 제1 EUV 광의 세기와 상기 펠리클 없이 상기 제3 샘플에서 바로 반사된 상기 제1 EUV 광의 세기를 측정하여, 상기 제3 샘플의 반사도를 검출하는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 종합 검사 장치
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제1 항에 있어서, 상기 이미징 검사부는, 상기 대물 렌즈로부터 상기 마스크까지의 거리를 센싱하는 거리 센서; 상기 거리 측정 센서를 통해 측정된 거리를 이용하여 상기 대물 렌즈의 기울기를 확인하는 제어부; 및 상기 대물 렌즈의 위치를 제어하는 틸팅 모듈을 포함하되, 상기 틸팅 모듈은, 상기 마스크로부터 회절된 상기 제2 EUV 광의 회절광 중 0차 회절광이 상기 대물 렌즈의 중앙부를 통과하도록, 상기 대물 렌즈의 위치를 제어하는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 종합 검사 장치
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제5 항에 있어서, 상기 이미징 검사부는, 상기 스플리터로부터 제공된 상기 제2 EUV 광을 집속하는 제1 거울, 및 상기 제1 거울을 통해 집속된 상기 제2 EUV 광이 상기 대물 렌즈로 조사되도록 상기 제2 EUV 광의 경로를 변경시키는 제2 거울을 더 포함하는 EUV 노광공정용 종합 검사 장치
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제1 항에 있어서, 상기 스플리터는 상기 광 생성부로부터 제공된 상기 EUV 광의 일부를 반사시키고, 나머지 일부를 투과시키되, 상기 스플리터에서 반사된 상기 EUV 광은 상기 제1 EUV 광으로 정의되고, 상기 스플리터를 투과한 상기 EUV 광은 상기 제2 EUV 광으로 정의되는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 종합 검사 장치
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EUV 광을 제공하는 광원;다층 박막 거울을 포함하는 제1 샘플, EUV를 흡수하는 소재를 포함하는 제2 샘플, 및 EUV 공정에서 사용되는 소재를 포함하는 제3 샘플을 포함하고, 상기 광원으로부터 제공된 상기 EUV 광이 조사되는 대상체;상기 대상체와 마주보도록 상기 대상체와 이격되어 배치되는 펠리클(pellicle); 상기 펠리클을 투과한 후, 상기 대상체에서 반사되고, 상기 펠리클을 재투과한 상기 EUV 광의 세기와 상기 펠리클 없이 상기 대상체에서 바로 반사된 상기 EUV 광의 세기를 측정하는 검출기; 및 상기 검출기를 통해 검출된 상기 EUV 광의 세기를 통해 상기 펠리클의 반사도 및 투과도와 상기 대상체의 반사도를 검출하는 연산부를 포함하는 EUV 노광공정용 광학 특성 검사 장치
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제8 항에 있어서, 상기 연산부는, 아래의 003c#수학식 1003e#을 통해 상기 펠리클의 투과도를 검출하는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 광학 특성 검사 장치
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제8 항에 있어서, 상기 연산부는, 아래의 003c#수학식 2003e#를 통해 상기 펠리클의 반사도를 검출하는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 광학 특성 검사 장치
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제8 항에 있어서, 상기 연산부는, 아래의 003c#수학식 3003e#을 통해 상기 제3 샘플의 반사도를 검출하는 것을 포함하는 EUV 노광공정용 광학 특성 검사 장치
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원주 방향을 따라 서로 이격되도록 배치되는 제1 내지 제3 구동 모듈; 상기 제1 내지 제3 구동 모듈 각각의 일단과 결합되어 상기 제1 내지 제3 구동 모듈을 지지하고, 원판 형상을 갖는 제1 플레이트; 상기 제1 내지 제3 구동 모듈 각각의 타단과 결합되어 상기 제1 내지 제3 구동 모듈에 의해 움직임이 변화되고, 원판 형상을 갖는 제2 플레이트; 및상기 제2 플레이트와 결합되어 상기 제2 플레이트에 의해 움직임이 변화되고, 대물 렌즈가 안착되는 렌즈 홀더를 포함하되, 상기 제2 플레이트 및 상기 렌즈 홀더는, 상기 제1 내지 제3 구동 모듈에 의해 상기 제2 플레이트의 원주 방향을 따라 회전되거나 기울기가 변화되며, 상기 렌즈 홀더의 움직임 변화에 의해 상기 렌즈 홀더에 안착된 상기 대물 렌즈의 위치가 변경되어, 상기 대물 렌즈를 통해 집속되는 EUV 광의 얼라인먼트가 제어되는 것을 포함하는 대물 렌즈 틸팅 장치
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제12 항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 구동 모듈은 각각, 상기 제1 플레이트의 상부면과 평행한 제1 방향으로 직선왕복운동을 하는 하단 슬라이드; 상기 하단 슬라이드 상에 배치되고, 상기 제1 플레이트의 상부면과 평행하되 상기 제1 방향과 직각 방향인 제2 방향으로 직선왕복운동을 하는 중단 슬라이드; 및 상기 중단 슬라이드 상에 배치되고, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 수직 방향인 제3 방향에 대해 기울어진 제4 방향으로 직선왕복운동을 하는 상단 슬라이드를 포함하는 대물 렌즈 틸팅 장치
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제12 항에 있어서, 상기 대물 렌즈와 EUV 광을 반사시키는 마스크까지의 거리를 센싱하는 거리 센서를 더 포함하되, 상기 거리 센서를 통해 측정된 거리를 이용하여 상기 대물 렌즈의 기울기를 확인하고, 상기 마스크로부터 회절된 상기 EUV 광의 회절광 중 0차 회절광이 상기 대물 렌즈의 중앙부를 통과하도록, 상기 제1 내지 제3 구동 모듈이 제어되는 것을 포함하는 대물 렌즈 틸팅 장치
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